結(jié)合PCB實(shí)例的WnSn教材

1、軟件 硬件SYSTEM IN DESIGH INWnSn教材*描述異?，F(xiàn)象并以 圖表整理分析*WKKD判斷*以數(shù)據(jù)來證明（PROOF）（EX.柏拉圖A項(xiàng)）*以重點(diǎn)為原則水問題點(diǎn)不能太大， 必須作適當(dāng)?shù)那懈钏槍栴}點(diǎn)做Wn分析，不斷地問什么： 全面展到不能再展，找 至ij ROOT CAUSE 為止（是否展到ROOT CAUSE 由KLM判斷）水針對所有展開之Wn,提 出相對應(yīng)之解決對策。 每一個W應(yīng)盡可能至少 有一個Solution與之對 應(yīng)。*針對每一個展開之Sn, 列出細(xì)部執(zhí)行subicct,針 對subject做困難度的評 估，加總后即為各 SOLUTION之總評分。再將此分?jǐn)?shù)除以貢獻(xiàn)

2、度， 視數(shù)值低高，決定對策 是否實(shí)施及實(shí)施順序。*對策實(shí)施時，以造成D/C ration數(shù)值低者優(yōu)先實(shí) 施，這些subject項(xiàng)目并 列入工作計劃內(nèi)管理。*訂立 Trouble-Shooting 與Continuous Improvement 執(zhí)行計劃。水利用質(zhì)量手法手法/工具水柏拉圖*現(xiàn)象描述分 析屮推移圖-4WIH屮層別 -IS/IS NOT*直方圖 DISTINCTION CHANGE*柏拉圖嚨移圖*系統(tǒng)圖（TREE） 似符合邏輯&WHYn 的方式展開）*W->WHYn込治標(biāo)治本（不可只有治標(biāo)的solution）咁特圖*P . D . C . A（P須涵蓋T . S . M

3、 . K）T : TARGETS:SCHEDULEM : MEASUREMENTK : KLM*推移圖*直方圖駕僉定水DESIGN IN SYSTEM IN參考表格*現(xiàn)象描述分析表*Wn分析表WnSn展開表*貢獻(xiàn)度與困難度評 估表Trouble Shlooting 與ContinuouImprovement執(zhí)行計劃表水軟件指制度面IWn-Sn展開表問題點(diǎn)HighW1-1蝕刻制程 能雖不夠W1W2W3W4W5-1-W2-1上下對位能雖不夠p W3J底片對位不佳 廠W4-1底片易漲縮V5lpolycslcr手溫濕彩響|_1- W4.2PLOTTER精度不夠 V52無回饋微調(diào)定位系統(tǒng)W32曝光機(jī)對準(zhǔn)

4、不穩(wěn)定¥43無CCD自動對位回饋系統(tǒng)_W4-4曝光DIE SET結(jié)構(gòu)不夠強(qiáng)1 前處理不佳W5-5壓膜板淙不夠W5-3導(dǎo)桿直徑不夠大W2-2BT不足W3-3蝕刻側(cè)蝕速度過快-W3-4蝕刻正面穿透力不夠"W2-3整體補(bǔ)償不當(dāng)匚W35 -般性補(bǔ)償不當(dāng)W34實(shí)際與設(shè)計值有誤至W2-4有蝕刻未穿現(xiàn)象W3-7霜光W38顯彫不潔W4-5D/F與板面adhesion不佳¥46側(cè)面缺乏保護(hù)'Z W4-7有水滯效盒W4-8板面受蝕刻壓力不夠W4-9滾輪有遮蔽效應(yīng)W5-6水平蝕刻Ew5-7噴嘴距板面太遠(yuǎn)W5-8藥液比董不足W4-IOploUcr resolution 不夠W4-

5、11曝光箋雖過高W4-I2 干膜 resolution 不夠W5-9Pixel size 過大W5-l0address accuracy 不夠 小S1S2S3(0) S3-1訂立補(bǔ)償準(zhǔn)則(0) S32求出最適去膜壓力¥413水壓膜溫度過高.造成部 分 D/F cureS4S5(A)S4-1護(hù)岸劑評估(0)S4-2蝕刻滾輪設(shè)計更改(O)S4-3卷式蝕刻設(shè)備建立(OJS4-4定期校正喙光能雖(O)S45評估較薄干膜(O)S46定期校正壓膜淙度(0)S5-l玻璃底片評估(0)S5-2保濕工具運(yùn)送底片(O)S53保持無塵室溫濕均一(O)S5-4 最適 plotter 評估(O)S5-5最適喙

6、光機(jī)評估(O)S56前處理.壓膜條件最適化G)S57垂直蝕刻機(jī)(a)S5-8延長噴嘴研究此題過大，應(yīng)針對“丁蝕刻制程能力不夠収嘅有哪些能力不足層別作初步的分析。初步分 析展開后(亦及W2),若依L/F產(chǎn)品特性而言，“E/F不足"是較重要的課題，所以應(yīng)擬訂“E/F不足”為Wn 分析的對象(追根問題點(diǎn))，較為恰當(dāng)。(詳見下圖)Wn展開表W1W2W3W4W5W1-1側(cè)蝕速度過快W2-1D/F與銅面adhesion -j- V31銅面接觸不良n-W4l銅面有油脂 不佳一 W2-2側(cè)面缺乏保護(hù)E/F不足W2-3未能確定nozzle型式角 度.擺動對防側(cè)蝕之最佳 設(shè)計或氧化 LW4-2銅面與D/

7、F未達(dá)最 適adhesion結(jié)果 -W3-2D/F本身附著-p W4-3D/F硬化不完全一廠W5l壓膜板 溫不夠 ,2曝光能 星不足力不佳-W4-4D/F特性不佳W1-2正面穿透-I W2-4有水滯效應(yīng)力不足W2-5板面正面沖擊壓力 不夠W33水平蝕刻W3-4噴嘴距離板面W4-5未拿握上下噴穿透 太遠(yuǎn)0R噴壓力差異不足0R滾輪 有遮蔽效應(yīng)Wn（WHYn）分析（問題分析）做法：針對所擬定Wn分析的對象，不斷的問彷什么n（why）,全面展到不能再展，直到找到 ROOT CAUSE 為止原則:n-l n n+11 Wn分析要依結(jié)果一原因結(jié)果原因結(jié)果一原因的方式展開（第n階是第n-l階的原因，是 第n

8、+1階的結(jié)果），要不斷的以“為什么，因?yàn)?。”，且符合邏輯的方式展開，如此方可 避免跳階的弊病。所以在Wn展開過程中，不應(yīng)有who . where . when . what的分析。2 展開的內(nèi)容應(yīng)based on專業(yè)技術(shù).知識經(jīng)驗(yàn)與理論基礎(chǔ)。3 以who . where . when . what之分析或?qū)觿e應(yīng)置于“一.題目選取”之問題層別部分。4 - Wl, W2, .Wn是代表深度，Wl-1, Wl-2, Wl-3, .Wl-n代表廣度。同一階所列出之Wn,由上而下依序編以流水號。（請參考Wn分析表）5 展開時要給于編號，結(jié)果與原因之間要用線連結(jié)。（請參考Wn分析表）6Wn展開后，應(yīng)依據(jù)某

9、一期間之質(zhì)量數(shù)據(jù)收集，在經(jīng)過報廢板之缺點(diǎn)比對判定后，決定Wn 每一階之貢獻(xiàn)度，以作為solution評價的標(biāo)準(zhǔn)。7 就實(shí)務(wù)上而言，Wn展開時，因?yàn)槟承┥形创_知的因素.后一階展開的原因可能無法完全說 明前一階的結(jié)果。但一般而言，可依據(jù)【28（或37）法則】（亦即后一階所展出的二項(xiàng)原因是造 成前一階80%的結(jié)果），來判斷Wn展得是否完全。常用的品管手法:1 系統(tǒng)圖（TREE）。參考表格：Wn分析表° 實(shí)例說明:參考系統(tǒng)圖（TREE）部分實(shí)例。Sn展開（對策提出）做法：針對所有展開之Wn,提出相對應(yīng)之解決對策。原則:1 所有的W都盡可能至少一個SOLUTIONo2 Sn編號應(yīng)與Wn編號相對

10、應(yīng)（請參考WnSn展開表）3 為方便與Wn對照，Wn . Sn應(yīng)盡量表現(xiàn)于同一張圖表中（即WnSn展開表）。Sn 評估（Disposition）做法:有以下兩種：一經(jīng)驗(yàn)評估法：1.依據(jù)本身專業(yè)知識及經(jīng)驗(yàn)，針對所有展開之Sn給予評價，各solution經(jīng)評價后之表示方式如下： O:表示立即可行X:表示不可行:表示必須經(jīng)過更進(jìn)一步評估（如行效評估法）方知是否可行二行效評估法：1 針對每一個展開之Sn,列出細(xì)部執(zhí)行之subject,針對subject做困難度的評估。評估的因素涵蓋完成之耗時影響生產(chǎn)停機(jī)時間設(shè)備修改狀況動用人力是否須進(jìn)行長時間理論探討改 變作業(yè)流程經(jīng)費(fèi)等七方面。詳細(xì)的評估說明請見下表（

11、請參考Trouble Shooting與Continuous Improvement標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)辦法）o2 各個subject之評分加總后即為各solution困難度之評分。再將困難度之評分除以貢獻(xiàn)度（困難度/貢獻(xiàn)度），而得到丨執(zhí)行效果指標(biāo)（D/C皿io）。依D/C ratio所得之值選擇分?jǐn)?shù)低者優(yōu)先實(shí)施， 介于010列為K項(xiàng)；11-99列為P項(xiàng)；100以上則為G項(xiàng)。故K項(xiàng)為優(yōu)先執(zhí)行之solutiono原則:1 依執(zhí)行效果指標(biāo)（D/C曲io）所得之值分?jǐn)?shù)低者優(yōu)先實(shí)施參考表格:貢獻(xiàn)度與困難度評估表Wn分析W2-1W1-1W2-2W2-3|_ W2-4W1-2 W2-5I W2-6W1-3 W2-7W1-4| W2-8I W2-9Wl-nW3-1W3-2W3-3W3-4W3-5W3-6W3-7W3-8W3-9W3-10W3-11W3-12W3-13W3-14匚 W4-1W4-2-E Wn-1.Wn-2Wn-Sn展開表Wl-lWl-2I Wl-3W1W2W3W2-1W2-2W2-3W2-4W2-5W2-6W2-7SIW4WnW3-1W3-2W3-3(O)S1-1(O)S2-1(O)S3-1(O)Sl-2(O)S2-2(O)S3-2(X)Sl-3-l(X)S2-3-l(O)S3-3-l(A)Sl-3-2(A)S2-3-