標準解讀
《JJF 1967-2022 激光衍射法反射光柵校準規(guī)范》是一份針對利用激光衍射技術進行反射光柵校準的標準文件。該標準主要適用于通過激光衍射方法對各種類型的反射光柵(包括但不限于平面反射光柵和平凹反射光柵)進行測量與校準工作,旨在確保這些光柵在科學研究、工業(yè)應用等領域中的性能穩(wěn)定可靠。
標準詳細規(guī)定了采用激光衍射法進行反射光柵校準時所需遵循的技術條件和程序,涵蓋了從實驗準備到數據處理的全過程。其中,對于實驗環(huán)境的要求尤為嚴格,比如溫度控制、振動隔離等,以保證測試結果的準確性不受外界因素干擾。此外,還明確了不同規(guī)格光柵所適用的具體測試參數設置及相應計算公式,幫助技術人員準確地完成校準任務。
在實際操作過程中,《JJF 1967-2022》強調了對設備狀態(tài)檢查的重要性,要求在每次使用前都需對相關儀器進行全面檢查,并記錄下所有可能影響最終結果的因素。同時,也提出了關于如何正確處理和保存數據的方法指導,以及如何根據實驗結果來評估反射光柵質量等級的標準流程。
此標準不僅為從事反射光柵研發(fā)、生產和檢測的專業(yè)人士提供了科學依據和技術支持,也為促進我國乃至國際上該領域內技術水平的整體提升發(fā)揮了積極作用。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經官方授權發(fā)布的權威標準文檔。
....
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- 現行
- 正在執(zhí)行有效
- 2022-04-29 頒布
- 2022-10-29 實施





文檔簡介
中華人民共和國國家計量技術規(guī)范
JJF1967—2022
激光衍射法反射光柵
校準規(guī)范
CalibrationSpecificationforReflectionGratings
byLaserDiffraction
2022-04-29發(fā)布2022-10-29實施
國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布
JJF1967—2022
激光衍射法反射光柵
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校準規(guī)范??
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CalibrationSpecificationforReflection??
GratingsbyLaserDiffraction
歸口單位全國新材料與納米計量技術委員會
:
主要起草單位中國計量科學研究院
:
參加起草單位同濟大學
:
本規(guī)范委托全國新材料與納米計量技術委員會負責解釋
JJF1967—2022
本規(guī)范主要起草人
:
殷聰中國計量科學研究院
()
石春英中國計量科學研究院
()
參加起草人
:
王建波中國計量科學研究院
()
程鑫彬同濟大學
()
鄧曉同濟大學
()
JJF1967—2022
目錄
引言
………………………(Ⅱ)
范圍
1……………………(1)
引用文件
2………………(1)
術語和計量單位
3………………………(1)
光柵
3.1…………………(1)
反射光柵
3.2……………(1)
間距
3.3…………………(1)
平均間距
3.4……………(1)
利特羅結構
3.5…………(1)
利特羅角
3.6……………(1)
二維光柵正交性
3.7……………………(1)
概述
4……………………(2)
計量特性
5………………(2)
校準條件
6………………(2)
環(huán)境條件
6.1……………(2)
測量標準及其他設備
6.2………………(3)
校準項目和校準方法
7…………………(3)
一維反射光柵平均間距
7.1……………(3)
二維反射光柵平均間距
7.2……………(4)
二維反射光柵正交性
7.3………………(4)
校準結果表達
8…………(5)
復校時間間隔
9…………(5)
附錄校準記錄內容
A…………………(6)
附錄校準證書內頁內容
B……………(11)
附錄不確定度評定示例
C……………(13)
附錄衍射法測量反射光柵間距的原理
D……………(22)
Ⅰ
JJF1967—2022
引言
本規(guī)范依據通用計量術語及定義國家計量校準規(guī)范編寫
JJF1001《》、JJF1071《
規(guī)則編制參考了納米技術人造光柵的描述測量和幾何
》,IEC/TS62622:2012《,
量的質量參數
》(Nanotechnologies—Description,measurementanddimensionalquality
一維光柵比對
parametersofartificialgratings)、Nano4(Nano4comparisonon1Dgrat-
二維光柵比對測量不確定度的評
ings)、Nano5(Nano5comparisonon2Dgratings),
定按照測量不確定度評定與表示進行
JJF1059.1《》。
本規(guī)范為首次發(fā)布
。
Ⅱ
JJF1967—2022
激光衍射法反射光柵
校準規(guī)范
1范圍
本規(guī)范適用于平均間距為能觀測到衍射現象的一維或二維反
(140~2000)nm、
射光柵的校準
。
2引用文件
本規(guī)范引用了下列文件
:
光學儀器術語
GB/T13962—2009
凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本規(guī)范凡是不注日期的引用文
,;
件其最新版本包括所有的修改單適用于本規(guī)范
,()。
3術語和計量單位
光柵
3.1grating
一種表面排列大量精細的相互平行的等距的周期性的相同的結構的光學器
、、、、
件其周期性結構既可以是直線陣列也可以是沿直線排列的點陣
。,。
注:此處光柵的定義與/—《光學儀器術語》中光柵的定義不同。此處的
GBT1396220096.139
定義僅針對被校準對象的特征。
反射光柵
3.2reflectiongrating
入射光與衍射光在光柵工作面同一側的衍射光柵
。
間距
3.3pitch
光柵上相鄰結構之間的距離
。
注:單位為。
1nm
注:一般用結構的中心距確定間距,有些情況下也可以用結構的邊界確定間距。
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