電磁屏蔽玻璃制備技術(shù)考核試卷

電磁屏蔽玻璃制備技術(shù)考核試卷考生姓名：答題日期：得分：判卷人：

本試卷旨在考察考生對電磁屏蔽玻璃制備技術(shù)的理解與應(yīng)用能力，包括理論知識、實驗技能及問題解決能力。

一、單項選擇題（本題共30小題，每小題0.5分，共15分，在每小題給出的四個選項中，只有一項是符合題目要求的）

1.電磁屏蔽玻璃的主要功能是（）。

A.隔熱

B.防火

C.防磁

D.阻擋電磁波

2.電磁屏蔽玻璃的屏蔽效能主要取決于（）。

A.玻璃厚度

B.玻璃成分

C.鍍膜材料

D.玻璃顏色

3.電磁屏蔽玻璃制備過程中，常用的金屬鍍膜方法有（）。

A.真空鍍膜

B.離子鍍膜

C.化學(xué)鍍膜

D.以上都是

4.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電率通常要求達(dá)到（）。

A.10-6S/m

B.10-5S/m

C.10-4S/m

D.10-3S/m

5.電磁屏蔽玻璃在制備過程中，防止金屬膜氧化常用的方法有（）。

A.真空環(huán)境

B.保護(hù)氣

C.鍍膜前處理

D.以上都是

6.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層厚度一般在（）。

A.0.1-1.0μm

B.1.0-10μm

C.10-100μm

D.100-1000μm

7.電磁屏蔽玻璃的表面電阻率通常要求低于（）。

A.10Ω

B.100Ω

C.1kΩ

D.10kΩ

8.電磁屏蔽玻璃的介電常數(shù)一般在（）。

A.2-10

B.10-100

C.100-1000

D.1000-10000

9.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜均勻，通常采用（）技術(shù)。

A.滾涂

B.刷涂

C.真空鍍膜

D.滾筒鍍膜

10.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的附著力，通常采用的預(yù)處理方法有（）。

A.化學(xué)清洗

B.熱處理

C.機械拋光

D.以上都是

11.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為了提高鍍膜的導(dǎo)電性能，通常采用的鍍膜材料有（）。

A.金

B.銀合金

C.鋁

D.以上都是

12.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜速度

B.鍍膜溫度

C.鍍膜壓力

D.以上都是

13.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為防止鍍膜層發(fā)生劃傷，通常采用的防護(hù)措施有（）。

A.鍍膜后立即封裝

B.使用柔軟的布料擦拭

C.避免直接接觸

D.以上都是

14.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝流程有（）。

A.化學(xué)清洗

B.鍍膜

C.干燥

D.以上都是

15.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的耐腐蝕性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜溫度

B.鍍膜時間

C.鍍膜壓力

D.以上都是

16.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的導(dǎo)電性能，通常采用的鍍膜工藝有（）。

A.化學(xué)鍍

B.物理鍍

C.離子鍍

D.以上都是

17.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的附著力，通常采用的預(yù)處理方法有（）。

A.化學(xué)清洗

B.熱處理

C.機械拋光

D.以上都是

18.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜速度

B.鍍膜溫度

C.鍍膜壓力

D.以上都是

19.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為防止鍍膜層發(fā)生劃傷，通常采用的防護(hù)措施有（）。

A.鍍膜后立即封裝

B.使用柔軟的布料擦拭

C.避免直接接觸

D.以上都是

20.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝流程有（）。

A.化學(xué)清洗

B.鍍膜

C.干燥

D.以上都是

21.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的耐腐蝕性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜溫度

B.鍍膜時間

C.鍍膜壓力

D.以上都是

22.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的導(dǎo)電性能，通常采用的鍍膜工藝有（）。

A.化學(xué)鍍

B.物理鍍

C.離子鍍

D.以上都是

23.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的附著力，通常采用的預(yù)處理方法有（）。

A.化學(xué)清洗

B.熱處理

C.機械拋光

D.以上都是

24.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜速度

B.鍍膜溫度

C.鍍膜壓力

D.以上都是

25.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為防止鍍膜層發(fā)生劃傷，通常采用的防護(hù)措施有（）。

A.鍍膜后立即封裝

B.使用柔軟的布料擦拭

C.避免直接接觸

D.以上都是

26.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝流程有（）。

A.化學(xué)清洗

B.鍍膜

C.干燥

D.以上都是

27.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的耐腐蝕性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜溫度

B.鍍膜時間

C.鍍膜壓力

D.以上都是

28.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的導(dǎo)電性能，通常采用的鍍膜工藝有（）。

A.化學(xué)鍍

B.物理鍍

C.離子鍍

D.以上都是

29.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為提高鍍膜的附著力，通常采用的預(yù)處理方法有（）。

A.化學(xué)清洗

B.熱處理

C.機械拋光

D.以上都是

30.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝參數(shù)有（）。

A.鍍膜速度

B.鍍膜溫度

C.鍍膜壓力

D.以上都是

二、多選題（本題共20小題，每小題1分，共20分，在每小題給出的選項中，至少有一項是符合題目要求的）

1.電磁屏蔽玻璃的主要作用包括（）。

A.阻擋電磁波

B.隔絕靜電

C.防火

D.隔熱

2.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些步驟是必要的（）。

A.玻璃清洗

B.鍍膜

C.熱處理

D.封裝

3.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層通常采用的材料有（）。

A.金

B.銀合金

C.鋁

D.銅合金

4.電磁屏蔽玻璃的制備工藝中，以下哪些因素會影響屏蔽效能（）。

A.玻璃厚度

B.鍍膜材料

C.鍍膜厚度

D.鍍膜均勻性

5.電磁屏蔽玻璃在哪些領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用（）。

A.通信設(shè)備

B.電子產(chǎn)品

C.醫(yī)療設(shè)備

D.防護(hù)裝備

6.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備方法包括（）。

A.真空鍍膜

B.離子鍍膜

C.化學(xué)鍍膜

D.溶液鍍膜

7.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些步驟有助于提高鍍膜的附著力（）。

A.玻璃預(yù)處理

B.鍍膜前清洗

C.鍍膜后烘烤

D.鍍膜后封裝

8.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層性能要求包括（）。

A.高導(dǎo)電率

B.高屏蔽效能

C.良好的耐候性

D.良好的機械強度

9.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些因素會影響鍍膜的均勻性（）。

A.鍍膜設(shè)備

B.鍍膜工藝參數(shù)

C.玻璃表面質(zhì)量

D.環(huán)境溫度

10.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的導(dǎo)電性能（）。

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜溫度

D.環(huán)境濕度

11.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些步驟有助于提高鍍膜的耐腐蝕性（）。

A.鍍膜材料選擇

B.鍍膜工藝控制

C.鍍膜后烘烤

D.鍍膜后封裝

12.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的附著力（）。

A.玻璃表面處理

B.鍍膜材料選擇

C.鍍膜工藝參數(shù)

D.鍍膜后烘烤

13.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些因素會影響鍍膜的導(dǎo)電性能（）。

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜溫度

D.環(huán)境濕度

14.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的均勻性（）。

A.鍍膜設(shè)備

B.鍍膜工藝參數(shù)

C.玻璃表面質(zhì)量

D.環(huán)境溫度

15.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些步驟有助于提高鍍膜的耐候性（）。

A.鍍膜材料選擇

B.鍍膜工藝控制

C.鍍膜后烘烤

D.鍍膜后封裝

16.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的附著力（）。

A.玻璃表面處理

B.鍍膜材料選擇

C.鍍膜工藝參數(shù)

D.鍍膜后烘烤

17.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些因素會影響鍍膜的導(dǎo)電性能（）。

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜溫度

D.環(huán)境濕度

18.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的均勻性（）。

A.鍍膜設(shè)備

B.鍍膜工藝參數(shù)

C.玻璃表面質(zhì)量

D.環(huán)境溫度

19.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪些步驟有助于提高鍍膜的耐候性（）。

A.鍍膜材料選擇

B.鍍膜工藝控制

C.鍍膜后烘烤

D.鍍膜后封裝

20.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪些因素會影響鍍膜的附著力（）。

A.玻璃表面處理

B.鍍膜材料選擇

C.鍍膜工藝參數(shù)

D.鍍膜后烘烤

三、填空題（本題共25小題，每小題1分，共25分，請將正確答案填到題目空白處）

1.電磁屏蔽玻璃的主要功能是______電磁波。

2.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層厚度一般在______μm。

3.電磁屏蔽玻璃的表面電阻率通常要求低于______Ω。

4.電磁屏蔽玻璃的介電常數(shù)一般在______之間。

5.電磁屏蔽玻璃制備中常用的金屬鍍膜方法包括______和______。

6.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜均勻，通常采用______技術(shù)。

7.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電率通常要求達(dá)到______S/m。

8.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，防止金屬膜氧化常用的方法是______。

9.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，提高鍍膜的附著力常用的預(yù)處理方法有______。

10.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的導(dǎo)電性能，通常采用的鍍膜材料有______和______。

11.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝參數(shù)有______和______。

12.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的耐腐蝕性，通常采用的工藝參數(shù)有______和______。

13.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為防止鍍膜層發(fā)生劃傷，通常采用的防護(hù)措施有______。

14.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，為保證鍍膜的均勻性，通常采用的工藝流程包括______、______、______。

15.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪種鍍膜工藝適用于大面積生產(chǎn)______。

16.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，以下哪種鍍膜工藝適用于高精度要求的產(chǎn)品______。

17.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種預(yù)處理方法有助于提高鍍膜的附著力______。

18.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜材料具有良好的耐腐蝕性______。

19.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的導(dǎo)電性能______。

20.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的附著力______。

21.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的均勻性______。

22.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的耐候性______。

23.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的機械強度______。

24.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的耐磨損性______。

25.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，以下哪種鍍膜工藝有助于提高鍍膜的導(dǎo)電率______。

四、判斷題（本題共20小題，每題0.5分，共10分，正確的請在答題括號中畫√，錯誤的畫×）

1.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電率越高，其屏蔽效能越差。（）

2.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜層的厚度對屏蔽效能沒有影響。（）

3.真空鍍膜技術(shù)是制備電磁屏蔽玻璃導(dǎo)電膜層的主要方法之一。（）

4.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜前的玻璃清洗步驟可以忽略。（）

5.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層厚度越薄，其屏蔽效能越高。（）

6.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜溫度對鍍膜的附著力有重要影響。（）

7.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層材料中，金具有最好的耐腐蝕性。（）

8.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜后的烘烤步驟是為了提高鍍膜的附著力。（）

9.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層材料中，銀合金的導(dǎo)電率高于純銀。（）

10.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜速度越快，鍍膜越均勻。（）

11.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，離子鍍膜技術(shù)可以提高鍍膜的均勻性。（）

12.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜前的玻璃表面處理步驟是為了提高鍍膜的附著力。（）

13.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層材料中，鋁的導(dǎo)電率低于銅。（）

14.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜溫度對鍍膜的導(dǎo)電性能沒有影響。（）

15.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層材料中，銀合金的耐腐蝕性優(yōu)于鋁合金。（）

16.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜后的封裝步驟是為了防止鍍膜層受到劃傷。（）

17.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層制備中，化學(xué)鍍膜技術(shù)適用于小面積生產(chǎn)。（）

18.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜前的玻璃清洗步驟是為了去除表面的雜質(zhì)和油污。（）

19.電磁屏蔽玻璃的導(dǎo)電膜層材料中，金的導(dǎo)電率高于銀。（）

20.電磁屏蔽玻璃的制備過程中，鍍膜后的烘烤步驟是為了提高鍍膜的耐候性。（）

五、主觀題（本題共4小題，每題5分，共20分）

1.請簡述電磁屏蔽玻璃在現(xiàn)代社會中的重要應(yīng)用及其對社會發(fā)展的影響。

2.分析電磁屏蔽玻璃制備過程中可能遇到的主要技術(shù)難題，并提出相應(yīng)的解決方案。

3.結(jié)合實際案例，說明電磁屏蔽玻璃在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用及其對產(chǎn)品性能的提升。

4.討論電磁屏蔽玻璃制備技術(shù)的未來發(fā)展趨勢，包括新材料、新工藝的應(yīng)用以及市場需求的變化。

六、案例題（本題共2小題，每題5分，共10分）

1.案例題：某公司計劃開發(fā)一款新型的智能手機，該手機需要具備良好的電磁屏蔽性能。請根據(jù)電磁屏蔽玻璃的制備技術(shù)，設(shè)計一套適用于該智能手機的電磁屏蔽玻璃解決方案，包括選材、鍍膜工藝、質(zhì)量控制等方面。

2.案例題：某電子制造企業(yè)生產(chǎn)的一批平板電腦，在使用過程中發(fā)現(xiàn)存在電磁干擾問題，影響了用戶體驗。企業(yè)決定采用電磁屏蔽玻璃來解決這一問題。請分析該企業(yè)可能采取的電磁屏蔽玻璃制備方案，并討論如何評估和測試屏蔽效果。

標(biāo)準(zhǔn)答案

一、單項選擇題

1.D

2.C

3.D

4.A

5.D

6.A

7.C

8.B

9.C

10.D

11.D

12.D

13.D

14.D

15.D

16.B

17.A

18.A

19.D

20.D

21.D

22.D

23.D

24.D

25.D

二、多選題

1.ABD

2.ABD

3.ABD

4.ABD

5.ABD

6.ABD

7.ABD

8.ABCD

9.ABD

10.ABD

11.ABD

12.ABD

13.ABD

14.ABD

15.ABD

16.ABD

17.ABD

18.ABD

19.ABD

20.ABD

三、填空題

1.阻擋

2.0.1-1.0

3.10

4.2-10

5.真空鍍膜離子鍍膜

6.真空鍍膜技術(shù)

7.10-6

8.真空環(huán)境

9.化