專利基礎知識講課

專利基礎知識講課目錄1、專利的種類2、創(chuàng)造、實用新型專利的申請策略3、申請專利需要考慮的方面4、技術人員對已公開專利技術的使用5、如何開掘企業(yè)專利6、技術交底書的提供6.1、電學角度6.2、計算機軟件的角度6.3、機械構造角度1、專利的種類1.1中國專利的分類：?創(chuàng)造：創(chuàng)造是指對產(chǎn)品、方法或者其改進所提出的新的技術方案。?實用新型：實用新型是指對產(chǎn)品的形狀、構造或者其結合所提出的適于實用的新的技術方案。?外觀：外觀設計是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所作出的富有美感并適于工業(yè)應用的新設計。保護期限創(chuàng)造專利：自申請之日起20年實用新型專利和外觀專利：自申請之日起10年。審批、授權☆創(chuàng)造：初審+實審?初審：3~6個月☆實用新型：形式審查?形式審查：4~6個月☆外觀專利：形式審查?形式審查：4~6個月授權條件授予專利權的創(chuàng)造和實用新型，應當具備新穎性、創(chuàng)造性和實用性。新穎性，是指該創(chuàng)造或者實用新型不屬于現(xiàn)有技術；也沒有任何單位或者個人就同樣的創(chuàng)造或者實用新型在申請日以前向國務院專利行政部門提出過申請，并記載在申請日以后公布的專利申請文件或者公告的專利文件中。創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術相比，該創(chuàng)造具有突出的實質性特點和顯著的進步，該實用新型具有實質性特點和進步。實用性，是指該創(chuàng)造或者實用新型能夠制造或者使用，并且能夠產(chǎn)生積極效果。本法所稱現(xiàn)有技術，是指申請日以前在國內外為公眾所知的技術。專利法不授予專利權的客體1、科學發(fā)現(xiàn)；如科學原理、定理、數(shù)學發(fā)現(xiàn)；2、智力活動的規(guī)那么和方法；

上述規(guī)那么和方法包括：

組織、生產(chǎn)、商業(yè)實施和經(jīng)濟管理的方法及制度；

交通行車規(guī)那么、時間調度表、比賽規(guī)那么；

演繹、推理和運籌的方法；

圖書分類規(guī)那么、字典的編排方法、情報檢索方法、專利分類法；

日歷的編排規(guī)那么和方法；

儀器和設備的操作說明；

各種語言的語法、漢字編碼方法；

計算機的語言及計算規(guī)那么……專利法不授予專利權的客體二3、疾病的診斷和治療方法；4、動物和植物品種；5、用原子核變換方法獲得的物質：如輻射育種等；

第四款所列產(chǎn)品的生產(chǎn)方法可以獲得專利權，如用生物工程方法。2、創(chuàng)造、實用新型專利的申請策略★創(chuàng)造優(yōu)點：1、保護時間長2、專利穩(wěn)定性好，不易被無效3、可直接用于起訴☆創(chuàng)造缺點：1、授權時間長2、授權存在風險★實用新型優(yōu)點：1、授權時間短2、授權幾率大☆實用新型缺點：1、保護時間短2、專利穩(wěn)定性難以保證3、起訴時須出具專利評價報告申請策略：?軟件改進創(chuàng)造：只能申請創(chuàng)造專利；?硬件改進創(chuàng)造：可申請創(chuàng)造，也可申請實用新型；?一案兩申請：同一技術同一日同時申請一個創(chuàng)造和一個實用新型專利對一個企業(yè)的作用1、專利=市場2、專利=自我保護3、專利=企業(yè)形象+廣告效應4、專利=其他3、申請專利需要考慮的方面、技術的創(chuàng)新點、技術的更新周期、技術的市場前景4、技術人員對已公開專利技術的使用、地域性、外國專利有無在中國申請、外國專利有無在產(chǎn)品進口及銷售國申請、時間性、專利技術是否因保護期限屆滿已過期、專利技術是否因其他原因已失效4.3、合理利用4.3.1、未在中國申請4.3.2、專利權已喪失4.4、專利技術檢索4.4.1：中國專利局4.4.2：PCT4.4.3：歐洲專利局://ep.espacenet/5、如何開掘企業(yè)專利、專利頭上的光環(huán)專利實際上并不那么神秘、專利的實質揭開專利的面紗，專利的實質是技術的創(chuàng)新開掘專利的法門反向挖掘專利的交底書提交時的三要素突出一個重點：指出關鍵點或者需要保護的點,即本創(chuàng)造與現(xiàn)有技術的最大區(qū)別之處，能夠解決現(xiàn)有技術的根本問題，能夠突出表達本創(chuàng)造的效果，離開了該點本創(chuàng)造就無法實施。把握一條主線：現(xiàn)有技術存在怎樣的技術問題——本創(chuàng)造如何解決——進而到達怎樣的效果。堅持一個原那么：論證原那么：從論證的角度描述存在的技術問題、本創(chuàng)造的效果，說明“為什么〞。5.3、專利的挖掘點〔躲避設計的運用〕躲避設計(DesignAroundorInventAround)–競爭相對人以技術或研發(fā)避開專利保護范圍，而產(chǎn)出具有一樣功能與結果的技術手段消極：防止侵權訴訟，降低法律風險積極：運用專利分析，強化產(chǎn)品競爭※可產(chǎn)出創(chuàng)造構思※有利于消費公眾與整個社會進步※促進整個產(chǎn)業(yè)的開展※合法競爭行為※防止成心侵權的嫌疑5.4、專利躲避設計的特點：5.5、躲避設計需要具備專利侵權判斷知識

※什么是權利要求的保護范圍、必要技術特征、最正確實施例※什么是功能限定方式(Means-Plus-Function)※權利要求書的撰寫形式：劃界、開放式與封閉式寫法等※什么是中心限定原那么、周邊限定原那么※什么是字面侵權，全面覆蓋原那么，等同原那么，制止反悔原那么※現(xiàn)有技術抗辯※什么是等同判斷的三步驟〔Function/Way/Result)6、技術交底書〔如何必要的說明〕※申請主題的鎖定(單一創(chuàng)造原那么)※附圖〔總體構造圖與部件圖〕※針對附圖進展詳細的說明，舉更多的實施例※技術背景的重要性〔現(xiàn)有技術與本案比較〕※權利要求保護范圍的表述〔研發(fā)者與代理人思維的差異〕技術交底書內容、技術領域?寫明要求保護的技術方案所屬的技術領域。?便于審查員對專利技術的分類，給出導向作用。6.2、背景技術?請說明本創(chuàng)造的背景，描述據(jù)申請人所知的本創(chuàng)造的最接近的現(xiàn)有技術，并描述現(xiàn)有技術有何優(yōu)缺點，對其存在的問題或缺乏客觀地進展評述。?只有此局部的精準描述，才能更加準確的提煉出創(chuàng)造點所在。6.3、創(chuàng)造內容?本專利針對背景技術〔或稱現(xiàn)有技術〕中的缺點做出了那些改進？?換言之，就是本專利的閃光點也稱創(chuàng)造點所在。、有益效果?客觀本專利技術帶來的直接的好處。?有益效果可以由產(chǎn)率、質量、精度和效率的提高，能耗、原材料、工序的節(jié)省，加工、操作、控制、使用的簡便，環(huán)境污染的治理或者根治，以及有用性能的出現(xiàn)等方面反映出來。6.5、具體實施方式?詳細表達本專利的實現(xiàn)過程。?包括各組件之間的連接關系、信號走向等，著重表達創(chuàng)造點所在的技術方案局部。6.5.1、電子類與附圖對應，描述本創(chuàng)造的每個功能模塊的作用，這些功能模塊的連接關系，并描述本創(chuàng)造的工作原理。假設還有功能模塊的電路原理圖的話，那么要描述構成該電路所必需的元器件、部件，這些元器件、部件之間的連接關系，這些元器件、部件在電路產(chǎn)品中的功能。6.5.2、通信或軟件?與附圖對應，描述本創(chuàng)造的系統(tǒng)組成設備的作用，這些設備的連接關系，并描述本創(chuàng)造的工作原理。假設其中某一設備不是現(xiàn)在公知的設備，那么再參照電子類的提供。?與附圖對應，描述方法或軟件的操作步驟和順序，尤其是表達創(chuàng)造點的局部，需明確表達為什么能通過此局部表達出創(chuàng)造點所實現(xiàn)的好處。6.5.3、機械構造類?與附圖對應，描述本構造的組成、各組成部件之間的連接關系以及設計的巧妙性。?與附圖對應，描述該構造，尤其是表達創(chuàng)造點的局部，需明確表達為什么能通過此局部表達出創(chuàng)造點所實現(xiàn)的好處。6.6、欲保護點?本專利欲保護的技術。?供代理人參考，可能具體的申請文件會和此局部不一樣。6.7、替代方案?與專利技術可到達一樣目的的替代方案，盡可能多的將替代方案列舉出來，才能得到最大范圍上的保護。?試舉兩例進展說明：〔1〕電子硬件方面：如創(chuàng)造點為采用一個RC濾波器實現(xiàn)濾波，替代方案：可否用LC濾波器實現(xiàn)？〔2〕軟件方面：如創(chuàng)造點為一個“冒泡法〞實現(xiàn)數(shù)組排列，替代方案：可否用“比較法〞實現(xiàn)？6.8、附圖：?電學方面，創(chuàng)造點〔或稱創(chuàng)新點〕在電路方面?電路原理圖，針對電路原理圖說明創(chuàng)造點所在?電路方框圖?電路原理圖中的芯片名稱和作用?計算機軟件方面?軟件流程圖?針對流程圖說明創(chuàng)造的創(chuàng)新性所在?機械構造方面，創(chuàng)造點〔或稱創(chuàng)新點〕在于產(chǎn)品的構造方面?該構造的立體圖、剖面