JJF(鄂) 112-2024 氧化層膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片校準(zhǔn)規(guī)范

湖北省地方計(jì)量技術(shù)規(guī)范JJF(鄂)112—2024氧化層膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片校準(zhǔn)規(guī)范OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification2024-05-14發(fā)布2024-09-01實(shí)施湖北省市場監(jiān)督管理局發(fā)布氧化層膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片校OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification歸口單位：湖北省市場監(jiān)督管理局主要起草單位：中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所武漢大學(xué)本規(guī)范主要起草人：羅錦暉（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）薄濤（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）熊瑊（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）梁康（武漢大學(xué)）張騁（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）沈威（武漢大學(xué)）丁超（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）鄭鋒（中國船舶集團(tuán)有限公司第七〇九研究所）I （II） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （3） （3） （4） （5） （6）1凡是注日期的引用文件，僅注日期的版本適用于本規(guī)范；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用本規(guī)范。3術(shù)語和計(jì)量單位3.1膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片filmthicknessstandardsample3.2標(biāo)準(zhǔn)樣片standardsample3.3薄膜厚度filmthickness由基底表面和生長層薄膜表面所確定的厚度量值。生長層薄膜基底薄膜厚度(d)膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片（以下簡稱標(biāo)準(zhǔn)樣片）是針對集成電路工藝參標(biāo)準(zhǔn)樣片是具備一個(gè)或多個(gè)典型值的專用標(biāo)準(zhǔn)樣品，通25.1標(biāo)準(zhǔn)樣片厚度的測量范圍5.2標(biāo)準(zhǔn)樣片的厚度標(biāo)稱值厚度標(biāo)稱值最大允許誤差±1nm20nm±1nm±2nm±3nm200nm±6nm±15nm±30nm注：標(biāo)準(zhǔn)樣片的標(biāo)準(zhǔn)值和測量不確定度以最終校準(zhǔn)結(jié)果賦值為準(zhǔn)。5.3標(biāo)準(zhǔn)樣片應(yīng)具備的參數(shù)及性能要求注：以上技術(shù)指標(biāo)不做合格性判別，僅提供參考。6.2校準(zhǔn)用設(shè)備校準(zhǔn)用設(shè)備應(yīng)經(jīng)過法定計(jì)量技術(shù)機(jī)構(gòu)檢定或校準(zhǔn)，滿足2)測角儀：掃描方式為θ/2θ,角度重現(xiàn)性為±0.0001°。7校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法7.1校準(zhǔn)項(xiàng)目37.2校準(zhǔn)方法a)采用如圖2所示方式將標(biāo)準(zhǔn)樣片安放在X射測量標(biāo)準(zhǔn)樣片時(shí)，光源發(fā)出出射光以一定入射角度打在被測樣片表面上發(fā)生反射光源8校準(zhǔn)結(jié)果的處理4l)如果與校準(zhǔn)結(jié)果的有效性和應(yīng)用有關(guān)時(shí)，應(yīng)對校準(zhǔn)過程中被校對象的設(shè)置和操作復(fù)校時(shí)間間隔可由用戶根據(jù)需要自定。相鄰兩次校準(zhǔn)時(shí)間間隔內(nèi)，被校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)樣片的計(jì)量性能變化應(yīng)在實(shí)際需求允許的范圍內(nèi)。建議復(fù)校時(shí)間間隔為1年。。5校準(zhǔn)記錄參考格式環(huán)境溫度：℃相對濕度：6校準(zhǔn)結(jié)果不確定度評定示例標(biāo)準(zhǔn)樣片校準(zhǔn)的項(xiàng)目為膜厚，需進(jìn)行測量不確定度評定。本附錄以膜厚的10nm及200nm的測量不確定度評定為例，說明膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片校準(zhǔn)的測量不確定度B.2.1測量模型膜厚的校準(zhǔn)采用直接測量的方法，X射線衍射儀以一定角度的致使反射X射線偏振態(tài)改變，根據(jù)反射X射線波長及為標(biāo)準(zhǔn)樣片膜厚δ,見公式：B.2.2測量不確定度來源B.2.3不確定度評定a)X射線衍射儀測量膜厚的誤差引入的不確定度分量uB1：均勻分布，k1=，uB1=3=5.77pmb)X射線衍射儀測量膜厚的重復(fù)性引入的不確定度分量uA1：1234567897c)標(biāo)準(zhǔn)樣片各處膜厚的不均勻性引入的不確定度分量uA2：12345d)標(biāo)準(zhǔn)樣片的穩(wěn)定性引入的不確定度分量uA3：123456B.2.4合成標(biāo)準(zhǔn)不確定度8B.2.5擴(kuò)展不確定度取包含因子k=2，U=k×uc=0.07nmB.3.1測量模型膜厚的校準(zhǔn)采用直接測量的方法，X射線衍射儀以一定角度的致使反射X射線偏振態(tài)改變，根據(jù)反射X射線波長及為標(biāo)準(zhǔn)樣片膜厚δ,見公式:B.3.2測量不確定度來源B.3.3不確定度評定a)X射線衍射儀測量膜厚的誤差引入的不確定度分量uB1：均勻分布，k1=，uB1=3=11.5pmb)X射線衍射儀測量膜厚的重復(fù)性引入的不確定度分量uA1：123456789實(shí)驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)偏差sn(x)=Σ(Σ(xi?x)29c)標(biāo)準(zhǔn)樣片各處膜厚的不均勻性引入的不確定度分