標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 14264-1993 半導(dǎo)體材料術(shù)語》是中國(guó)關(guān)于半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一份國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),發(fā)布于1993年。該標(biāo)準(zhǔn)旨在統(tǒng)一和規(guī)范半導(dǎo)體材料相關(guān)的專業(yè)術(shù)語,以便于行業(yè)內(nèi)外人士在交流、科研、生產(chǎn)及貿(mào)易活動(dòng)中能夠準(zhǔn)確理解并使用這些術(shù)語,減少溝通誤解,提升工作效率。下面列舉了標(biāo)準(zhǔn)中涵蓋的部分關(guān)鍵術(shù)語及其簡(jiǎn)要說明:
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半導(dǎo)體(Semiconductor):指一種電導(dǎo)率介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料,其電導(dǎo)率可以通過摻雜或其他手段進(jìn)行調(diào)整。
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本征半導(dǎo)體(Intrinsic Semiconductor):未經(jīng)過摻雜處理,純凈狀態(tài)下的半導(dǎo)體材料,其電導(dǎo)性能主要由材料本身的電子和空穴對(duì)決定。
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N型半導(dǎo)體(N-type Semiconductor):通過摻入 pentavalent(五價(jià))元素如磷、砷等,使半導(dǎo)體中自由電子濃度大于空穴濃度的半導(dǎo)體材料。
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P型半導(dǎo)體(P-type Semiconductor):通過摻入 trivalent(三價(jià))元素如硼、鎵等,使半導(dǎo)體中空穴濃度大于自由電子濃度的半導(dǎo)體材料。
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PN結(jié)(PN Junction):由P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體接觸形成的區(qū)域,具有單向?qū)щ娦裕窃S多半導(dǎo)體器件的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)。
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摻雜(Doping):在半導(dǎo)體材料中故意引入少量其他元素以改變其電導(dǎo)特性,分為N型摻雜和P型摻雜。
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載流子(Carrier):在半導(dǎo)體中參與導(dǎo)電的粒子,包括自由電子和空穴。
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禁帶(Energy Gap或Band Gap):半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)中價(jià)帶頂和導(dǎo)帶底之間的能量區(qū)間,決定了材料成為導(dǎo)體或絕緣體的性質(zhì)。
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遷移率(Mobility):描述載流子在電場(chǎng)作用下移動(dòng)速度的物理量,直接影響半導(dǎo)體的電導(dǎo)性能。
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復(fù)合(Recombination):半導(dǎo)體中的自由電子與空穴相遇并結(jié)合消失的過程,影響半導(dǎo)體的電荷平衡狀態(tài)。
這些術(shù)語只是標(biāo)準(zhǔn)中的一部分,實(shí)際標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)列出了更多與半導(dǎo)體材料制備、性質(zhì)分析、器件應(yīng)用相關(guān)的專業(yè)詞匯及其定義,為半導(dǎo)體行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)化工作提供了重要的語言基礎(chǔ)。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 14264-2009
- 1993-03-12 頒布
- 1993-12-01 實(shí)施


文檔簡(jiǎn)介
UDC669.87H80中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T14264-93半導(dǎo)體材料術(shù)語Semiconductormaterials-Termsanddefinitions1993-03-12發(fā)布1993-12-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體材料術(shù)語GB/T14264-93SemiconductormaterialsTermsanddefinitions主題內(nèi)客與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了半導(dǎo)體材料及其生長(zhǎng)工藝、加工、晶體缺陷和表面治污等方面的主要術(shù)語和定義本標(biāo)準(zhǔn)適用于元素和化合物半導(dǎo)體材料。一般術(shù)語2.1半導(dǎo)體semiconductor電阻率介于導(dǎo)體與絕緣體之間,其范圍為10-~10"0·cm的一種固體物質(zhì)。在較寬的溫度范圍內(nèi),電阻率隨溫度的升高而減小。電流是由帶正電的空穴和帶負(fù)電的電子的定向傳輸實(shí)現(xiàn)的。半導(dǎo)體按其結(jié)構(gòu)可分為三類:?jiǎn)纹敷w、多晶體和非晶體。2.2元素半導(dǎo)體elementalsemiconductor由一種元素組成的半導(dǎo)體。硅和錯(cuò)是最常用的元素半導(dǎo)體。2.3化合物半導(dǎo)體compoundsemiconductor由兩種或兩種以上的元素化合而成的半導(dǎo)體,如砷化像、緣鋁砷等2.4本征半導(dǎo)體intrinsicsemiconductor晶格完整且不含雜質(zhì)的單品半導(dǎo)體,其中參與導(dǎo)電的電子和空穴數(shù)目相等。這是一種實(shí)際上難以實(shí)現(xiàn)的理想情況。實(shí)用上所說的本征半導(dǎo)體是指僅含極痕量雜質(zhì),導(dǎo)電性能與理想情況很相近的半導(dǎo)體。2.5導(dǎo)電類型conductivitytype半導(dǎo)體材料中多數(shù)教流子的性質(zhì)所決定的導(dǎo)電特性2.6n-型半導(dǎo)體n-typesemiconductor多數(shù)載流子為電子的半導(dǎo)體2.7p-型半導(dǎo)體p-typesemiconductor多數(shù)載流子為空穴的半導(dǎo)體。2.8空穴hole半導(dǎo)體價(jià)帶結(jié)構(gòu)中一種流動(dòng)空位,其作用就像一個(gè)具有正有效質(zhì)量的正電子電荷一樣。2.9受主accepter半導(dǎo)體中其能級(jí)位于禁帶內(nèi),能“接受”價(jià)帶激發(fā)電子的雜質(zhì)原子或晶格缺陷,形成空穴導(dǎo)電:2.10施主donor半導(dǎo)體中其能級(jí)位于禁帶內(nèi),能向?qū)А笆┓拧彪娮拥碾s質(zhì)原子或品格缺陷,形成電子導(dǎo)電。2.111載流子carrier固體中一種能傳輸電荷的載體,又稱荷電載流子
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