2020-2021年光刻膠行業(yè)深度分析報告-已轉(zhuǎn)換

1、年光刻膠行業(yè)深度分析報告目錄 HYPERLINK l _TOC_250007 光刻膠 高精度光刻的關(guān)鍵1 HYPERLINK l _TOC_250006 光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域?qū)掗?，半?dǎo)體光刻膠尤為重要4 HYPERLINK l _TOC_250005 下游需求旺盛，光刻膠市場向好7 HYPERLINK l _TOC_250004 日韓美壟斷市場，光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫8 HYPERLINK l _TOC_250003 光刻膠領(lǐng)域重點海外公司12 HYPERLINK l _TOC_250002 光刻膠領(lǐng)域重點本土公司19 HYPERLINK l _TOC_250001 相關(guān)公司盈利預(yù)測和估值38 HYP

2、ERLINK l _TOC_250000 風(fēng)險提示39圖目錄圖 1：材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要支撐1圖 2：光刻機(jī)工藝操作圖1圖 3： ASML EUV（ TWINSCAN NXE:3350B）光刻機(jī)1圖 4：光刻過程示意圖2圖 5：光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈概要2圖 6：光刻膠組成成分3圖 7：正性 /負(fù)性光刻膠3圖 8：各類光刻膠市場份額占比5圖 9：各類半導(dǎo)體用光刻膠市場份額占比5圖 10：全球光刻膠市場規(guī)模及增速7圖 11：全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測7圖 12：中國光刻膠市場規(guī)模及增速7圖 13：全球面板需求面積及增速7圖 14：全球光刻膠市場格局8圖 15：國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值份額9圖 16：全球半導(dǎo)體

3、芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億美元）10圖 17：中國半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億元）10圖 18：全球光刻膠市場結(jié)構(gòu)12圖 19： i/g 型光刻膠市場結(jié)構(gòu)12圖 20：東京應(yīng)化發(fā)展歷程14圖 21： KrF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)14圖 22： ArF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)14圖 23：羅門哈斯發(fā)展歷程16圖 24：信越化學(xué)發(fā)展歷程17圖 25：富士電子材料發(fā)展歷程18圖 26：富士膠片業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)18圖 27：富士膠片醫(yī)療及材料業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)18圖 28：雅克科技營業(yè)收入（億元）21圖 29：雅克科技?xì)w母凈利潤（億元）21圖 30：雅克科技營收構(gòu)成（產(chǎn)品）21圖 31：雅克科技毛利率和凈利率21圖 32：南大光電營

4、業(yè)收入及其增長率24圖 33：南大光電凈利潤及其增長率24圖 34：南大光電毛利率與凈利率24圖 35：飛凱材料研發(fā)費用和研發(fā)人員增長27圖 36：飛凱材料專利數(shù)與行業(yè)對比27圖 37：飛凱材料營業(yè)收入（億元）28圖 38：飛凱材料歸母凈利潤（億元）28圖 39：飛凱材料毛利率和凈利率28圖 40：飛凱材料各產(chǎn)品毛利（億元）28圖 41：強(qiáng)力新材專利獲取情況（個）31圖 42：強(qiáng)力新材研發(fā)投入逐年增加31圖 43：強(qiáng)力新材營業(yè)收入（億元）31圖 44：強(qiáng)力新材營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)）31圖 45：強(qiáng)力新材毛利率與凈利率31圖 46：強(qiáng)力新材歸母凈利潤31圖 47：強(qiáng)力新材營收分布（產(chǎn)品）32圖 48：

5、強(qiáng)力新材各產(chǎn)品毛利率32圖 49：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（產(chǎn)品）34圖 50：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)）34圖 51：晶瑞股份營業(yè)收入（億元）35圖 52：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)）35圖 53：晶瑞股份毛利率與凈利率35圖 54：晶瑞股份各產(chǎn)品毛利率35表目錄表 1：相關(guān)公司盈利預(yù)測與估值（更新至2020 年 4 月 23 日收盤價）2表 2：重點公司核心邏輯2表 3：光刻膠種類2表 4：光刻膠主要技術(shù)參數(shù)3表 5：光刻膠按下游應(yīng)用分類4表 6：半導(dǎo)體光刻膠類型4表 7： IC 集成度與光刻技術(shù)發(fā)展歷程5表 8：光刻膠企業(yè)材料量產(chǎn)與研發(fā)情況9表 9：光刻膠國產(chǎn)化情況11表 10：海外光刻膠龍頭公司12

6、表 11： JSR 業(yè)務(wù)詳細(xì)分類13表 12：東京應(yīng)化產(chǎn)品線15表 13：羅門哈斯光刻膠產(chǎn)品16表 14：信越化學(xué)產(chǎn)品線17表 15：國內(nèi)光刻膠公司19表 16：雅克科技發(fā)展沿革20表 17：雅克科技參股公司20表 18：雅克科技盈利預(yù)測21表 19：雅克科技收入拆分與預(yù)測22表 20：南大光電發(fā)展沿革23表 21：南大光電各產(chǎn)品毛利率24表 22：南大光電盈利預(yù)測24表 23：南大光電盈利預(yù)測25表 24：南大光電收入拆分與預(yù)測25表 25：飛凱材料盈利預(yù)測28表 26：飛凱材料收入拆分與預(yù)測29表 27：強(qiáng)力新材產(chǎn)品體系30表 28：強(qiáng)力新材盈利預(yù)測32表 29：強(qiáng)力新材收入拆分與預(yù)測33

7、表 30：晶瑞股份發(fā)展沿革34表 31：晶瑞股份收入拆分與預(yù)測36表 32：晶瑞股份盈利預(yù)測37光刻膠高精度光刻的關(guān)鍵在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，上游微電子材料和設(shè)備是支撐該行業(yè)的關(guān)鍵部分。上游微電子材料包括半導(dǎo)體制造過程中用到的所有化學(xué)材料，包括硅片、光刻膠及輔助材料、光掩模、CMP拋光材料、工藝化學(xué)品、濺射靶材、特種氣體等。其中，光刻膠是占據(jù)極其重要地位的關(guān)鍵原材料。由于中高端光刻膠的相關(guān)生產(chǎn)技術(shù)目前主要掌握在日本手中，我國已加大政策扶持力度，力求加速在光刻膠領(lǐng)域的國產(chǎn)替代進(jìn)程。硅片通信光掩模計 算機(jī)光刻膠晶圓制造材料光電? 器件、 分立器件、 傳感器消費電 ?光刻膠 輔助材料汽 車CMP 拋光材料

8、物 聯(lián)?半導(dǎo) 體材料 ? 業(yè)半導(dǎo)體? 業(yè)終 端應(yīng)用領(lǐng)域? 藝 化學(xué)品醫(yī) 療IC 設(shè)計靶材政府封裝材料集成 電路（ IC ）IC制造電? 特 ?軍事IC 封測其他資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院，中信建投證券研究發(fā)展部光刻是將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片上，為后續(xù)刻蝕工藝做準(zhǔn)備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時最長、難度最大的工藝之一，耗時占IC 制造 50% ，成本占 IC 制造 1/3 。在一次芯片制造中，往往要對硅片進(jìn)行上十次光刻，其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，通過

9、顯影后，被曝光的光刻膠將被去除，電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過刻蝕工藝，實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。圖 2：光刻機(jī)工藝操作圖圖 3： ASML EUV （ TWINSCAN NXE:3350B）光刻機(jī)圖 1：材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要支撐資料來源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源： ANANDTECH 官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對光刻精度至關(guān)重要。光刻膠是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。由于光刻膠具有光化學(xué)敏感性和防腐蝕的保護(hù)作用，因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工

10、藝，可以將微細(xì)電路圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是技術(shù)壁壘高，不可替代，難以保存。資料來源：芯頻道，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠按照應(yīng)用場景不同可分為半導(dǎo)體光刻膠、LCD光刻膠、 PCB光刻膠。 光刻膠處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的材料環(huán)節(jié)，上游為基礎(chǔ)化工材料和精細(xì)化學(xué)品行業(yè)，中游為光刻膠制備環(huán)節(jié)，下游為半導(dǎo)體制造，最后市場是電子產(chǎn)品應(yīng)用終端。表 3：光刻膠種類光刻膠分類圖 5：光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈概要半導(dǎo)體光刻膠LCD 光刻膠PCB 光刻膠細(xì)分品種i 線光刻膠g 線光刻膠KrF 光刻膠ArF 光刻膠彩色濾光片用彩色光刻膠及黑色光刻膠LCD/TP 襯墊料光刻膠TFT-LCD 中 Array 用光

11、刻膠干膜光刻膠濕膜光刻膠光成像阻焊油墨圖 4：光刻過程示意圖資料來源：晶瑞股份招股說明書，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核心部分，它對光形式的輻射能，特別是在紫外區(qū)光的輻射能會發(fā)生反應(yīng)；曝光時間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都和感光劑的特性直接相關(guān)。溶劑是光刻膠中容量最大的成分；因為感光劑和添加劑都是固態(tài)物質(zhì)，為了將他們均勻地涂覆，要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解，形成液態(tài)物質(zhì)，且使之具

12、有良好的流動性，可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些特性，如可以通過添加染色劑來改善光刻膠，使其發(fā)生反射。光刻膠的品種多種多樣，基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，按技術(shù)可分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型三種。另外，正性和負(fù)性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類，光照后形成可溶物質(zhì)的為正性膠，形成不可溶物質(zhì)的為負(fù)性膠。由于性能較優(yōu)，正性光刻膠應(yīng)用更廣，但由于光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有一定的應(yīng)用市場。資料來源：強(qiáng)力電子官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源：強(qiáng)力電子官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠最為重要的技術(shù)指標(biāo)包括分辨度、對比度、敏感度。優(yōu)秀的光刻膠必須具備高分辨度、高敏感度和高對比度

13、，以保證能將精密的圖像從掩模版轉(zhuǎn)移到硅片上。另外，光刻膠的技術(shù)要求高，所有的技術(shù)指標(biāo)都必須達(dá)標(biāo)，因此除上述三個硬性指標(biāo)外，好的光刻膠還必須具有強(qiáng)蝕刻阻抗性、高純度、低溶解度、高粘附性、小的表面張力、低成本、長壽命周期以及較高的玻璃化轉(zhuǎn)換溫度。光刻膠有以下主要技術(shù)參數(shù)：表 4：光刻膠主要技術(shù)參數(shù)技術(shù)參數(shù)分辨率對比度敏感度簡介指光刻膠可再現(xiàn)圖形的最小尺寸一般用關(guān)鍵尺寸（CD ， Critical Dimension）來衡量分辨率形成的關(guān)鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度對比度越好，形成圖形的側(cè)壁越陡峭，分辨率越好光刻膠上產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的最小能量值（

14、或最小曝光量） 單位：毫焦 / 平方厘米 mJ/cm2光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光（DUV ）、極深紫外光（EUV ）尤為重要粘滯性 /黏度粘附性抗蝕性表面張力衡量光刻膠流動特性的參數(shù)，光刻膠中的溶劑揮發(fā)會使粘滯性增加高的粘滯性會產(chǎn)生厚的光刻膠，小的粘滯性帶來均勻的光刻膠厚度指光刻膠與晶圓之間的粘著強(qiáng)度，光刻膠的粘附性不足會導(dǎo)致硅片表面的圖形變形光刻膠黏膜必須保持它的粘附性，并在后續(xù)的濕刻和干刻中保護(hù)襯體表面，這種性質(zhì)被稱為抗蝕性液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間的吸引力光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋能力圖 6：光刻膠組成成分圖 7：正性 /負(fù)性光刻

15、膠資料來源： IC 智庫，汶顥股份，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域?qū)掗?，半?dǎo)體光刻膠尤為重要光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大。在光刻膠不斷發(fā)展進(jìn)步的過程中，衍生出非常多的種類， 按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，光刻膠可以劃分為半導(dǎo)體用光刻膠、液晶顯示 (LCD) 用光刻膠、 印刷電路板 (PCB)用光刻膠、 其他用途光刻膠。其中， PCB 光刻膠壁壘相對較低，而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)最先進(jìn)水平。主要類型半導(dǎo)體用光刻膠LCD 光刻膠PCB 光刻膠細(xì)分分類g 線光刻膠、 i 線光刻膠、 KrF 光刻膠、 ArF 光刻膠等彩色光刻膠、黑色光刻膠、LCD/TP 襯墊料光刻膠、TFT-L

16、CD 中 Array 用光刻膠等干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨等資料來源：晶瑞股份招股說明書，中信建投證券研究發(fā)展部半導(dǎo)體光刻膠半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長的不同來分類。常用曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜 （ 300 450nm ）、G 線（ 436nm ）、 I 線（ 365nm ）、深紫外（ DUV ，包括 248nm 和 193nm ）和極紫外（EUV ），相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生。不同的光刻膠中，根據(jù)不同的需求，關(guān)鍵配方成份如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑等也有所不同，使得光刻膠有不同的性能，進(jìn)而能夠滿足相應(yīng)的需求。目前主要的光刻膠有G 線光刻膠、 I 線光刻膠、K

17、rF 光刻膠和ArF 光刻膠四種，其基本信息如下所示。表 6：半導(dǎo)體光刻膠類型KrF 線光刻膠248nm 激光光源193nm激光光源KrF制作 0.25-0.15 m 的集成電路正膠負(fù)膠都有ArFArF 線光刻膠ArF 干法制作65-130nm的 IC，ArF 浸濕法對應(yīng) 45nm 以下 IC正膠聚對羥基苯乙烯及其衍生物和光致產(chǎn)酸劑聚脂環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物和光致產(chǎn)酸劑表 5：光刻膠按下游應(yīng)用分類光刻膠種類曝光光源作用光刻膠類型主要原料G 線光刻膠436nm G線制作0.5 m 以上的集成電路以正膠為主酚醛樹脂和重氮萘醌化合物I 線光刻膠365nm I線制作0.5-0.35 m 的集成電路以正

18、膠為主酚醛樹脂和重氮萘醌化合物資料來源： IC 智庫，中信建投證券研究發(fā)展部為滿足更高集成度更精密的集成電路制造，必須采用更短波長的光源，半導(dǎo)體光刻膠也需做出適應(yīng)性改變。隨著 IC 集成度的提高，世界集成電路的制程工藝水平已由微米級、亞微米級、深亞微米級進(jìn)入到納米級階段。光的波長對圖形精細(xì)化轉(zhuǎn)移有著至關(guān)重要的作用，因為它會影響感光材料分辨率。波長越短，則分辨率越高。為適應(yīng)集成電路線寬不斷縮小的要求，光刻膠的波長由紫外寬譜向G 線(436nm) I 線(365nm) KrF(248nm) ArF(193nm) F2(157nm) EUV （ 64G技術(shù) /m1.20.80.50.350.250.

19、180.130.1 0.07注：ArF 193nm光刻技術(shù)PXL近 X- 射線技術(shù)G 線 436nm光刻技術(shù)F2 157nm光刻技術(shù)IPL離子投影技術(shù)I 線 365nm光刻技術(shù)RET光網(wǎng)增強(qiáng)技術(shù)EUV超紫外線技術(shù)KrF 248nm光刻技術(shù)EPL電子投影技術(shù)EBOW電子書直寫技術(shù)資料來源：美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源： IC 智庫，中信建投證券研究發(fā)展部LCD 光刻膠在 LCD 面板制造領(lǐng)域，光刻膠也是極其關(guān)鍵的材料。 根據(jù)使用對象不同，可分為 RGB 膠（彩色膠） 、BM 膠（黑色膠） 、OC 膠、PS 膠、TFT 膠等。 光刻工藝包含表面準(zhǔn)備、 涂覆光刻膠、 前烘、 對

20、準(zhǔn)曝光、 顯影、 堅膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、最終檢查等步驟，以實現(xiàn)圖形復(fù)制轉(zhuǎn)移，制造特定微結(jié)構(gòu)。下面通過彩色LCD 面板的顯示原理來說明LCD 光刻膠在LCD 屏中是如何應(yīng)用的。由于 LCD 是非主動發(fā)光器件，因此其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源，通過驅(qū)動器與控制器形成灰階顯示，再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍(lán)三基色， 依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。然而，彩色濾光片的產(chǎn)生，必須由光刻膠來完成。彩色濾光片是由玻璃基板、黑色矩陣、顏色層、保護(hù)層及ITO 導(dǎo)電膜構(gòu)成。其中，顏色層（Color ）主要由三原色光刻膠分別經(jīng)涂布、曝光、 顯影形成， 是彩色濾光片最主要的部分。黑色矩陣

21、（ Black Matrix ，簡稱 BM ） 是由黑色光刻膠作用形成的模型，作用為防止漏光。光刻膠質(zhì)量的好壞將直接影響到濾光片的顯色性能。除了彩色光刻膠和黑色光刻膠之外，TFT Array 正性光刻膠也非常重要，其主要用于TFT-LCD 制程中的Array段，主導(dǎo)TFT 設(shè)計的圖形轉(zhuǎn)移，其解析度、熱穩(wěn)定性、剝膜性、抗蝕刻能力都優(yōu)于負(fù)性光刻膠。目前LCD光刻膠市場基本被日韓公司所占領(lǐng)。平板顯示器領(lǐng)域，TFT-LCD （薄膜晶體管液晶顯示器）是市場的主流， 彩色濾光片是TFT-LCD實現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件，占面板成本的15% 左右； 彩色光刻膠和黑色光刻膠是制備彩色濾光片的核心材料，占彩色濾光片

22、成本的27%左右。 TFT-LCD用光刻膠技術(shù)壁壘較高，市場基本被如 JSR、住友化學(xué)、三菱化學(xué)等日韓公司占領(lǐng)，占有率可達(dá)90% 。PCB 光刻膠PCB 光刻膠是PCB 制造過程的關(guān)鍵材料。PCB 光刻膠主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠和阻焊油墨。其中,干膜光刻膠被廣泛應(yīng)用在PCB 制造過程中。 干膜光刻膠作用原理如下所述：在加熱加壓的條件下將干膜光刻膠壓合在覆銅板上，通過曝光、 顯影將底片 (掩膜板或陰圖底版) 上的電路圖形復(fù)制到干膜光刻膠上，再利用干膜光刻膠的抗蝕刻性能，對覆銅板進(jìn)行蝕刻加工，最終形成印制電路板的精細(xì)銅線路。PCB 光刻膠面臨產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整，需求不斷增大。PCB 光刻膠行業(yè)不斷

23、面臨技術(shù)提升和產(chǎn)品升級，濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價格更低廉，正在對干膜光刻膠的部分市場進(jìn)行替代。根據(jù)輻射固化委員會的數(shù)據(jù)，2013年我國濕膜光刻膠的應(yīng)用比例為35% ，需求量為3.2 萬噸。該委員會進(jìn)一步預(yù)測，我國濕膜光刻膠需求增速將達(dá)到 6% ， 2017 年我國濕膜光刻膠的需求量達(dá)到4.1 萬噸。根據(jù)容大感光招股說明書，PCB 光刻膠平均銷售單價約為 3.2 萬元 /噸（不含稅） ，測算2017 年中國濕膜光刻膠市場規(guī)模達(dá)到15 億元。中國己成為全球最大的PCB 光刻膠生產(chǎn)基地，內(nèi)資企業(yè)崛起。隨著 PCB 光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展， 2015 年我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值達(dá)12.

24、6 億美元，占全球市場份額高達(dá)70% 。根據(jù)容大感光招股書，包括容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達(dá)等在內(nèi)的內(nèi)資企業(yè)占據(jù)國內(nèi)46%左右濕膜光刻膠和光成像阻焊油 墨市場份額。2015 年我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值全球占比已超過我國PCB 產(chǎn)值的全球占比，中國已從完全進(jìn)口PCB 光刻膠向PCB 光刻膠出口大國的角色轉(zhuǎn)變。目前國內(nèi)PCB 光刻膠供給以在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化逐步推進(jìn)。下游需求旺盛，光刻膠市場向好光刻膠市場前景向好，保持較好上升勢頭。在半導(dǎo)體、 LCD 、PCB 等需求持續(xù)擴(kuò)大的拉動下，光刻膠市場將持續(xù)擴(kuò)大。2018 年全球光刻膠市場規(guī)模為85 億美元， 2014-2018 年復(fù)合增

25、速約5%。根據(jù)IHS 數(shù)據(jù)，未來光刻膠市場規(guī)模復(fù)合增速有望維持5% 。疊加光刻膠國產(chǎn)化趨勢，我們認(rèn)為本土光刻膠企業(yè)將充分受益。國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模穩(wěn)定增長，從2011 年到 2018 年復(fù)合增長率達(dá)12%，2018 年國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模約為62.3 億元。 在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，近年來全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模不斷擴(kuò)大，并且隨著5G 全面鋪開，物聯(lián)網(wǎng)和手機(jī)對芯片的需求持續(xù)增大，半導(dǎo)體光刻膠市場在未來也會穩(wěn)步上升。全球光刻膠市場規(guī)模增速全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模增速9080706050403020100億美元6%25億美元12%5%2010%4%158%3%6%2%104%1%52%0%00%20142

26、0152016201720182016201720182019 2020E2021E2022E2023E資料來源： IHS，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源：新材料在線，中信建投證券研究發(fā)展部LCD 面板、 PCB 市場增長進(jìn)一步拉動LCD 和 PCB 光刻膠需求。在 LCD 光刻膠領(lǐng)域，隨著全球面板市場穩(wěn)步上升， 產(chǎn)能向大陸轉(zhuǎn)移，催生 LCD 光刻膠需求增長。據(jù) IHS 2019 年 6 月發(fā)布的數(shù)據(jù)， 2019 年全球TFT-LCD和 OLED 整體平板顯示容量約為3.34 億平方米， 2023 年有望上升至3.75 億平方米，其中，TFT-LCD面板市場容量約為3.09 億平方米， 未來需

27、求將穩(wěn)步增長。而在 PCB 領(lǐng)域， 長年以來， 中國 PCB 產(chǎn)值增速持續(xù)領(lǐng)跑全球，全球市場份額不斷提升。根據(jù)預(yù)測，有望達(dá)到311.0 億美元。受益于我國2015-2020 年中國PCB 產(chǎn)值年復(fù)合增長率為3.5% ， 2020 年中國PCB 產(chǎn)值PCB 產(chǎn)業(yè)景氣度持續(xù)，我國PCB 光刻膠市場規(guī)模將穩(wěn)速增長。圖 12：中國光刻膠市場規(guī)模及增速圖 13：全球面板需求面積及增速中國光刻膠市場規(guī)模增速需求面積增速706050403020100億元18%16%14%12%10%8%6%4%2%0%300百萬平方米25020015010012%10%8%6%4%2%5000%-2%20112012201

28、32014201520162017 20182017201820192020E 2021E 2022E 2023E圖 10：全球光刻膠市場規(guī)模及增速圖 11：全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源： IHS ，中信建投證券研究發(fā)展部日韓美壟斷市場，光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫光刻膠市場遭日韓美公司壟斷光刻膠市場主要由日韓美公司壟斷，大陸企業(yè)市占率不足10% 。光刻膠屬于高技術(shù)壁壘材料，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，純度要求高，需要長期積累。由于技術(shù)壁壘高并且要與光刻設(shè)備協(xié)同研發(fā)，光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭競爭的格局。根據(jù)現(xiàn)代化工數(shù)據(jù)，目前全球前五大光刻膠廠商占據(jù)全球約87%的市

29、場份額。其中，日本光刻膠公司龍頭領(lǐng)跑，日本JSR、東京應(yīng)化、日本信越、富士電子材料市占率合計達(dá)72% ，大陸企業(yè)市場份額不足10% 。日本合成橡膠東京應(yīng)化羅門哈斯日本信越富士電子材料其他13%28%10%13%21%15%圖 14：全球光刻膠市場格局資料來源：現(xiàn)代化工，中信建投證券研究發(fā)展部半導(dǎo)體光刻膠市場被日本企業(yè)壟斷。目前，在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（ TOK ）、羅門哈斯、日本信越、富士材料等頭部廠商壟斷。其中，在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，全球的EUV 和 ArF 光刻膠主要是JSR、陶氏、信越化學(xué)等供應(yīng)商，份額最大的是JSR、信越化學(xué)，TOK 也有研發(fā)

30、。LCD 光刻膠市場由日韓企業(yè)主導(dǎo)。全球 LCD 光刻膠市場，RGB 和 BM 光刻膠核心技術(shù)由日韓企業(yè)壟斷。LCD 光刻膠的核心技術(shù)為高分子顏料的制備和生產(chǎn)，技術(shù)主要掌握在Ciba 等日本顏料廠商手中。其中RGB 光刻膠的主要生產(chǎn)商有JSR、住友化學(xué)、 三菱化學(xué)、 LG 化學(xué)等； 黑色光刻膠主要生產(chǎn)商有東京應(yīng)化、新日鐵化學(xué)、三菱化學(xué)、 CHEIL 、ADEKA等，幾家占到全球總產(chǎn)量90% ；TFT Array 正性光刻膠供應(yīng)商主要有日本東京應(yīng)化（ TOK ）、美國羅門哈斯(Rohm&Haas) 、德國默克公司、韓國AZ 、DONGJINSEMICHEM和臺灣永光化學(xué)；OC光刻膠主要供應(yīng)商有J

31、SR、 JNC 、LGC 、三星、科隆等；PS 光刻膠主要有JSR、 CMC 、三星、 LGC 、TNP 等。我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值占全球市場七成，但多為外資企業(yè)在華建廠。2002 年起外企開始在華布局建廠，打破我國 PCB 光刻膠全部依賴進(jìn)口的局面。PCB 光刻膠應(yīng)用初期，市場集中度較高，供應(yīng)商多為日本、臺灣地區(qū)及歐美企業(yè)。 2002 年以前， 我國干膜光刻膠及光成像阻焊油墨完全依賴進(jìn)口，本土供給為零。此后， 受益于 PCB行業(yè)在中國大陸高速發(fā)展，PCB 光刻膠龍頭如臺灣長興化學(xué)、日本旭化成、日本日立化成、美國杜邦等開始瞄準(zhǔn)中國大陸市場， 陸續(xù)在內(nèi)地建廠。 但是目前國內(nèi)PCB 光刻膠供給以

32、在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化推進(jìn)仍在繼續(xù)。產(chǎn)業(yè)地位至關(guān)重要，光刻膠國產(chǎn)化勢在必行。參考 2019 年 7 月份日韓貿(mào)易沖突事件，日本在2019 年 7 月1 日突然宣布限制向韓國出口包括光刻膠在內(nèi)的半導(dǎo)體材料。這三種原材料很難短時間在其他國家找到替代供應(yīng)商，但同時又是面板、存儲器生產(chǎn)中極其關(guān)鍵的材料，韓國面臨的窘迫處境使人深思，更應(yīng)該激發(fā)我國對光刻膠等關(guān)鍵原材料獨立自主開發(fā)的重要性的認(rèn)知。光刻膠技術(shù)在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，國產(chǎn)替代勢在必行。國產(chǎn)光刻膠技術(shù)遠(yuǎn)落后于國外我國光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展滯后于下游產(chǎn)業(yè)發(fā)展，與國外差距大。近幾年全球消費電子產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、光電產(chǎn)業(yè)向我國轉(zhuǎn)移的趨勢愈加明顯，隨著下游產(chǎn)品

33、PCB、LCD 、半導(dǎo)體等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，國內(nèi)市場對于LCD 、半導(dǎo)體的需求迅猛增加。但是，我國光刻膠行業(yè)起步時間較晚，應(yīng)用結(jié)構(gòu)較為單一，主要集中于PCB 光刻膠。公司地區(qū)TFT-LCD厚膜膠i 線KrFArF（ 248nm ）（193nm ）ArFimmersionE-beamEUV資料來源：中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會，中信建投證券研究發(fā)展部國產(chǎn)光刻膠以PCB 光刻膠為主， 半導(dǎo)體和LCD 光刻膠自給率極低，原材料依賴進(jìn)口。國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中，PCB 光刻膠占比高達(dá)95%，半導(dǎo)體光刻膠、LCD 光刻膠占比都僅有根據(jù)信越官網(wǎng)數(shù)據(jù)，2%。2015 年中國光刻膠行業(yè)前五大外資廠商市占率達(dá)春化工。相較之下，中

34、國企業(yè)份額不足89.7% ，分別為臺灣長興化學(xué)、日立化成、日本旭化成、美國杜邦、臺灣長10% ，半導(dǎo)體光刻膠和LCD 光刻膠都嚴(yán)重依賴進(jìn)口。雖然目前光刻膠的國產(chǎn)化正在加速， 但半導(dǎo)體和LCD 高端光刻膠與國外有較大差距。并且，國產(chǎn)光刻膠很多原材料也依賴于進(jìn)口。圖 15：國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值份額PCB 光刻膠半導(dǎo)體光刻膠LCD光刻膠其他2%1%2%95%表 8：光刻膠企業(yè)材料量產(chǎn)與研發(fā)情況合成橡膠日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)東京日化日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)Dow美國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)信越化工日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)富士電子日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)住友化工日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量

35、產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)AZ美國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)Dongjin韓國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)Everlight中國臺灣量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)北京科華中國量產(chǎn)研發(fā)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)蘇州瑞紅中國量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)資料來源：新材料在線，中信建投證券研究發(fā)展部多因素導(dǎo)致我國半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)落后于國外水平半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)差距明顯，造成與國際先進(jìn)水平差距的原因很多。過去由于我國在規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是重生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了最重要的基礎(chǔ)材料、設(shè)備與應(yīng)用研究。相比之下，日本重視向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈縱深發(fā)展，積極研發(fā)光刻膠，全球前10 名光刻膠企業(yè)中有7 家來自日本，包括日立化成、東京應(yīng)化、三菱化學(xué)、旭化成、 住友電木、

36、住友化學(xué)、 富士膠片， 合占全球市場60%以上份額。光刻膠成分復(fù)雜、制備難度大， 自主研發(fā)難度高。光刻膠的研發(fā)關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑、添加劑等，開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多，需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計和優(yōu)化、 產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面調(diào)整，自主研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)難度非常之高。光刻膠質(zhì)量依賴于上游原材料，但高端光刻膠原材料被高度壟斷。光刻膠的上游包括基礎(chǔ)化工材料和精細(xì) 化學(xué)品行業(yè)。目前國內(nèi)廠家更多掌握的是低端光刻膠，如PCB 光刻膠，

37、但193nm （ ArF ）等高端光刻膠所需的精細(xì)化學(xué)品短時間內(nèi)不能自給自足，例如樹脂。由于高端光刻膠所需的原材料仍被國際廠商高度壟斷，我國只能進(jìn)口，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)在啟動ArF 光刻膠項目時，仍需要承受原材料被封鎖的風(fēng)險。分析發(fā)現(xiàn)，國際光刻膠龍頭的商業(yè)模式都是在發(fā)展光刻膠產(chǎn)品的同時，向上游原材料領(lǐng)域拓展，已基本能做到光刻膠生產(chǎn)自給自足，其最終目的是通過覆蓋更全面的產(chǎn)業(yè)鏈降低被他國封鎖和制裁的風(fēng)險。目前國內(nèi)廠商也在考慮更加周密謹(jǐn)慎的商業(yè)模式，例如上海新陽選擇與合作伙伴同時開發(fā)關(guān)鍵原材料以確保ArF 項目的原材料供應(yīng)不至于斷裂。下游廠商對光刻膠選擇謹(jǐn)慎保守，后發(fā)廠商切入供應(yīng)鏈有一定難度。光刻膠

38、壁壘高并且對后續(xù)質(zhì)量保障要 求很高，雖然在集成電路制造中光刻成本不高，但其耗費時間可長達(dá)整個制造過程的40%-50% ，足見光刻的技術(shù)難度以及對后續(xù)質(zhì)量保障的重要程度，這導(dǎo)致下游廠商在使用光刻膠時非常謹(jǐn)慎?？紤]到光刻膠的質(zhì)量不好會導(dǎo)致后續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量被嚴(yán)重影響，即使對高端光刻膠有著高需求，客戶也更愿意選擇高質(zhì)量低風(fēng)險的外商而不愿切換為新興的國產(chǎn)品牌。即使切換，由于下游廠商對光刻膠驗證周期長、過程不確定性大，一經(jīng)合作成功，通常將不再輕易更換新廠家，這極可能造成光刻膠市場先行者為大，后來者很難切入供應(yīng)鏈的情況。因此，光刻膠國產(chǎn)替代面臨外憂內(nèi)患的局面，即國產(chǎn)廠家對外需要對抗實力強(qiáng)勁的外商，對內(nèi)要應(yīng)對殘酷

39、的市場競爭。國產(chǎn)光刻膠雖有突破，但離穩(wěn)定商用仍有距離。我國化工原料品種齊全，可為光刻膠產(chǎn)業(yè)提供充足和價格低廉的基礎(chǔ)原料，但由于資金和技術(shù)差距，光刻膠原料如引發(fā)劑、增感樹脂等被外資壟斷。近年來，盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破，但國產(chǎn)光刻膠距離商用仍有很長的路要走。目前，國外阻抗已達(dá)到15 次方以上，而國內(nèi)企業(yè)只能做到10 次方，難以滿足客戶的產(chǎn)品要求。即使有的產(chǎn)品工藝達(dá)標(biāo)了，批次穩(wěn)定性也不好。圖 16：全球半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億美元）圖 17：中國半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億元）資料來源： Wind ，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源： Wind ，中信建投證券研究發(fā)展部光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程加速

40、國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)尚不成熟，但已奮起直追。國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)商主要生產(chǎn)PCB 光刻膠，半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠生產(chǎn)規(guī)模相對較小。我國光刻膠生產(chǎn)企業(yè)包括：蘇州瑞紅、北京科華、濰坊星泰克、永太科技、容大感光、飛凱材料、南大光電、上海新陽等。其中，北京科華承擔(dān)了KrF(248nm) 光刻膠產(chǎn)業(yè)化課題，目前已完成年產(chǎn)能 10 噸 248nm KrF 光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)，193nm ArF 干法光刻膠中試產(chǎn)品也已完成在國內(nèi)一流集成電路制造企業(yè)的測試。 南大光電已設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn) “ ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前南大廣電的第一條ArF 產(chǎn)線已

41、完成安裝，正處于調(diào)試階段。表 9：光刻膠國產(chǎn)化情況主要類型細(xì)分類型國內(nèi)規(guī)模（億元）年增速國產(chǎn)化進(jìn)程半導(dǎo)體光刻膠g/i 線光刻膠2約 15%自給率 10% ，北京科華 2000 萬元銷售， 其余來自臺灣和日本。晶瑞股份目前不到百萬元銷售幾乎全部進(jìn)口，國內(nèi)北京科華248nm 通過中芯國際KrF/ArF 光刻膠(248/193nm)5約 20%LCD 觸摸屏用光刻膠1.1-1.510%認(rèn)證，其他處于研發(fā)階段，193nm項蘇州瑞紅（晶瑞股份子公司）占30%-40% ，其他： 臺灣新應(yīng)材及臺灣凱陽僅有北京科華立LCD 光刻膠TFT 正性光刻膠寬 譜 g/i/h 線(365/405/433nm)5-610

42、%LED 光刻膠2-30.25飛凱材料產(chǎn)能在建階段大部分靠進(jìn)口，國內(nèi)自由基引發(fā)劑以久日新材為主，陽離子引發(fā)劑銷售以強(qiáng)力新材為主硫化橡膠類光刻膠0.310-15%用于 4-5 寸分立器件，北京科華占占 60%40% ，蘇州瑞紅PCB 光刻膠干膜光刻膠32.17-8%容大感光、廣信材料、田菱化工、東方材料、北京力拓達(dá)等內(nèi)資企業(yè)占據(jù)國內(nèi)46% 左右濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額濕膜光刻膠光固化阻焊油墨 彩色和黑色光刻膠2017.255-6%7-9%0.1幾乎進(jìn)口，國內(nèi)永太科技處于項目建設(shè)階段資料來源：中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會，中信建投證券研究發(fā)展部我國素來大力支持半導(dǎo)體發(fā)展，戰(zhàn)略規(guī)劃和財政扶持文件發(fā)布

43、頻繁。為了應(yīng)對中美半導(dǎo)體爭端，扶持國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，從 2000 年夏天發(fā)布的 18 號文件（又稱 鼓勵軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策）開始，國家就通過發(fā)布各種政策來支持國內(nèi)廠商發(fā)展。這些政策通過減稅、補(bǔ)貼等方式幫助國產(chǎn)廠商在與美日韓臺廠商的競爭中獲得了部分價格優(yōu)勢。從2016 年起，相關(guān)半導(dǎo)體扶持政策更是密集出臺。在光刻膠領(lǐng)域，政策紅利同樣是巨大的，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)錯綜復(fù)雜，環(huán)環(huán)相扣，國產(chǎn)廠商也在可承受范圍內(nèi)試圖擴(kuò)大對國產(chǎn)光刻膠的使用程度。中國制造2025中提出要穩(wěn)步加強(qiáng)對集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，而國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要中更是明確提出了推動集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的四大任務(wù)，其中之一就是突破集成

44、電路關(guān)鍵裝備和材料，以減少海外廠商對行業(yè)發(fā)展的壟斷，增強(qiáng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體配套能力。其中，光刻膠和光刻機(jī)是集成電路發(fā)展戰(zhàn)略中不可或缺的重要配套。光刻膠領(lǐng)域重點海外公司光刻膠海外五龍頭具有豐富的電子材料產(chǎn)品線，全產(chǎn)業(yè)覆蓋能力至關(guān)重要。五家頭部公司壟斷光刻膠約90%市場份額，使得光刻膠市場頭部集中化明顯。五家頭部公司重視將光刻膠上游精細(xì)化學(xué)品納入業(yè)務(wù)范圍，以減少原材料來源被封鎖的風(fēng)險。由于日本掌握了光刻膠開發(fā)技術(shù)，而高技術(shù)壁壘使得這種情況在短時間內(nèi)很難發(fā)生逆轉(zhuǎn)，因此主要市場份額掌握在日本手中。分析發(fā)現(xiàn)，五家公司在光刻膠領(lǐng)域各有優(yōu)勢，但其中有四家并非一開始就以光刻膠為目標(biāo)產(chǎn)品，且都有非常豐富而分散的產(chǎn)品

45、線。僅東京應(yīng)化一家以光刻膠技術(shù)為戰(zhàn)略切入點獲取巨大市場份額，但此后該公司同樣開始發(fā)展豐富的電子產(chǎn)品線，從中可窺見這些電子材料巨頭的經(jīng)營模式都是試圖成為有能力覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)，以分散微電子材料生產(chǎn)的風(fēng)險。表 10：海外光刻膠龍頭公司公司業(yè)務(wù)概況合成橡膠日本合成橡膠公司又稱JSR ，成立之初是為了實現(xiàn)日本合成橡膠的國產(chǎn)化，但開始涉獵半導(dǎo)體制造和光學(xué)材料制造領(lǐng)域，現(xiàn)已成為全球最大的光刻膠生產(chǎn)廠商，高度滲透歐洲、北美、韓國、中國市場。東京應(yīng)化 東京應(yīng)化簡稱 TOK ，通過率先開發(fā) ArF 液浸技術(shù)獲取了市場占有率， 其“光刻膠百貨商品 ”一樣的豐富產(chǎn)品線同樣奠定了它在業(yè)界的地位。光刻技術(shù)是東京應(yīng)

46、化的核心技術(shù)，主要應(yīng)用于 IC 和 LSI 等半導(dǎo)體以及液晶顯示器。其業(yè)務(wù)領(lǐng)域還包括半導(dǎo)體制造、封裝、 3D 包裝等。信越化工 信越化工是全球最大的有機(jī)硅供應(yīng)商，芯片商中的巨頭。其在日本極為低調(diào)，但在光刻膠領(lǐng)域布局了大量的專利，范圍覆蓋了曝光應(yīng)用、光源、光罩、圖形形成等。作為大型綜合的化工類公司，其產(chǎn)品線十分豐富全能，包括新功能材料、磁性材料、高分子材料等。在光刻膠領(lǐng)域信越化工掌握了高端光刻膠技術(shù)，有能力提供 ArF 和 KrF 等光刻膠產(chǎn)品。羅門哈斯羅門哈斯公司美國最大的精細(xì)化工公司，以樹脂材料聞名于世。羅門哈斯于2009 年被美國陶氏化學(xué)成功收購，以此為契機(jī)，兩家公司強(qiáng)化了在電子材料等精細(xì)

47、化工細(xì)分市場的業(yè)務(wù)，比如光刻膠業(yè)務(wù)。 2015 年，陶氏化學(xué)與美國杜邦合并，光刻膠事業(yè)部并入杜邦公司。富士電子材料富士膠片株式會社成立之初主要經(jīng)營業(yè)務(wù)為感光材料，此后進(jìn)行了大量的業(yè)務(wù)轉(zhuǎn)移，其旗下的電子材料業(yè)務(wù)群組包括了尖端光刻膠，且為營收的上漲做出了貢獻(xiàn)。如今富士電子材料已經(jīng)成為世界一流的微電子材料公司，其光刻膠相關(guān)專利公開數(shù)位列五家龍頭公司之首。資料來源：公司官網(wǎng)綜合整理，中信建投證券研究發(fā)展部圖 18：全球光刻膠市場結(jié)構(gòu)圖 19： i/g 型光刻膠市場結(jié)構(gòu)日本合成橡膠東京應(yīng)化羅門哈斯日本信越富士電子材料其他10%13%28%13%21%15%資料來源：美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會，中信建投證券研究發(fā)

48、展部資料來源：上海新陽，中信建投證券研究發(fā)展部合成橡膠全球第一的光刻膠龍頭JSR 株式會社為全球第一光刻膠生產(chǎn)廠商，占據(jù)全球光刻膠市場28% 的份額，其光刻膠產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體及顯示行業(yè)。該公司成立于1957 年 12 月，在日本率先開發(fā)出合成橡膠。自1969 年轉(zhuǎn)變?yōu)樗饺斯疽詠恚?JSR 已將其石油化工業(yè)務(wù)從合成橡膠擴(kuò)展到包括乳液、塑料和其他材料在內(nèi)的更廣的范圍，并增加了半導(dǎo)體、平板顯示器等業(yè)務(wù)領(lǐng)域。在成立的第40 年時將公司名稱更改為JSR Corporation 。 截 至 2018 年 12 月 31 日 JSR株式營業(yè)收入達(dá)到302 億元，實現(xiàn)的凈利潤為19 億元。表 11： J

49、SR 業(yè)務(wù)詳細(xì)分類業(yè)務(wù)分類彈性體業(yè)務(wù)主要產(chǎn)品合成橡膠熱塑性彈性體乳狀液高性能化學(xué)品其他塑料業(yè)務(wù)數(shù)字解決方案業(yè)務(wù)樹脂具體產(chǎn)品合成橡膠， 如苯乙烯 -丁二烯橡膠， 聚丁二烯橡膠， 乙丙丙烯橡膠等以及復(fù)合產(chǎn)品熱塑性彈性體和復(fù)合產(chǎn)品紙涂料乳膠，苯乙烯丁二烯乳膠，丙烯酸乳液有機(jī) /無機(jī)混合涂料，高功能分散劑，工業(yè)顆粒，熱控制材料，鋰離子電池的粘結(jié)劑材料等丁二烯單體等ABS ， AES ， AS 和 ASA 樹脂半導(dǎo)體材料光刻材料（光刻膠，多層材料）， CMP 材料（漿料，清洗液） ，包裝材料等顯示材料邊緣計算相關(guān)項目生命科學(xué)業(yè)務(wù)其他業(yè)務(wù)生物材料及試劑其他LCD 面板材料，其他功能涂料等耐熱透明樹脂和薄膜

50、，高性能紫外線可固化樹脂，立體光刻系統(tǒng)等診斷 /研究試劑材料，生物工藝材料，生物工藝開發(fā)，生物制藥合同制造，支持臨床前階段藥物開發(fā)的服務(wù)等鋰離子電容器等資料來源： JSR 公司官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部JSR 緊跟半導(dǎo)體制程發(fā)展，提前布局EUV 光刻膠。 EUV ，全稱是Extreme Ultraviolet Lithography，主要利用波長為10-14nm 的極紫外光源實現(xiàn)光刻圖案化材料成為EUV 光阻材料，具體為采用14nm 光源的軟X 射線。由于目前JSR 公司已經(jīng)實現(xiàn)ArF 和 KrF 光刻膠的量產(chǎn)并已經(jīng)進(jìn)入相關(guān)先進(jìn)制程晶圓產(chǎn)線的范圍，因此，對于未來增量市場，JSR 公司主要布局

51、EUV 光刻膠材料在10nm 及以下制程的應(yīng)用，特別是7nm 制程的量產(chǎn)，此部分新增市場成為JSR 關(guān)注的重點。 目前由于全球范圍內(nèi)EUV 光刻膠均處于技術(shù)儲備和升級階段，因此前沿的EUV 產(chǎn)品，高端的制程技術(shù)成為此領(lǐng)域的核心競爭優(yōu)勢。JSR 產(chǎn)品中展示了當(dāng)光阻厚度為25nm ， L/S 窗口為 13nm ， 線寬粗糙度（line width roughness, LWR）為 4.5nm 的 EUV 光刻膠產(chǎn)品曝光后效果，采用的光源為NXE3300B 。JSR 成立光刻膠制備和認(rèn)證中心為EUV 光刻膠制備做好了準(zhǔn)備。2017 年 3 月份，由 JSR 株式會社和IMEC（ Intelligen

52、tMachineryExpert Control ）微電子研究所共同成立的EUV 光刻膠制備和認(rèn)證中心（EUVRMQC ） 在比利時成立，可以為半導(dǎo)體行業(yè)制造和控制EUV 光刻膠。根據(jù)JSR 披露信息，在14nm 和 16nm 制程中還有部分剩余的市場份額，JSR 目標(biāo)是確保下一代10nm 及以下制程中EUV 光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，同時JSR 公司尋求成為對于 7nm 以下的 EUV 光刻膠第一個實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的供應(yīng)商。東京應(yīng)化產(chǎn)品豐富的光刻膠領(lǐng)導(dǎo)者東京應(yīng)化（ TOK ）歷史悠久，在全球光刻膠領(lǐng)域具有領(lǐng)導(dǎo)地位。 東京應(yīng)化株式會社 1940 年由東京應(yīng)化研究所改組而來，發(fā)展至今已有 80 年，企業(yè)歷史悠久

53、。東京應(yīng)化很早便進(jìn)入光刻膠市場， 1968 年，東京應(yīng)化便研發(fā)出半導(dǎo)體用正膠， 隨后在 1972 年又研發(fā)出半導(dǎo)體用負(fù)膠。 同時東京應(yīng)化憑借持續(xù)的技術(shù)突破逐步發(fā)展成為全球光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)之一。2006 年東京應(yīng)化率先展開ArF 浸沒光刻膠的研發(fā)，2019 年東京應(yīng)化同樣是引領(lǐng) 10nm 以下制程工藝的極紫外光（ EUV ）光刻膠研發(fā)的企業(yè)之一。目前東京應(yīng)化在全球光刻膠市場中占有21% 的份額，僅次于日本合成橡膠（JSR）。在光刻膠細(xì)分市場中，東京應(yīng)化是全球最大的 i/g 型光刻膠供應(yīng)商，占有25.9% 的市場份額；同時也是最大的KrF 型光刻膠供應(yīng)商，占有34% 的市場份額；是全球第三大的

54、ArF 型光刻膠供應(yīng)商，占有20.3% 的市場份額，僅次于日本合成橡膠和信越化工。資料來源：公司官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部圖 21： KrF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)圖 22： ArF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)圖 20：東京應(yīng)化發(fā)展歷程資料來源：上海新陽，中信建投證券研究發(fā)展部資料來源：上海新陽，中信建投證券研究發(fā)展部東京應(yīng)化依靠先進(jìn)的產(chǎn)品及豐富的產(chǎn)品線構(gòu)筑競爭壁壘。經(jīng)過多年的技術(shù)積累和技術(shù)突破，東京應(yīng)化的先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品光刻膠產(chǎn)品涵蓋了包括i/g 線光刻膠、 KrF/ArF光刻膠、 EUV 光刻膠、 電子束光刻膠在內(nèi)的從中低端到高端的所有應(yīng)用類型，同時東京應(yīng)化還提供用于光刻的其他的輔助性材料，如層間絕緣膜、擴(kuò)散

55、劑、液體顯影劑、反提取劑等。表 12：東京應(yīng)化產(chǎn)品線應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品類型產(chǎn)品類別光刻膠材料光刻相關(guān)材料其他半導(dǎo)體制造涂層設(shè)備產(chǎn)品及型號橡膠型負(fù)光刻膠、g 線光刻膠、 i 線光刻膠、 KrF 光刻膠、ArF 光刻膠、 ArF 液浸用光刻膠、 EUV 光刻膠、電子束光刻膠層間絕緣膜、擴(kuò)散劑、收縮制備材料、保護(hù)膜材料、自組織材料液體顯影劑、反提取劑、稀釋劑CS 系 列 100/125/150/200/300mm SOD 光刻膠勻膠機(jī)75/100/125/200mm顯影設(shè)備CSH 系 列 100/125/150/200mm設(shè)備真空 UV 淬火設(shè)備TVC-8000系列 100/125/150/200mm顯影

56、液自動稀釋供給裝置TAS-1000 、顯影液自動調(diào)整供給化學(xué)制劑供給設(shè)備裝置 TADR-2000 、化學(xué)制劑自動供給裝置OSCu 、Ni、SnAg 、Pd 電解電鍍用光阻； 電鍍用光阻； TAB/COF 、半導(dǎo)體封裝材料FPC 工藝蝕刻光阻；深挖Si 蝕刻光阻； lift-off 工藝用光阻、低腐蝕性反提取劑材料半導(dǎo)體封裝 MEMS 制造MEMS 圖像傳感器制造用光阻材料感光性永久膜光阻；感光性透明永久膜光阻、水溶性有機(jī)溶劑特殊溶劑可溶表面保護(hù)膜涂層設(shè)備設(shè)備顯影設(shè)備CS 系列 100/125/150/200/300mmCSH 系 列 100/200/300mm真空 UV 淬火設(shè)備材料粘合劑粘合

57、劑洗凈用稀釋劑TVC-8000系列 100/125/150/200mmTZNR A系列TZNR 稀釋劑三維安裝設(shè)備Zero Newton粘合設(shè)備Zero Newton剝離設(shè)備TWM 系列TWR 系列光阻材料；TFT 用高感度正性光阻、 TFT 用高精細(xì)正性光阻、濾鏡 BM 形成用抗黑色光阻、 STN 用高感度正性光阻； 其他LCD 用SiO2 系材材料有 機(jī) EL 用材料：可靠性高透明材料、大型電路板用涂層性料、透明電極用保護(hù)層材料等陰極隔膜用負(fù)性光阻、絕緣層用正性光阻顯示器平板制造觸摸屏用觸摸屏用光阻、絕緣膜形成材料、保護(hù)膜形成材料非旋轉(zhuǎn)式涂層裝置Spinless設(shè)備UV 固化裝置柔性基材制

58、造裝置TN 系列新事業(yè)領(lǐng)域材料太陽能電池平板制造涂層性擴(kuò)散材料、涂層性蝕刻掩模材料、附屬化學(xué)制品資料來源：東京應(yīng)化，中信建投證券研究發(fā)展部羅門哈斯世界最大的精細(xì)化學(xué)品制造商之一美國羅門哈斯公司（Rohm&Haas ）成立于1909 年，其總公司設(shè)于美國賓州費城，是世界上最大的精細(xì)化學(xué)品制造商之一。羅門哈斯公司是一家研究、生產(chǎn)、經(jīng)營特殊材料（精細(xì)化工和電子材料）且年銷售額達(dá)到80多億美元的跨國公司，在世界精細(xì)化工業(yè)界居領(lǐng)先地位。該公司的技術(shù)被廣泛應(yīng)用于建筑涂料和工業(yè)涂料、粘合劑和密封膠、建筑材料、個人護(hù)理和家用及工業(yè)用化學(xué)品、計算機(jī)和電子部件、紡織和印染、皮革、紙品、塑料、醫(yī)藥、工業(yè)水處理及鹽類

59、中。圖 23：羅門哈斯發(fā)展歷程資料來源：公司官網(wǎng)，中信建投證券研究發(fā)展部陶氏化學(xué)通過收購羅門哈斯，整合了雙方的優(yōu)勢。2009 年 4 月 1 日，陶氏化學(xué)公司完成對羅門哈斯公司的收購，同年的 06 月 3 日，陶氏化學(xué)宣布成立涂料材料業(yè)務(wù)部，成為一家全球領(lǐng)先的特殊化學(xué)品和高新材料企業(yè)。涂料材料業(yè)務(wù)部的成立，充分整合了陶氏化學(xué)原有相關(guān)業(yè)務(wù)和羅門哈斯的專長，進(jìn)一步加強(qiáng)陶氏化學(xué)在精細(xì)化工領(lǐng)域的優(yōu)勢。完成對羅門哈斯的收購是陶氏化學(xué)在功能化學(xué)品和特殊化學(xué)品業(yè)務(wù)上的一個重要里程碑，雙方不僅實現(xiàn)在技術(shù)、研發(fā)領(lǐng)域的優(yōu)勢互補(bǔ)，并且充分整合市場渠道和地域優(yōu)勢。新成立的陶氏高新材料事業(yè)部，營業(yè)額將達(dá)到140 億美元

60、。 同時可能實現(xiàn)每年約30 億美元的增長。陶氏高新材料事業(yè)部的業(yè)務(wù)以前羅門哈斯為主，業(yè)務(wù)范圍包括：特殊材料、粘合劑和功能聚合物，涂料、電子材料以及建筑材料。羅門哈斯是全球第三大光刻膠生產(chǎn)商。在光刻膠領(lǐng)域，羅門哈斯占據(jù)了全球15% 的光刻膠市場份額，是排在日本合成橡膠和東京應(yīng)化之后的全球第三大光刻膠生產(chǎn)商。羅門哈斯i/g 線光刻膠業(yè)務(wù)較強(qiáng)，市場份額達(dá)18.4% ， 位于行業(yè)第二。KrF/ArF光刻膠市場占有率相對較低，分別為11%和 4.3% 。表 13：羅門哈斯光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)品類型具體產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域i 線光刻膠、 KrF 光刻膠、浸沒法ArF 光刻膠等半導(dǎo)體光刻膠g 線光刻膠、 i 線光刻膠等LC