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1、cndq5103.2系列制氫裝置安裝使用說(shuō)明書(微機(jī)控制)中國(guó)船舶重工集團(tuán)公司第七一八研究所2010年2月目 錄第一章 概述 1 cndq5103.2系列電解制氫裝置工作原理1 2 cndq5103.2系列水電解制氫裝置用途與技術(shù)參數(shù)1 3 cndq5103.2系列水電解制氫裝置組成3 4 cndq5103.2系列水電解制氫裝置工藝流程3第二章 安裝 1 制氫站9 2 工藝部分9 3 自控部分10 4 整流部分11第三章 操作規(guī)程 1 工藝系統(tǒng)開車前的準(zhǔn)備12 2 自控開車前的準(zhǔn)備15 3 裝置運(yùn)行16第四章 設(shè)備維護(hù)安全事項(xiàng)與故障排除 1 設(shè)備維護(hù)19 2 安全注意事項(xiàng)20 3 故障及排除方
2、法20附錄一 koh水溶液比重表24附錄二 用戶自備件清單25第一章 概述1 . cndq5103.2系列制氫裝置工作原理 水電解制氫裝置的基本工作原理就是利用電能使特定的電解質(zhì)溶液分解從而得到所需的氫氣,即在電解液中浸沒一對(duì)電極,電極中間隔以防止氣體滲透的隔膜構(gòu)成水電解池,當(dāng)電極通過(guò)一定電壓的直流電時(shí),水就發(fā)生分解,在陰極析出氫氣,陽(yáng)極析出氧氣。其反應(yīng)式如下: 陰 極: 2h2o2eh22oh- 陽(yáng) 極: 2oh-2eh2o1/2o2總反應(yīng): 2h2o2h2o2水電解制氫裝置所采用的電解液為koh(或naoh)溶液,溶液中的koh(或naoh)起催化劑的作用,并不參與電解反應(yīng),故理論上并不消
3、耗。電解槽是一體化水電解制氫裝置中的核心設(shè)備,它由若干水電解池組合而成,每個(gè)水電解池我們稱之為一個(gè)電解小室。由電解槽所產(chǎn)生的氫氣還含有少量的水分等雜質(zhì),必須將氫氣進(jìn)行干燥、過(guò)濾等處理才能得到滿足用戶要求的氫氣。cndq5103.2系列制氫裝置中包含了干燥系統(tǒng),該干燥系統(tǒng)采用了兩臺(tái)干燥器(我們稱之為干燥塔,在本文以后的敘述中均使用此名稱),干燥塔中裝填一定數(shù)量的干燥劑用以吸附氫氣中的水分,在本裝置中干燥劑采用分子篩。兩干燥塔當(dāng)其中一臺(tái)處于工作狀態(tài)(吸附水分)時(shí),另一臺(tái)則處于再生狀態(tài)(干燥劑脫除水分),在運(yùn)行一定時(shí)間后切換工作狀態(tài),再生塔投入工作,工作塔進(jìn)行再生,依次往復(fù)執(zhí)行,從而保證裝置運(yùn)行過(guò)程
4、中所產(chǎn)生的氫氣始終都能得到有效的處理。為避免氫氣的損耗,干燥塔的再生采用原料氫氣再生。本裝置控制系統(tǒng)采用微機(jī)控制,對(duì)設(shè)備的主要參數(shù):壓力、溫度、氫氧液位差可進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié);對(duì)干燥器的再生時(shí)間及再生溫度進(jìn)行自動(dòng)控制。原料水補(bǔ)充有自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式,對(duì)裝置的壓力、溫度、氫液位、氧液位、氫氣純度和氧氣純度能集中指示;若氫閥后壓力、冷卻水壓力、氣源壓力、氫氧液位上下限、氫氧純度產(chǎn)生一定的偏差時(shí)能自動(dòng)聲光報(bào)警;若裝置的主要參數(shù)壓力、溫度、氫氧液位、堿液循環(huán)量、氣源壓力偏離正常值太大,又不能及時(shí)處理時(shí),為了保護(hù)裝置的安全,該裝置能自動(dòng)聲光報(bào)警停車;為了進(jìn)一步提高本裝置的安全運(yùn)行系數(shù),對(duì)于裝置的主要運(yùn)行參數(shù):
5、工作壓力設(shè)置了雙重聯(lián)鎖系統(tǒng),當(dāng)自控系統(tǒng)失靈,裝置的運(yùn)行狀態(tài)達(dá)到危險(xiǎn)值時(shí),仍可使裝置自動(dòng)停車并發(fā)出聲光報(bào)警。2 cndq5103.2系列電解制氫裝置的用途與技術(shù)參數(shù)2.1 裝置的用途cndq510/3.2系列水電解制氫裝置是由中國(guó)船舶重工集團(tuán)公司第七一八研究所研制成功并獨(dú)家生產(chǎn)的全自動(dòng)操作的制氫設(shè)備,其主要技術(shù)指標(biāo)達(dá)到或超過(guò)九十年代末世界先進(jìn)水平,適用于化工、冶金、電子、航天等對(duì)氫氣質(zhì)量要求高的部門,是目前國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的制氫設(shè)備,該設(shè)備目前已獲國(guó)家專利。2.2 主要技術(shù)參數(shù)cndq510/3.2系列水電解制氫裝置的主要技術(shù)參數(shù)如表1所示。表1 cndq510/3.2系列水電解制氫裝置主要技術(shù)參數(shù)表
6、型號(hào)cndq5/3.2cndq10/3.2氫氣產(chǎn)量(m3/h)5.0 10.0氧氣產(chǎn)量(m3/h)2.5 5.0氫氣純度(v/v)99.9%氧氣純度(v/v)99.2%工作壓力(mpa)3.2氫氣露點(diǎn)()-50氫氣含堿量(mg/nm3)1電解槽工作溫度()8590直流額定電流(a)820 直流額定電壓(v)28 56純水耗量(kg/h)5 10整流變壓器容量(kva)40 75原料水水質(zhì)要求電導(dǎo)率5s/cm,氯離子含量2mg/l,懸浮物1mg/l電解槽直流電耗4.8 kwh/m3h2堿液濃度2630%koh氫氣出口溫度40干燥溫控溫度250300干燥加熱終止溫度180干燥器切換周期24h2.3
7、 設(shè)備對(duì)外部條件的要求cndq5103.2系列制氫裝置對(duì)外部提供的水、電、氣等條件均有特定的要求,詳見下表:儀表氣源壓力(mpa)0.50.7儀表氣源耗量(m3/h)5冷卻水溫度()32冷卻水壓力(mpa)0.40.6 回水壓力0.1冷卻水水質(zhì)(德國(guó)度)6 冷卻水用量(m3/h)3 電源容量(kw)單臺(tái)裝置150kw ac380v 三相三線環(huán)境溫度0453 cndq5103.2系列制氫裝置的構(gòu)成 本裝置由框架(制氫框架)、框架(氣體分配框架)、框架(水堿箱框架)、整流裝置、控制柜、配電裝置、計(jì)算機(jī)管理系統(tǒng)及除鹽水冷卻裝置組成。3.1 框架框架由電解槽、氫、氧分離器、氫洗滌器、循環(huán)泵、堿液過(guò)濾器
8、、干燥器、冷卻器、氣水分離器、氫氣過(guò)濾器等組成。電解槽為壓濾式雙極性結(jié)構(gòu), 一端下部有進(jìn)液管,另一端上部有氫、氧氣液出口,中間極板為直流電的正極,兩端極板為負(fù)極。給電解槽加上一定的直流電壓,電解槽內(nèi)部就會(huì)發(fā)生電解反應(yīng)產(chǎn)生氫氣和氧氣,氫氣經(jīng)分離和洗滌后送入干燥塔吸附所含的水分。3.2 框架框架為氫氣分配裝置,其進(jìn)口與框架相連,出口分別與儲(chǔ)氫罐和發(fā)電機(jī)組供氫管道相連接。該框架可以將框架輸出的成品氫氣送入各儲(chǔ)罐儲(chǔ)存,在發(fā)電機(jī)組需要補(bǔ)氫時(shí),將儲(chǔ)罐內(nèi)儲(chǔ)存的氫氣減壓后送入補(bǔ)氫管道。3.3 框架框架包括水箱、堿箱和加水泵。用于堿液的配制和儲(chǔ)存、原料水的儲(chǔ)存以及為制氫裝置提供原料水及堿液。3.3 整流裝置 整
9、流裝置由整流變壓器、整流柜組成,用于供給電解所需直流電源。使用方法詳見可控硅整流裝置使用說(shuō)明書。3.4 控制柜及計(jì)算機(jī)管理系統(tǒng)控制柜由plc、電磁閥、安全柵、測(cè)量及控制儀表組成,計(jì)算機(jī)管理系統(tǒng)主要由上位機(jī)及打印機(jī)組成??刂葡到y(tǒng)通過(guò)plc及相關(guān)的檢測(cè)儀表來(lái)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制、自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)調(diào)節(jié)、自動(dòng)充罐、顯示、故障報(bào)警、連鎖、自動(dòng)開機(jī)及停機(jī)等功能,同時(shí)plc通過(guò)通訊電纜將相關(guān)數(shù)據(jù)和信息送上位機(jī)進(jìn)行顯示和記錄。3.5 配電裝置 配電裝置一般由配電柜和mcc柜組成,用于為制氫系統(tǒng)所有動(dòng)力裝置的提供電源,并接受來(lái)自控制柜的控制信號(hào)實(shí)現(xiàn)循環(huán)泵、加水泵、整流裝置及風(fēng)機(jī)等設(shè)備的自動(dòng)啟停。3.6 除鹽水冷卻裝置除鹽
10、水冷卻裝置由除鹽水箱、兩臺(tái)循環(huán)水泵、換熱器及控制箱構(gòu)成,該裝置將用戶提供的除鹽水儲(chǔ)存于除鹽水箱,同時(shí)由除鹽水箱、循環(huán)水泵、換熱器及各用水設(shè)備構(gòu)成閉式循環(huán)用于為制氫系統(tǒng)提供冷卻水,除鹽水循環(huán)所帶出的熱量在換熱器中與外接工業(yè)冷卻水進(jìn)行交換,從而保證除鹽水溫度滿足制氫設(shè)備的要求。該裝置的控制系統(tǒng)自成一體,可以保證裝置的獨(dú)立使用,同時(shí)也可接受來(lái)自控制柜或其它設(shè)備的遠(yuǎn)操信號(hào)。其使用方法詳見除鹽水控制箱操作說(shuō)明。4 制氫裝置工藝流程cndq5103.2系列制氫裝置工藝流程詳見隨機(jī)圖冊(cè):水電解制氫裝置工藝流程圖,下面我們將按照裝置的構(gòu)成分別對(duì)各部分的流程進(jìn)行描述:4.1 框架i框架i可分為制氫和干燥兩大部分
11、,而制氫部分又可分為氫(氧)氣體系統(tǒng)、電解液循環(huán)系統(tǒng)、原料補(bǔ)充系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、氮?dú)獯祾呦到y(tǒng)和排污系統(tǒng)等幾個(gè)子系統(tǒng)。下面分別對(duì)它們進(jìn)行介紹。4.1.1 制氫部分4.1.1.1 氫、氧氣體系統(tǒng)原料水(要求見4.1.1.3)在電解槽(1001)內(nèi)直流電作用下分解,在電解小室的陰、陽(yáng)極表面分別產(chǎn)生氫氣、氧氣。從電解小室出來(lái)的氫氣和堿液的混合物一起通過(guò)極框上陰極側(cè)的氣道流出,進(jìn)入氫分離器(1002)下部,在重力作用下進(jìn)行氣液分離,分離出的氫氣進(jìn)入氫氣洗滌器(1004)進(jìn)行洗滌和冷卻,然后經(jīng)洗滌器頂部除霧器除去液滴后,經(jīng)氫氣調(diào)節(jié)閥(lv1001)到達(dá)氣動(dòng)球閥(qz1020)和(qz1021),由(qz10
12、20)選擇進(jìn)行放空或(qz1021)選擇進(jìn)入干燥部分除濕后進(jìn)入儲(chǔ)存系統(tǒng)備用。由電解槽產(chǎn)生的氧氣和堿液的混合物進(jìn)入氧分離器(1003),分離后的氧氣經(jīng)氧氣調(diào)節(jié)閥(pv1001)排空。4.1.1.2 電解液循環(huán)系統(tǒng) 從電解槽(1001)出來(lái)夾帶氫氣和氧氣的堿液在氫分離器(1002)和氧分離器(1003)中,靠重力作用分別與氫氣、氧氣分離,經(jīng)分離器內(nèi)的蛇管冷卻后通過(guò)氫、氧分離器底部的連通管進(jìn)入堿液過(guò)濾器(1009),過(guò)濾雜質(zhì)后再由循環(huán)泵(1m11)送回電解槽(1001),構(gòu)成了電解液循環(huán)系統(tǒng)。4.1.1.3 補(bǔ)充系統(tǒng)4.1.1.3.1 原料水補(bǔ)充生產(chǎn)過(guò)程中應(yīng)不斷向電解槽補(bǔ)充電解消耗的原料水。對(duì)原料水
13、水質(zhì)的要求:電導(dǎo)率5s/cm,氯離子含量2mg/l,懸浮物1mg/l。警告:原料水嚴(yán)禁使用自來(lái)水和其它未經(jīng)處理的水源,否則會(huì)引起氣體純度下降及電解槽的損壞。警告:水箱中的原料水可能含有少量強(qiáng)堿及其他對(duì)人體有害的物質(zhì),嚴(yán)禁飲用。用戶送來(lái)的原料水經(jīng)電磁閥(df1330)補(bǔ)入水箱(1301)中,該閥可根據(jù)水箱液位變送器的信號(hào)自動(dòng)啟閉以維持水箱的液位,當(dāng)電磁閥(df1330)出現(xiàn)故障時(shí),用戶可根據(jù)水箱現(xiàn)場(chǎng)液位指示通過(guò)旁通閥(q1342)手動(dòng)補(bǔ)水。注意:在設(shè)備運(yùn)行時(shí),應(yīng)保證水箱中時(shí)刻有水,否則會(huì)引起加水泵失效及設(shè)備聯(lián)鎖停機(jī)。水箱中的水通過(guò)加水泵經(jīng)過(guò)止回閥(h1020)、球閥(q1022)被注入氫氣洗滌器
14、(1044),先供氫氣的冷卻洗滌,多于部分通過(guò)洗滌器與氫分離器間的溢流管流入氫分離器,從而進(jìn)入堿液循環(huán)系統(tǒng),經(jīng)循環(huán)泵被送入電解槽,不斷的補(bǔ)充電解消耗的原料水。也可經(jīng)過(guò)止回閥(h1021)、球閥(q1023)補(bǔ)入氧分離器(1003)(止回閥的作用是保證水電解制氫設(shè)備系統(tǒng)中的帶壓氣體和堿液在加水泵不工作期間不會(huì)反流至水箱)。注意:在設(shè)備正常運(yùn)行的情況下,通常只向氫洗滌器補(bǔ)水。警告:球閥(q1022)和(q1023)嚴(yán)禁同時(shí)開啟,否則可能引起氫氧混合導(dǎo)致爆炸。4.1.1.3.2 堿液補(bǔ)充水電解過(guò)程中,堿起到增加電導(dǎo)作用,理論上不消耗,正常運(yùn)行中一般不需補(bǔ)充堿。如確需補(bǔ)充堿時(shí),可在堿箱(1302)中配
15、置少量堿液(濃度可稍高一些),然后啟動(dòng)加水泵經(jīng)過(guò)止回閥(h1021)、球閥(q1023)直接注入氧分離器中。堿液補(bǔ)入完畢后,可再補(bǔ)入一些原料水以清洗管道,然后將閥門切至氫洗滌器側(cè)。注意:補(bǔ)充堿液時(shí),應(yīng)關(guān)閉球閥(q1022),堿液不得加入氫洗滌器內(nèi)。4.1.1.4 冷卻水系統(tǒng) 冷卻水共分三個(gè)回路: 第一路:進(jìn)入整流柜以冷卻可控硅整流元件,使整流柜能正常工作。如整流柜為風(fēng)機(jī)冷卻,則無(wú)此路冷卻水。 第二路:經(jīng)過(guò)冷卻水調(diào)節(jié)閥(tv1001)進(jìn)入氫、氧分離器內(nèi)部蛇管,以冷卻循環(huán)堿液,從而達(dá)到控制系統(tǒng)工作溫度的目的。第三路:經(jīng)過(guò)球閥(q1132)進(jìn)入氫氣冷卻器內(nèi),以冷卻干燥后的氫氣。此冷卻水為常流水,由球
16、閥(q1132)調(diào)節(jié)流量大小。4.1.1.5 氮?dú)獯祾呦到y(tǒng)制氫系統(tǒng)通過(guò)閥門(j1010)、(j1110)向整個(gè)系統(tǒng)內(nèi)充入氮?dú)?。用于系統(tǒng)做氣密性試驗(yàn)和開車前氮?dú)獯祾摺?.1.1.6 排污系統(tǒng)排污管道共分三處。第一處:框架的排污口排污閥(q1031)。用于拆洗過(guò)濾器時(shí)排出過(guò)濾器內(nèi)的液體。 第二處:通過(guò)氣水分離器底部的氣動(dòng)球閥(qz1120)排出氣水分離器中的水,通過(guò)氫氣冷卻器底部的氣動(dòng)球閥(qz1121)排出氫氣冷卻器中的冷凝水,二者進(jìn)入積液罐中。積液罐中的水由氣動(dòng)球閥(qz1122)排出。第三處:框架的排污口排污閥(q1340)和(q1341)供清洗水、堿箱時(shí)排污用。4.1.1.2 干燥部分干燥
17、部分由氫氣氣水分離器(1101)、干燥塔a(1121)、干燥塔b(1122)、氫氣冷卻器(1131)、氫氣過(guò)濾器(1151)和積水器(1141)構(gòu)成。干燥部分的工作狀態(tài)可細(xì)分為以下幾種:a再生b工作、b工作、a工作b再生、a工作,整個(gè)干燥部分的工作狀態(tài)按一定周期循環(huán)往復(fù)執(zhí)行,其工作周期為48h,其中:a再生b工作及b工作的時(shí)間為24h,a工作b再生及a工作的時(shí)間為24h,下面我們分別對(duì)個(gè)工作狀態(tài)進(jìn)行介紹。4.1.1.2.1 a再生b工作氫氣經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1130)和(qs1132)從上部進(jìn)入干燥塔a,干燥塔的內(nèi)部結(jié)構(gòu)如右圖所示,氫氣經(jīng)干燥塔內(nèi)部的電加熱器加熱后通過(guò)分子篩,并利用所攜帶的熱
18、量對(duì)分子篩進(jìn)行再生,再生后的氣體通過(guò)干燥塔a再生氣出口,流經(jīng)氫氣冷卻器(1131),在冷卻器中氫氣中所攜帶的大部分水經(jīng)冷卻于氣體分離沉降于冷卻器的底部,分離后的氫氣從工作氣進(jìn)口進(jìn)入干燥塔b,經(jīng)分子篩吸附水分后從工作氣出口流出干燥塔b,經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1131)和氫氣過(guò)濾器(1151)送至氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)(氫氣過(guò)濾器的作用是濾除氫氣中的粉塵),在氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)前安裝有露點(diǎn)儀用以分析氫氣的含水量,如氫氣露點(diǎn)不符合要求,氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1130)放空,露點(diǎn)合格后氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1131)進(jìn)入框架ii。為控制氫氣的溫度以及檢測(cè)分子篩再生
19、的程度,在干燥器的下部及上部分別安裝了檢測(cè)溫度的鉑電阻,下部鉑電阻用以測(cè)量氫氣溫度并根據(jù)此信號(hào)控制電加熱器的通斷,在正常工作時(shí),下部溫度控制在250。上部鉑電阻則插入至分子篩的上層檢測(cè)分子篩上層的溫度,當(dāng)該溫度達(dá)到180表明分子篩已再生完畢,干燥部分進(jìn)入下一工作狀態(tài)。本工作狀態(tài)的持續(xù)時(shí)間為4h。4.1.1.2.2 b工作 干燥塔a再生結(jié)束后干燥部分自動(dòng)切換至“b工作”狀態(tài),此時(shí)經(jīng)氫氣氣水分離器分離后的氫氣經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1130)和氫氣冷卻器從下部進(jìn)入干燥塔b,經(jīng)分子篩吸附水分后從工作氣出口流出干燥塔b,經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1131)和氫氣過(guò)濾器送至氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131
20、)(過(guò)濾器的作用是濾除氫氣中的粉塵),在氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)前安裝有露點(diǎn)儀用以分析氫氣的含水量,如氫氣露點(diǎn)不符合要求,氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1130)放空,露點(diǎn)合格后氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1131)進(jìn)入框架ii。本工作狀態(tài)的持續(xù)時(shí)間為12h。時(shí)間到后自動(dòng)轉(zhuǎn)入“a工作b再生”狀態(tài)。4.1.1.2.3 a工作b再生在干燥塔b吸附24h后塔內(nèi)的分子篩已處于飽和狀態(tài),這時(shí)干燥部分自動(dòng)轉(zhuǎn)入“a工作b再生”狀態(tài),經(jīng)氫氣氣水分離器分離后的氫氣經(jīng)過(guò)氣動(dòng)球閥(qs1130)和(qs1132)從上部進(jìn)入干燥塔b,氫氣經(jīng)干燥塔內(nèi)部的電加熱器加熱后通過(guò)分子篩,并利用所攜帶的熱量對(duì)分子篩進(jìn)行再生,再生
21、后的氣體通過(guò)干燥塔b再生氣出口,流經(jīng)氫氣冷卻器在冷卻器中氫氣中所攜帶的大部分水經(jīng)冷卻于氣體分離沉降于冷卻器的底部,分離后的氫氣從工作氣進(jìn)口進(jìn)入干燥塔a,經(jīng)分子篩吸附水分后從工作氣出口流出干燥塔a, 經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1131)和氫氣過(guò)濾器送至氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)(過(guò)濾器的作用是濾除氫氣中的粉塵),在氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)前安裝有露點(diǎn)儀用以分析氫氣的含水量,如氫氣露點(diǎn)不符合要求,氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1130)放空,露點(diǎn)合格后氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1131)進(jìn)入框架ii。本工作狀態(tài)的持續(xù)時(shí)間為4h,干燥塔b再生完畢后,自動(dòng)轉(zhuǎn)入“a工作”狀態(tài)。4.1.1.2
22、.4 a工作經(jīng)氫氣氣水分離器分離后的氫氣經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1130)進(jìn)入干燥塔a,經(jīng)分子篩吸附水分后從工作氣出口流出干燥塔a,經(jīng)氣動(dòng)三通球閥(qs1131)和氫氣過(guò)濾器送至氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)(過(guò)濾器的作用是濾除氫氣中的粉塵),在氣動(dòng)球閥(qz1130)和(qz1131)前安裝有露點(diǎn)儀用以分析氫氣的含水量,如氫氣露點(diǎn)不符合要求,氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1130)放空,露點(diǎn)合格后氫氣經(jīng)氣動(dòng)球閥(qz1131)進(jìn)入框架ii。本工作狀態(tài)的持續(xù)時(shí)間為20h。該狀態(tài)結(jié)束后系統(tǒng)自動(dòng)返回“a再生b工作”狀態(tài),并按上述順序周期往復(fù)運(yùn)行。4.1.1.2.5 干燥部分的排水 干燥部分在前述四種
23、工作狀態(tài)的運(yùn)行過(guò)程中,在氫氣氣水分離器(1101)和氫氣冷卻器(1131)的底部回存留部分液態(tài)水,此部分液態(tài)水如不排放日積月累必會(huì)影響干燥部分的運(yùn)行效果,故本裝置通過(guò)程序設(shè)置定期開啟氣動(dòng)球閥(qz1120)和(qz1121)將水排至積水器(1141),然后通過(guò)氣動(dòng)球閥(qz1122)和水封(1161)將水排出系統(tǒng)。4.2 框架ii框架ii是一個(gè)由閥門、儲(chǔ)罐、儀表及減壓裝置構(gòu)成的氣體分配系統(tǒng),它同時(shí)具有充罐和補(bǔ)氫兩大功能。依照其充罐的方式又可分為單充單放和全充全放兩種類型,用戶可根據(jù)自己的需要任選其中一種,兩種類型的補(bǔ)氫部分完全相同。下面分別對(duì)其流程進(jìn)行介紹:注意:cndq5103.2系列制氫裝
24、置標(biāo)配儲(chǔ)罐數(shù)量為4臺(tái),補(bǔ)氫回路為兩路,框架ii也照此進(jìn)行設(shè)計(jì)和生產(chǎn),如用戶有特殊要求應(yīng)在合同及技術(shù)協(xié)議中注明。4.2.1 全充全放型全充全放型由充罐和補(bǔ)氫兩大部分構(gòu)成。4.2.1.1 充罐部分充罐部分由充氫母管、自動(dòng)儲(chǔ)罐選擇系統(tǒng)(球閥 (q1230、q1232)、壓力變送器(pt1201、pt1202)及2臺(tái)氫氣儲(chǔ)罐(1401、1402)構(gòu)成,plc依次檢測(cè)兩個(gè)氫氣儲(chǔ)罐的壓力,如壓力低于設(shè)定下限值則自動(dòng)開啟相應(yīng)的氣動(dòng)球閥向該儲(chǔ)罐充氫,當(dāng)儲(chǔ)罐壓力達(dá)到設(shè)定上限值時(shí)自動(dòng)關(guān)閉充罐氣動(dòng)球閥,壓力表(pi1401、pi1402)用以各儲(chǔ)罐壓力的現(xiàn)場(chǎng)顯示。4.2.1.2 補(bǔ)氫部分補(bǔ)氫部分由2臺(tái)氫氣儲(chǔ)罐、自動(dòng)
25、儲(chǔ)罐選擇系統(tǒng)(球閥(q1231、q1233)、補(bǔ)氫母管和減壓裝置構(gòu)成。用戶可通過(guò)手動(dòng)開啟球閥(q1231、q1233)來(lái)選擇使用哪一個(gè)氫氣儲(chǔ)罐進(jìn)行補(bǔ)氫,也可將上述兩個(gè)球閥全部開啟,將兩個(gè)儲(chǔ)罐合并補(bǔ)氫。減壓裝置由氣動(dòng)球閥(qz1230、qz1231)、旁通球閥(q1240、q1241)、減壓閥(y1230、y1231)及壓力變送器(pt1208、pt1209)組成。減壓閥(y1230、y1231)用于將儲(chǔ)罐來(lái)的高壓氣體減壓為用戶所需的低壓氣體,該閥在設(shè)備調(diào)試時(shí)整定完畢后,正常運(yùn)行時(shí)無(wú)需調(diào)整;旁通球閥(q1240、q1241)用于在減壓裝置故障時(shí)的補(bǔ)氫。4.3 框架iii框架iii由水箱(1301
26、)、堿箱(1302)及加水泵(1m21)構(gòu)成,水箱主要用于儲(chǔ)存制氫裝置所需的原料水(純水),堿箱主要用于利用原料水(純水)配置制氫裝置所用的堿液,加水泵可將原料水補(bǔ)入制氫裝置以補(bǔ)充電解所消耗的水,當(dāng)系統(tǒng)需補(bǔ)堿時(shí)也可使用加水泵將堿箱內(nèi)配置好的堿液補(bǔ)入系統(tǒng)。注意:補(bǔ)充堿液時(shí),應(yīng)關(guān)閉球閥(q1022),堿液不得加入氫洗滌器內(nèi)。堿液補(bǔ)充完畢后應(yīng)繼續(xù)補(bǔ)入一些原料水以清洗管道。水箱裝有帶遠(yuǎn)傳功能的磁翻板液位計(jì)(li1301)它可將水箱的液位信號(hào)送入plc,當(dāng)液位過(guò)低時(shí)自動(dòng)開啟電磁閥(df1330)將原料水補(bǔ)入水箱,液位達(dá)到高限時(shí)關(guān)閉該閥停止補(bǔ)水。第二章 安裝1 制氫站1.1 制氫站的設(shè)計(jì)應(yīng)符合gb5017
27、72005氫氧站設(shè)計(jì)規(guī)范。1.2 制氫裝置的安裝: 制氫間:放置框架和框架。 整流控制間:放置控制柜、整流柜、配電裝置、微機(jī)等。 輔助間:放置框架。 關(guān)于房間的數(shù)量及設(shè)備布局,設(shè)計(jì)院或用戶可根據(jù)當(dāng)?shù)鼐唧w情況,參照氫氧站設(shè)計(jì)規(guī)范作適當(dāng)改變。1.3 制氫間的要求 制氫間應(yīng)為單層不可燃材料建筑。制氫間應(yīng)設(shè)置必要的泄壓面積,泄壓面積與廠房的比值(m2/m3)一般采用0.05-0.10。門窗及輕質(zhì)墻體可作為泄壓面積,泄壓面積應(yīng)布置合理,并應(yīng)靠近爆炸部位,不應(yīng)面對(duì)人員集中的地方和交通要道。 制氫間高度不低于5米,門窗向外開。 制氫間頂棚應(yīng)設(shè)適當(dāng)數(shù)量的通風(fēng)孔,通風(fēng)孔直徑不小于200mm,外設(shè)防雨帽,下緣與頂
28、棚平齊并設(shè)置拉線活門以利于冬季保溫,通風(fēng)孔應(yīng)設(shè)在頂棚最高處。 為了便于安裝維修,制氫間應(yīng)設(shè)行車,起重能力應(yīng)大于電解槽的重量。 制氫間的地板應(yīng)耐堿,并設(shè)有排污下水道,便于污水排放。 制氫間應(yīng)設(shè)有供系統(tǒng)吹掃試壓用的氮?dú)夤艿酪约白詠?lái)水管和水池。2 制氫裝置工藝部分的安裝2.1 cndq510/3.2型制氫裝置按照工藝流程圖安裝。各技術(shù)參數(shù)及要求見表1。2.2 框架和框架之間的管路沿地溝敷設(shè),框架和框架管路架空設(shè)置,各管路的長(zhǎng)度盡可能短,并減少?gòu)澢詼p少阻力。2.3 整流柜與電解槽的連接電纜地溝應(yīng)與各管路地溝分開設(shè)置;控制電纜應(yīng)架空或沿電纜溝敷設(shè),在敷設(shè)時(shí),為避免干擾控制電纜與動(dòng)力電纜應(yīng)分層敷設(shè),控
29、制電纜采用屏蔽電纜。電纜地溝應(yīng)考慮排水。2.4 氫氣、氧氣放空管出口應(yīng)分別在制氫間兩側(cè),距離大于10m,高出房脊1.5m以上。管口應(yīng)考慮防雨,氫放空口應(yīng)裝阻火器。2.5 控制柜與框架之間距離不能過(guò)遠(yuǎn)。參考距離為控制柜與框架折線距離不大于20米。2.6 安裝框架、框架基礎(chǔ)應(yīng)高出地面一定高度。2.7 主要設(shè)備及安裝尺寸2.7.1 框架重量及外形尺寸見表2。注意:框架就位后應(yīng)將電解槽進(jìn)堿液端地腳螺栓卸下,另一端固定,利于伸縮。氣液處理器與獨(dú)立封閉地線的連接至少有兩處,接地電阻不大于4,地線的截面積不小于160mm2。2.7.2 框架重量及外形尺寸見表2。:3 制氫裝置自控部分的安裝3.1 供電供氣要
30、求 控制柜所需電源總功率不小于7kw,需三相四線制供電。進(jìn)柜供電電纜,詳見相應(yīng)的控制柜外部接線圖。 自控部分所需氣源為無(wú)油、無(wú)塵、無(wú)水干凈的壓縮空氣或氮?dú)?,含油量小?5mg/m3,露點(diǎn)比環(huán)境最低溫度低10。表2 重量與外形尺寸部件名稱項(xiàng)目cndq5/3.2cndq10/3.2框架外形尺寸(長(zhǎng)寬高)mm240018002200重量 kg21002800地腳尺寸 mm21001500地腳孔尺寸mm420框架外形尺寸(長(zhǎng)寬高)mm200014001800重量 kg270地腳尺寸 mm17601160地腳孔尺寸mm424控制柜外形尺寸(長(zhǎng)寬高)mm8008002200重量 kg400地腳尺寸 mm7
31、40820地腳孔尺寸mm421整流柜外形尺寸(長(zhǎng)寬高)mm10008002200重量 kg300地腳尺寸 mm840840地腳孔尺寸mm4223.2 控制柜的安裝 控制柜重量及外形尺寸見表2。 控制柜的安裝可不設(shè)基礎(chǔ),但應(yīng)置于線纜地溝之上??刂乒褚辛己玫慕拥兀拥仉娮栊∮?。3.3 控制柜的外接管線 控制柜外接電線、電纜按照控制柜外部電氣接線圖連接??刂乒裢饨庸苈钒凑湛刂乒竦耐饨庸苈愤B接圖連接,控制柜外接電氣管線均從控制柜底部進(jìn)線。3.4 控制柜與框架之間的電線、電纜、管纜等可沿地溝鋪設(shè)或架空鋪設(shè)。要注意弱電和強(qiáng)電一定要分開鋪設(shè),以免相互干擾。3.5 控制柜與框架之間的水泵電源線以及控制柜與
32、整流柜之間的信號(hào)電纜可預(yù)埋穿線管。3.6 微機(jī)應(yīng)盡量靠近控制柜擺放,它們之間的通信電纜可延地溝敷設(shè)或架空敷設(shè)。4 整流部分4.1 整流部分由整流柜組成。4.1.1 整流柜的安裝整流柜重量及外形尺寸見表2。整流柜應(yīng)跨于地溝之上,引出電纜應(yīng)從整流柜底部進(jìn)入地溝與電解槽連接。4.2 主要連接電纜規(guī)格整流柜電源進(jìn)線自配電裝置引入,規(guī)格為3120+150 mm2整流柜至電解槽的直流電纜,都由整流柜引出,電纜的規(guī)格為8150mm2,其中電解槽正極接4根150mm2電纜,電解槽兩負(fù)極各接2根150mm2電纜。5 配電裝置5.1 配電裝置一般由配電柜和動(dòng)力柜組成。5.2 配電裝置的外形尺寸和安裝要求見各自相應(yīng)
33、的設(shè)計(jì)選型資料。5.3 配電裝置的外接管線 配電裝置的外接管線均從柜體底部進(jìn)入地溝與其他柜體的相應(yīng)端子連接。第三章 操作規(guī)程1 工藝系統(tǒng)開車前的準(zhǔn)備1.1 系統(tǒng)的清洗:水電解制氫設(shè)備在正式投入運(yùn)行前應(yīng)對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行清洗,以去除加工中存留在各部件內(nèi)部的機(jī)械雜質(zhì)。系統(tǒng)內(nèi)所有閥門在開車前都為關(guān)閉狀態(tài)。1.1.1 框架水、堿箱的清洗在裝入原料水前,應(yīng)首先對(duì)水箱(1301)和堿箱(1302)進(jìn)行清洗,方法是:打開水箱補(bǔ)水閥(q1342)和堿箱補(bǔ)水閥(q1343)向水箱和堿箱中補(bǔ)入少量原料水(純水),用抹布擦拭水堿箱內(nèi)壁,然后打開水堿箱排污閥(q1340)和(q1341)將臟水排出,重復(fù)上述步驟34次直至排出
34、的水清亮為止,清洗完畢后關(guān)閉框架的所有閥門。注意:為避免影響電解槽的性能,水堿箱應(yīng)采用原料水(純水)進(jìn)行清洗,如現(xiàn)場(chǎng)暫時(shí)無(wú)法提供原料水也可先用自來(lái)水進(jìn)行清洗,待有原料水后再使用原料水清洗2-3次。1.1.2 原料水補(bǔ)入系統(tǒng)1.1.2.1 打開堿箱補(bǔ)水閥(q1343),向堿箱內(nèi)注入原料水,帶原料水注滿后,關(guān)閉(q1343)。1.1.2.2 打開堿箱出口閥(q1344)、框架進(jìn)堿閥(q1042)、氫氣手動(dòng)放空閥(j1012)、氧氣手動(dòng)放空閥(j1013),堿液過(guò)濾器(1009)的進(jìn)口閥(q1040)和出口閥(q1041)處于關(guān)閉狀態(tài),堿箱內(nèi)的原料水依靠勢(shì)能會(huì)自行流入系統(tǒng),此時(shí)先打開循環(huán)泵出口排氣閥
35、(j1011)排氣待流出水后關(guān)閉該閥;然后打開循環(huán)泵本體的排氣閥(位于循環(huán)泵后),待流出水后關(guān)閉該閥。將mcc柜循環(huán)泵控制回路面板上的選擇開關(guān)打至“手動(dòng)”,點(diǎn)擊“啟動(dòng)”按鈕啟動(dòng)循環(huán)泵,慢慢打開流量調(diào)節(jié)閥(j1040),將堿箱中原料水打入系統(tǒng),當(dāng)液位升至氫、氧分離器液位計(jì)中部時(shí),關(guān)閉(j1040)、停泵、關(guān)閉(q1344),(q1042) (循環(huán)泵的使用方法詳見其使用說(shuō)明書)。1.1.2.3 打開堿液過(guò)濾器進(jìn)口閥(q1040)、堿液過(guò)濾器上部排氣閥(j1010),待流出水后,關(guān)閉(j1010)。打開循環(huán)泵上排氣閥,待氣排凈后,關(guān)閉之。打開堿液過(guò)濾器出口閥(q1041),啟動(dòng)循環(huán)泵(方法如1.1.
36、2.2所述),打開流量調(diào)節(jié)閥(j1040),調(diào)節(jié)泵流量至最大,沖洗系統(tǒng)一小時(shí)后關(guān)閉流量調(diào)節(jié)閥(j1040),停循環(huán)泵。1.1.2.4 關(guān)閉(j1040),關(guān)閉(q1041),打開(q1030)及框架進(jìn)堿閥(q1345)和堿箱排污閥(q1341),啟動(dòng)循環(huán)泵,慢慢打開框架出堿閥(q1043),將污水打入堿箱內(nèi)排掉。之后將堿箱清洗干凈。或者打開堿液過(guò)濾器底部的排污閥(q1031),將污水排入地溝。1.1.2.5 按上述方法反復(fù)進(jìn)行23次,直至排出液清潔為止。1.2 氣密檢驗(yàn) 設(shè)備安裝完畢后,需對(duì)制氫系統(tǒng)進(jìn)行全面的氣密檢驗(yàn)。1.2.1 按1.1.2中敘述方法將原料水打入制氫系統(tǒng)至分離器液位計(jì)中部。1
37、.2.2 將氮?dú)庠磁c(j1010)、(j1110)連接,關(guān)閉制氫系統(tǒng)與外部連接的所有閥門,打開系統(tǒng)內(nèi)所有閥門,打開(j1010)、(j1110),向系統(tǒng)內(nèi)送入氮?dú)獠⑹瓜到y(tǒng)壓力經(jīng)0.5mpa、1.0mpa、1.5mpa、2.0mpa及2.5mpa等幾個(gè)檢查點(diǎn)直至升至系統(tǒng)工作壓力,在系統(tǒng)壓力到達(dá)各檢查點(diǎn)后,關(guān)閉(j1010)、(j1110),用檢漏液依次檢查系統(tǒng)氣路所有閥門、接頭、法蘭連接處及管路焊口部位有無(wú)漏氣以及液路各部位有無(wú)漏液。如未發(fā)現(xiàn)泄漏則可繼續(xù)升壓至下一個(gè)檢查點(diǎn)再次檢漏;如發(fā)現(xiàn)有泄漏,則將系統(tǒng)卸壓后對(duì)漏點(diǎn)進(jìn)行處理(更換墊片、緊固螺栓等),待處理完畢后,繼續(xù)向系統(tǒng)內(nèi)充氮使壓力達(dá)到原檢查點(diǎn)
38、,檢查是否還有泄漏,如無(wú)泄漏升壓至下一個(gè)檢查點(diǎn),重復(fù)上述方法進(jìn)行檢漏直至壓力升至系統(tǒng)工作壓力,待確認(rèn)不漏后,保壓24小時(shí),泄漏量平均每小時(shí)不超過(guò)0.5%p為合格(p為系統(tǒng)工作壓力,見表1)。警告:為保證操作人員的人身安全,處理泄漏點(diǎn)時(shí),必須將系統(tǒng)卸壓至常壓后方可處理。注意:1. 系統(tǒng)達(dá)到工作壓力后要求保壓24小時(shí),主要是考慮消除環(huán)境溫度的變化對(duì)壓力讀數(shù)的影響,如現(xiàn)場(chǎng)溫差變化不大時(shí),保壓12小時(shí)即可。2. 由于干燥塔內(nèi)裝有分子篩會(huì)吸附一定量的氮?dú)鈴亩鴮?dǎo)致壓力下降較快,故在干燥部分進(jìn)行氣密試驗(yàn)時(shí),開始時(shí)應(yīng)重復(fù)補(bǔ)充1-2次,待分子篩吸附飽和后再進(jìn)行檢漏。1.2.3 依次慢慢打開排氣閥(j1010)、
39、(j1011)及循環(huán)泵上的排氣閥,將氣排凈后關(guān)閉。啟動(dòng)循環(huán)泵,將系統(tǒng)內(nèi)原料水打循環(huán),清洗系統(tǒng)一小時(shí)。然后通過(guò)氫氧手動(dòng)放空閥(j1012)、(j1013)將制氫系統(tǒng)壓力卸至常壓,通過(guò)(j1110)將干燥系統(tǒng)壓力卸至1.0mpa。之后按照1.1.2.4所規(guī)定的步驟將系統(tǒng)內(nèi)的水排空。1.3 電解液的配制對(duì)于新出廠的制氫裝置,在準(zhǔn)備工作完成后,首先要用稀堿(15%koh,不加五氧化二釩)試車,目的是對(duì)電解槽及系統(tǒng)進(jìn)行清洗、對(duì)控制系統(tǒng)進(jìn)行小負(fù)載調(diào)試并對(duì)參數(shù)進(jìn)行設(shè)定與調(diào)整。稀堿運(yùn)行后把稀堿排空,然后充入濃堿(30%koh或25%naoh,千分之二的五氧化二釩)進(jìn)行試驗(yàn)運(yùn)行。配制各型號(hào)設(shè)備所需電解液及氫氧化
40、鉀數(shù)量見表3。配制堿液的方法如下:1.3.1 打開堿箱原料水進(jìn)口閥(q1343),根據(jù)所配電解液的體積,往堿箱中注入適當(dāng)體積的原料水(為防止配堿時(shí)間堿液溢出,注入的原料水量通常不超過(guò)堿箱的2/3),注入完畢后關(guān)閉(q1343)。如果堿箱體積不夠,可分幾次配制。1.3.2 配堿過(guò)程中為防止koh結(jié)晶或結(jié)塊應(yīng)采用人工攪拌或利用循環(huán)泵打循環(huán)的方法進(jìn)行攪拌。注意:如采用人工攪拌,所使用攪拌棒的材料應(yīng)不與koh發(fā)生化學(xué)反應(yīng),通常采用不銹鋼棒(或不銹鋼管)。警告:koh溶液具有強(qiáng)腐蝕性,會(huì)對(duì)人身造成傷害,故在整個(gè)配堿過(guò)程中,操作人員應(yīng)配備護(hù)目鏡、膠皮手套及口罩等個(gè)人防護(hù)用品并應(yīng)穿戴長(zhǎng)褲及長(zhǎng)袖的上衣。配堿的
41、現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)有自來(lái)水及配置好的硼酸(弱酸)溶液,當(dāng)皮膚濺上堿液后應(yīng)及時(shí)用自來(lái)水或硼酸水清洗。當(dāng)眼睛等人體敏感部位不慎濺入堿液后,應(yīng)在現(xiàn)場(chǎng)及時(shí)用自來(lái)水清洗后赴最近的醫(yī)療單位進(jìn)行檢查診治。當(dāng)用堿液循環(huán)泵攪拌堿箱內(nèi)的液體配堿時(shí),打開框架堿液進(jìn)出口閥(q1344)、(q1345),框架進(jìn)堿閥(q1042),此時(shí)其它閥門處于關(guān)閉位置,打開循環(huán)泵體上的排氣閥排氣,等排完循環(huán)泵內(nèi)的氣體后關(guān)閉之。啟動(dòng)循環(huán)泵,慢慢打開框架出堿閥(q1043),使循環(huán)量最大,此時(shí)原料水在循環(huán)泵與堿箱間形成循環(huán)從而達(dá)到攪拌的目的。把堿箱蓋打開,將氫氧化鉀慢慢地倒入堿箱中;制氫裝置用的氫氧化鉀為分析純或優(yōu)級(jí)純,其包裝方式通常為500克瓶裝
42、,氫氧化鉀為雪白色片狀固體,配堿時(shí)操作者應(yīng)將瓶裝氫氧化鉀開蓋后緩慢倒入堿箱中,因剛開始配堿時(shí)原料水溫度較低,氫氧化鉀溶解較慢,為防止結(jié)塊操作者應(yīng)控制倒入的速度通常為1瓶/分,待溶液溫度升高后再大量倒入。堿液配置完畢后應(yīng)靜置12小時(shí)以利降溫及雜質(zhì)的沉淀(在靜置過(guò)程中,循環(huán)泵可保持運(yùn)行),靜置完畢后用比重計(jì)測(cè)量電解液的比重并依照附錄二氫氧化鉀比重表查出所對(duì)應(yīng)的濃度,如濃度未達(dá)到,則可先將配好的堿液打入系統(tǒng),在配置少量濃度較高的堿液打入系統(tǒng)。如果是配制濃堿(30%koh),還需要在剛完全溶解的溶液中加入堿液總量千分之二的五氧化二釩。電解液配置好后,按1.1.2中敘述方法將配好的堿液打入制氫系統(tǒng)至分離
43、器液位計(jì)四分之一處時(shí),關(guān)閉(j1040),停泵。警告:1. 制氫裝置用的氫氧化鉀必須采用分析純或優(yōu)級(jí)純,采用低純度的氫氧化鉀會(huì)對(duì)電解槽造成嚴(yán)重?fù)p害并影響氣體的質(zhì)量。分析純或優(yōu)級(jí)純的氫氧化鉀為雪白色片狀固體,如配堿時(shí)發(fā)現(xiàn)顏色異常,應(yīng)停止使用。2. 五氧化二釩為劇毒化學(xué)物品,在儲(chǔ)存、保管和使用等環(huán)節(jié)應(yīng)嚴(yán)格遵循國(guó)家的有關(guān)規(guī)定。注意:配堿過(guò)程中堿箱外壁帶有高溫,應(yīng)避免人體直接接觸,以免燙傷。 堿箱中的堿液不得長(zhǎng)期存放,一般不超過(guò)一個(gè)月,以防堿液被空氣污染、變質(zhì)。 表3 各型號(hào)設(shè)備所需電解液及氫氧化鉀、v2o5數(shù)量 型號(hào)名稱cndq5/3.2cndq10/3.2分析或優(yōu)級(jí)純氫氧化鉀(kg)4565電解液
44、(升)115160分析純 v2o5 kg0.30.431.4 氮?dú)獯祾叩獨(dú)獯祾叩哪康氖菫榱饲宄O(shè)備內(nèi)的氧氣,具體方法是:將制氫系統(tǒng)與外部連接的所有閥門關(guān)閉,內(nèi)部閥門全部打開,然后打開(j1010)、(j1110)向裝置內(nèi)充入氮?dú)?.0mpa,關(guān)閉(j1010)、(j1110)。通過(guò)氫氣手動(dòng)放空閥(j1012)、氧氣手動(dòng)放空閥(j1013)和(j1110),將裝置內(nèi)氮?dú)鉁p壓至0.10.2mpa。重復(fù)操作34次。1.5 檢查各閥門的狀態(tài) 打開系統(tǒng)的冷卻水進(jìn)口閥(q1132),所有的壓力表截止閥(j1020、j1021、j1120)及(q1020q1022)、(q1040q1041)和(j1040)
45、。其他閥門均處于關(guān)閉狀態(tài)。2 自控開機(jī)前的準(zhǔn)備2.1 氣源管路部分2.1.1 試壓及吹掃2.1.1.1 在試壓前應(yīng)對(duì)所有氣源管路進(jìn)行吹掃以清除管路內(nèi)殘留的泥沙、焊渣等雜物。吹掃順序?yàn)橄戎鳉庠垂苈泛笾庠垂苈?,具體方法是將相應(yīng)氣源管路的出口卸開,打開氣源進(jìn)口閥門通入潔凈的壓縮空氣,吹掃一定時(shí)間后,將一塊干凈的白色綢布(或白紙)至于氣源管路出口前2厘米處放置3分鐘,如綢布或白紙上無(wú)黑色印記表示管路已吹掃干凈,如有則繼續(xù)吹掃。2.1.1.2 對(duì)自控管路要用壓縮空氣進(jìn)行檢漏,方法是打開氣源進(jìn)口閥門,按2.1.2項(xiàng)的要求整定好壓力值后,用檢漏液檢查各接頭處是否有泄漏并處理。2.1.2 整定各部分的壓力值
46、接通氣源,看氣源壓力是否在正常值范圍,把指示氣源壓力的電接點(diǎn)壓力表下限報(bào)警值整定在0.4mpa,把供給電氣轉(zhuǎn)換器的空氣過(guò)濾減壓閥的壓力整定在0.4mpa,把供給氣動(dòng)球閥的空氣過(guò)濾減壓閥的壓力整定在0.5mpa(空氣過(guò)濾減壓器輸出壓力的整定通過(guò)旋轉(zhuǎn)減壓器頂部的調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)輪來(lái)進(jìn)行)。2.1.3 檢查各氣源管路連接是否正確 依照隨機(jī)提供的控制柜外接氣動(dòng)管路圖依次檢查各氣源管路連接是否正確,是否有堵塞的現(xiàn)象存在,并及時(shí)進(jìn)行處理。2.2 儀表部分2.2.1 控制柜內(nèi)接線的檢查控制柜經(jīng)長(zhǎng)途運(yùn)輸其內(nèi)部接線可能存在松動(dòng)的現(xiàn)象,調(diào)試前應(yīng)使用螺絲刀重新緊固一遍。完成后依照隨機(jī)提供的控制柜用戶圖冊(cè)使用萬(wàn)用表檢查各回路有
47、否短路故障;檢查各斷路器是否正常;檢查氣液處理器的接地電阻是否小于4。2.2.2 控制柜外接線的檢查循環(huán)泵開關(guān)置于“自動(dòng)”位置,加水泵開關(guān)置于“自動(dòng)”位置。2.2.3 合閘總電源。2.2.4 新裝置的堿液在未進(jìn)分離器之前,調(diào)整各儀表的零位。2.2.5 檢查氫氧分離器液位是否在適當(dāng)?shù)奈恢?,即分離器的液位要比控制的正常液位要低。2.2.6 把壓力聯(lián)鎖的壓力開關(guān)、氫閥后壓力開關(guān)、冷卻水壓力開關(guān)的參數(shù)整定值整定到規(guī)定數(shù)值。2.2.7 把氧槽溫聯(lián)鎖整定在92。2.2.8 檢查氫中氧分析儀一次表中的干燥劑、硼酸片及穩(wěn)流瓶中的水是否加好,開車后如發(fā)現(xiàn)干燥劑變成粉紅色,則需定期更換,硼酸片變潮變粘也要更換。1
48、.5 氫中氧分析儀、氧中氫分析儀的調(diào)試,詳見各自的使用說(shuō)明書。1.7 整流裝置的檢查與調(diào)試見可控硅整流裝置使用說(shuō)明書。1.8 仔細(xì)檢查整流變壓器各接頭及整流柜各回路,嚴(yán)防短路。1.9 檢查各極框之間,正負(fù)極銅排間有無(wú)短路或有金屬導(dǎo)體,發(fā)現(xiàn)后必須排除。3 裝置運(yùn)行 在上述準(zhǔn)備工作完成后,便可操作微機(jī)系統(tǒng)使設(shè)備運(yùn)行。3.1 開機(jī) 在工藝、自控和其他有關(guān)設(shè)備都完成開車前的準(zhǔn)備工作時(shí)進(jìn)行開機(jī)。開機(jī)后,通過(guò)調(diào)節(jié)(j1040)閥來(lái)調(diào)整循環(huán)量,制氫裝置系統(tǒng)堿液循環(huán)量參考表4:注意觀察壓力和氫、氧分離器液位,此時(shí)由于電解槽產(chǎn)生氣體,電解槽內(nèi)堿液含氣度增加,體積增大,大量的堿液進(jìn)入分離器,為防止分離器內(nèi)液位升得
49、過(guò)快過(guò)高,應(yīng)注意整流柜的輸出電壓,不要升得太快。整流柜處于“自動(dòng)”狀態(tài)時(shí),升壓過(guò)程受微機(jī)控制,如想手動(dòng)操作可轉(zhuǎn)到“手動(dòng)”狀態(tài),應(yīng)按3.2節(jié)進(jìn)行操作。表4 制氫裝置系統(tǒng)堿液循環(huán)量參考值型號(hào)cndq53.2cndq103.2堿液循環(huán)量m3/h0.30.450.450.653.2 整流柜的操作3.2.1 整流柜的手動(dòng)操作 將整流柜“自動(dòng)/手動(dòng)”轉(zhuǎn)換開關(guān)轉(zhuǎn)到“手動(dòng)”檔,將“穩(wěn)壓/穩(wěn)流”轉(zhuǎn)換開關(guān)轉(zhuǎn)至“穩(wěn)壓”檔,送上整流主電源,“主電源”指示燈亮按“觸發(fā)啟動(dòng)”按鈕,“觸發(fā)電源”指示燈亮,緩慢地按順時(shí)針?lè)较蛘{(diào)整“電壓給定”電位器,輸出電壓逐漸升高,分離洗滌液位高度將上升,此時(shí)應(yīng)與控制柜操作人員聯(lián)系,按控制柜
50、操作人員要求調(diào)節(jié)輸出電壓,當(dāng)輸出電壓達(dá)到額定值時(shí),停止調(diào)節(jié)輸出電壓。隨著運(yùn)行時(shí)間的增加,槽溫逐漸上升,電流隨之上升,當(dāng)電流達(dá)到額定值時(shí),將“電壓給定”電位器反時(shí)針調(diào)至零位,按“觸發(fā)停止”按鈕,然后把“穩(wěn)壓穩(wěn)流”開關(guān)轉(zhuǎn)至“穩(wěn)流”檔,按“觸發(fā)啟動(dòng)”按鈕,調(diào)“電流給定”電位器,調(diào)輸出電流至額定值,操作程序以整流柜說(shuō)明書為準(zhǔn)。3.2.2 整流柜的自動(dòng)操作 將整流柜“自動(dòng)手動(dòng)”轉(zhuǎn)換開關(guān)轉(zhuǎn)到“自動(dòng)”檔,按“觸發(fā)啟動(dòng)”按鈕,當(dāng)自動(dòng)運(yùn)行時(shí),整流柜輸出電流在微機(jī)內(nèi)手動(dòng)調(diào)節(jié),直至額定值。3.3 對(duì)新的制氫裝置稀堿試車時(shí),根據(jù)裝置運(yùn)行情況可對(duì)參數(shù)(前面已設(shè)定的)進(jìn)行調(diào)整。3.4 氣體純度分析 裝置正常運(yùn)行后,可進(jìn)行
51、氣體純度分析,其操作為分別打開(df1010df1011)。詳細(xì)操作方法見氧分析儀使用說(shuō)明書和氫分析儀使用說(shuō)明書。3.5 稀堿試車 稀堿試車一般在24小時(shí)以內(nèi),是為了進(jìn)一步清洗電解槽,通過(guò)過(guò)濾器去掉系統(tǒng)內(nèi)殘存的機(jī)械雜質(zhì),操作條件控制在額定工作壓力,槽溫85,電流為額定電流的60%左右。試車完畢后即可停機(jī)。3.6 停機(jī)裝置的停機(jī)應(yīng)執(zhí)行下列命令。a. 停整流柜b. 泄壓即通過(guò)操作微機(jī)使之先停整流柜,使裝置不再產(chǎn)生氫氣和氧氣,然后進(jìn)行泄壓,使系統(tǒng)壓力降為零。最后關(guān)閉循環(huán)泵、切斷控制柜、整流柜的電源、氣源、水源。3.7 裝置運(yùn)行時(shí)各主要參數(shù)均受到監(jiān)控,保證裝置安全運(yùn)行。表5中列出了各項(xiàng)參數(shù)的報(bào)警聯(lián)鎖點(diǎn)參考值,也可以根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)情況稍作調(diào)整。表5 各型制氫裝置控制系統(tǒng)參數(shù)設(shè)定參考值 型號(hào)規(guī)格cndq5103.2項(xiàng)目給定上限下限報(bào)警聯(lián)鎖報(bào)警聯(lián)鎖槽壓mpa3.2mpa3.43.5氫液位mm350停加水泵300加水泵500520160100氧液位mm500520160100槽溫859092堿液循環(huán)量m3/h0.250.15氣源壓力mpa0.70.43.8 當(dāng)需要緊急停機(jī)時(shí),只需按下控制柜上
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