2024年技術(shù)監(jiān)督質(zhì)檢職業(yè)技能考試-無損檢測(cè)技術(shù)資格人員歷年考試高頻考點(diǎn)試題附帶答案

2024年技術(shù)監(jiān)督質(zhì)檢職業(yè)技能考試-無損檢測(cè)技術(shù)資格人員歷年考試高頻考點(diǎn)試題附帶答案（圖片大小可自由調(diào)整）第1卷一.參考題庫(共25題)1.探傷結(jié)束后，為了防止殘留的（）腐蝕被檢表面或影響其使用，必要時(shí)應(yīng)對(duì)其予以清除A、乳化劑B、顯像劑C、滲透劑D、清洗劑2.對(duì)于滲透探傷的表面清理采用噴砂和噴丸方法會(huì)有（）的作用3.影響射線照相影像質(zhì)量因素的膠片襯度相關(guān)因素包括（）A、膠片類型B、顯影處理工藝C、底片黑度D、增感屏類型E、以上都是4.敘述定影液的成分及作用。5.超聲波焊縫探傷時(shí)為缺陷定位儀器時(shí)間掃描線的調(diào)整有哪幾種方法？6.人眼中的視網(wǎng)膜可以比作（）A、照相機(jī)中的底片B、照相機(jī)中的鏡頭C、照相機(jī)中快門D、照相機(jī)中的光圈7.C060的γ衰變常數(shù)約為0.131/年，試計(jì)算它的半衰期8.母材最度＞25～100mm的焊縫，按標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，圓形缺陷的評(píng)定區(qū)尺寸為（）mm。A、10×10B、10×20C、10×30D、以上都不對(duì)9.阻力指數(shù)10.下面哪種缺陷不是鍛造產(chǎn)品中常見的缺陷（）。A、折疊B、疏松C、裂紋D、白點(diǎn)11.下列說法正確的是（）。A、熒光滲透檢測(cè)時(shí)，背景的亮度必須高于要求顯示的熒光亮度B、熒光滲透檢測(cè)時(shí)，背景的亮度必須低于要求顯示的熒光亮度C、熒光滲透檢測(cè)時(shí)，背景的亮度要與熒光亮度形成鮮明的色差D、熒光滲透檢測(cè)時(shí)，某些很淡的背景就是過度乳化和過度清洗的結(jié)果12.關(guān)于滲透探傷中所涉及到的試塊，下面哪種說法是不正確的？（）A、鋁合金淬火試塊又稱A型試塊B、不銹鋼鍍鉻輻射狀裂紋試塊又稱B型試塊C、B型試塊由同一試塊剖開后具有相同大小的兩部分組成D、可用A型試塊進(jìn)行兩種滲透劑的靈敏度對(duì)比試驗(yàn)13.使用磁軛磁化時(shí)，感應(yīng)磁場(chǎng)強(qiáng)度最大的部位是（）A、磁軛的南極和磁軛的北極附近B、磁極中間的區(qū)域C、磁極外側(cè)較遠(yuǎn)區(qū)域14.磁粉探傷所用的磁粉必須具有（）磁導(dǎo)率和（）矯頑力兩個(gè)重要性能15.按JB/T4730.5-2005標(biāo)準(zhǔn)，采用著色滲透檢測(cè)方法時(shí)，由于現(xiàn)場(chǎng)條件所限無法滿足觀察所需要的白光照度要求，可見光照度可適當(dāng)降低，但不得低于500lx。這是指對(duì)下列哪個(gè)位置的要求（）A、工件被檢面處的觀察部位B、容器內(nèi)腔空間處C、被檢測(cè)工件所處的環(huán)境D、整個(gè)被檢工件表面16.射線實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)的性能鑒定內(nèi)容包括（）A、象素和灰度等級(jí)B、空間分辨力和對(duì)比度靈敏度C、對(duì)比度和總的不清晰度D、分辨力和放大倍數(shù)17.施加著色滲透液的方法是（）。A、刷涂B、噴涂C、浸涂D、以上都可以18.下列有關(guān)退磁的敘述（）是正確的A、交流退磁只能退去強(qiáng)磁材料表面的剩磁B、施加退磁場(chǎng)的方法最好與施加磁化磁場(chǎng)的方法相同

C、經(jīng)過磁化的試件一律要退磁D、a和b都對(duì)19.對(duì)同一臺(tái)X射線探傷機(jī)，在使用一定時(shí)間后，其曝光曲線應(yīng)該更新，重新制作，這是因?yàn)椋ǎ〢、X射線管會(huì)老化B、X射線管的真空度降低C、外部電源變化D、無需更新20.線彈性斷裂力學(xué)中，K1C表示（）。A、應(yīng)力強(qiáng)度因子B、斷裂韌性C、材料的屈服強(qiáng)度D、工作應(yīng)力21.用于飛機(jī)現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)的探頭線圈渦流儀，需要擬制提離效應(yīng)嗎？為什么？22.電導(dǎo)率變化一定時(shí)，填充系數(shù)減小，傳感線圈阻抗的變化量將？（）A、減小B、增大C、不變D、以上都有可能23.選擇用于多頻試驗(yàn)的線圈時(shí)（）.A、帶寬是最重要的；B、頻率響應(yīng)不太重要；C、線圈的Q應(yīng)小于1；D、線圈的Q應(yīng)小于電感.24.零件退磁的方法是在逐漸降低磁場(chǎng)強(qiáng)度的同時(shí)不斷（）25.下面說法中正確的是（）A、核材料元件探傷方法中超聲法最好B、根據(jù)檢驗(yàn)對(duì)象和技術(shù)要求選擇方法C、X—光探傷最適用于薄壁管。D、氦檢漏比X光方法好第2卷一.參考題庫(共25題)1.什么是縱向磁化法？主要包括哪幾種磁化方法？2.介質(zhì)的光速與折射角有什么關(guān)系？3.滲透劑的滲透能力，與表面張力和接觸角的余弦成反比。4.主因?qū)Ρ榷戎饕Q于（）。A、工件的厚度差B、射線的質(zhì)C、散射比D、以上都是5.源在外雙壁透照時(shí)焦距越大，有效透照區(qū)越（）6.已知X≥3N?，?200mm處Ф2平底孔回波高為24dB?，?求400mm處Ф4平底孔和800mm處Ф2平底孔回波高各為多少分貝？??7.在進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏期間出現(xiàn)了泄漏，這時(shí)操作人員應(yīng)當(dāng)（）A、對(duì)接收到信號(hào)的大致區(qū)域進(jìn)行標(biāo)記，并繼續(xù)進(jìn)行檢漏；B、關(guān)掉檢漏儀，立即對(duì)被檢系統(tǒng)進(jìn)行放氣，檢修泄漏處再對(duì)修復(fù)處檢漏并繼續(xù)完成檢漏工作；C、再次對(duì)同一地方進(jìn)行檢漏以確定信號(hào)是由泄漏造成的，精確確定和標(biāo)記泄漏的位置，以便進(jìn)行修理。如果需要?jiǎng)t應(yīng)密封泄漏處并繼續(xù)進(jìn)行檢漏；D、將泄漏處敲平以減少以后進(jìn)行大量修理工作，并繼續(xù)進(jìn)行檢漏。8.對(duì)非金屬材料和復(fù)合材料工件進(jìn)行射線照相時(shí)應(yīng)特別注意（）A、黑度B、管電壓C、散射線防護(hù)D、曝光參數(shù)9.已知入射光強(qiáng)200cd/m2，則底片黑度為2.3的區(qū)域透過的光強(qiáng)為：（）A、5cd/m2B、0.56cd/m2C、1cd/m2D、0.1cd/m210.在鑄件超聲檢測(cè)中，檢測(cè)靈敏度根據(jù)一組系列平底孔試塊測(cè)定的距離——波幅曲線進(jìn)行調(diào)節(jié)。11.線圈匝數(shù)加倍會(huì)使（）.A、電感加倍；B、電感減半；C、電感減小3/4；D、電感增加3倍.12.零件在熒光滲透檢驗(yàn)前如不徹底清除表面污物，將有（）影響A、污物堵住缺陷開口使熒光液不能滲入缺陷中B、熒光液與油污作用，降低熒光強(qiáng)度C、缺陷附近的油污存在使熒光滲透液清洗困難D、油污帶進(jìn)滲透槽污染滲透劑E、以上都是13.一般說來，表面張力大的液體，對(duì)固體表面的潤(rùn)濕作用是（）A、強(qiáng)B、潤(rùn)濕C、不潤(rùn)濕D、弱14.粘度對(duì)滲透劑的某些實(shí)際應(yīng)用來說具有顯著的影響，在下列哪一方面粘度是個(gè)重要因素？（）A、污染物的溶解度B、滲透劑的水洗性能C、發(fā)射的熒光強(qiáng)度D、滲入缺陷的速度15.由于缺陷一般為立體狀，為了使照相機(jī)記錄缺陷的偏差降至最低，照像時(shí)必須使缺陷盡量落在（）上16.為檢出高強(qiáng)度鋼螺栓螺紋部分的周向缺陷，磁粉探傷時(shí)一般選擇：線圈法、剩磁法、熒光磁粉、濕法。17.水浸聚焦探頭檢測(cè)工件時(shí)，實(shí)際焦距比理論計(jì)算值大。18.JB/T4730.3－2005《承壓設(shè)備無損檢測(cè)》標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，鋼制承壓設(shè)備對(duì)接焊接接頭超聲檢測(cè)檢測(cè)面曲率半徑R≤W2/4時(shí)，距離－波幅曲線的繪制應(yīng)在與檢測(cè)面曲率相同的對(duì)比試塊上進(jìn)行。19.顯影時(shí)間過長(zhǎng)會(huì)使影象的顆粒度加大，射線照片的（）增高20.透照板厚20mm，加強(qiáng)高3mm的鋼焊縫時(shí)，底片上母材區(qū)黑度為2.5，焊道中心黑度為1.5。如將加強(qiáng)高磨平，仍按同一條件透照，則此時(shí)被檢區(qū)中心與象質(zhì)計(jì)某一直徑的金屬絲相應(yīng)的底片對(duì)比度是加強(qiáng)高磨平前的幾倍？（設(shè)線質(zhì)不因穿透厚度而變化，且試件對(duì)Χ射線的半值層為2mm，黑度D與梯度G在黑度1.2～3.5范圍內(nèi)成正比，焦點(diǎn)尺寸的影響可忽略不計(jì)。所用膠片特性曲線提供數(shù)據(jù)：lgE（D25）=2.02，lgE（D15）=1.76）21.JB/T4730.3-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：超聲波探傷中，大口徑管一般是指外徑（）A、＞10mmB、≥100mmC、＞400mmD、＞600mm22.幾何不清晰度與焦點(diǎn)尺寸和工件厚度成正比，與焦點(diǎn)至工件表面的距離成反比。23.在超聲波探傷中，由于波的干涉現(xiàn)象的存在，使超聲場(chǎng)呈現(xiàn)出（）的聲壓分布。A、十分復(fù)雜B、十分簡(jiǎn)單C、先弱后強(qiáng)、很有規(guī)律D、沒有變化24.采用半圓試塊調(diào)節(jié)焊縫探傷掃描比例時(shí)，如圓弧第一次反射波對(duì)準(zhǔn)時(shí)基刻度2，則以后各次反射波波對(duì)應(yīng)的刻度為（）A、4，6，8，10B、3，5，7，9C、6，10D、以上都不對(duì)25.顯影液中的還原劑通常是（）。A、亞硫酸鈉B、溴化鉀C、米吐爾和對(duì)苯二酚D、以上全不是第3卷一.參考題庫(共25題)1.工程構(gòu)件在運(yùn)行中突然發(fā)生斷裂的事故，斷裂的主要形式是（）。A、低應(yīng)力脆斷B、疲勞斷裂C、應(yīng)力腐蝕D、以上都是2.不同顯示跡痕的區(qū)別是什么？3.有一高頻焊直縫管外徑1500mm，母材厚度22mm，加強(qiáng)高已鏟平，采用中心照相，射源尺寸4mm，請(qǐng)計(jì)算幾何不清晰度？4.使用磁軛法應(yīng)注意哪些事項(xiàng)？5.顯象劑有助于檢出滯留在缺陷內(nèi)滲透液是因?yàn)轱@像劑對(duì)滲透液具有（）。A、滲透作用B、乳化作用C、吸附作用D、去除作用6.薄板可用超聲波以垂直于表面的方向進(jìn)入工件，并觀察下列何者進(jìn)行檢驗(yàn)（）A、前表面反射的幅度B、多次反射模式C、所有的表面反射D、以上都不是7.怎樣辨別一張底片中的像質(zhì)計(jì)靈敏度（）A、在底片上看到一根完整的金屬絲影像時(shí)，則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的B、在焊縫上可以看到金屬絲影像時(shí)，則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的C、底片黑度均勻部位（一般是鄰近焊縫的母材金屬區(qū)）能夠清晰的看到長(zhǎng)度不小于10mm的連續(xù)金屬絲影像時(shí)，則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的D、無論在什么部位，只要能看到一點(diǎn)金屬絲影像，則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的8.下列哪種因素會(huì)對(duì)未經(jīng)顯影的底片有害？（）A、安全燈B、化學(xué)污染C、壓力D、以上都會(huì)9.鐵磁質(zhì)在磁化過程中磁場(chǎng)強(qiáng)度的變化落后于磁感應(yīng)強(qiáng)度變化的現(xiàn)象稱為磁滯現(xiàn)象10.熒光滲透液在紫外線燈照射時(shí)，應(yīng)發(fā)黃綠色或綠色熒光11.受磁場(chǎng)吸引微弱的材料是（）：A、順磁性的B、雙磁性的C、隱磁性的D、抗磁性的12.退磁就是消除材料磁化后的剩余磁場(chǎng)使其達(dá)到無磁狀態(tài)的過程。13.簡(jiǎn)述磁粉探傷方法的工藝過程14.高感光度的X光膠片比低感光度的膠片對(duì)比度（）。A、高B、低C、相同D、以上都不是15.國(guó)家對(duì)放射性工作實(shí)行許可登記制度，許可登記證由（）。A、衛(wèi)生部門和公安部門辦理B、上級(jí)主管部門辦理C、環(huán)保部門辦理D、以上均可16.滲透探傷的優(yōu)點(diǎn)和局限性是什么？17.第二臨界角是（）A、縱波折射角等于90°時(shí)的橫波入射角B、橫波折射角等于90°時(shí)的縱波入射角C、縱波折射角等于90°時(shí)的縱波入射角D、縱波入射角等于90°時(shí)的折射角18.在用直探頭進(jìn)行水浸法探傷時(shí)，探頭至探測(cè)面的水層距離應(yīng)調(diào)節(jié)在使一次與二次界面回波之間至少出現(xiàn)一次（）A、缺陷回波B、遲到回波C、底面回波D、側(cè)面回波19.焊縫的內(nèi)部缺陷有哪些？20.超聲場(chǎng)遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)聲壓隨距離增加單調(diào)減小是由于介質(zhì)衰減的結(jié)果。21.影響射線照相靈敏度的主要因素有哪些？22.試件內(nèi)磁感應(yīng)強(qiáng)度和表面上裂紋的自身高度都一定時(shí)，缺陷寬度越小，漏磁場(chǎng)的強(qiáng)度越小23.由滲透液、乳化劑、去除劑和顯像劑所構(gòu)成的滲透探傷劑，必須采用同一廠家生產(chǎn)的“同族組”產(chǎn)品。同一廠家生產(chǎn)的不同族組的產(chǎn)品也（）混用。24.磁感應(yīng)強(qiáng)度是矢量，它具有（）和（）。其定義為與磁力線方向（）的單位面積上穿過的磁通量。用公式B=ΦB/S表示。式中S：面積；ΦB：磁通25.通常的磁化方法有（）磁化、（）磁向和（）磁化第1卷參考答案一.參考題庫1.參考答案:B2.參考答案:堵塞缺陷，阻止?jié)B透劑滲入3.參考答案:E4.參考答案: 定影液的主要成份及作用如下： 定影劑一硫代硫酸鈉或硫代硫酸銨。與銀離子反應(yīng)，生成可溶于水的絡(luò)合物，從而把鹵化銀從膠片的乳劑層中除去。 保護(hù)劑一亞硫酸鈉。保護(hù)定影劑，防止其在酸性溶液中發(fā)生分解析出硫而失效。 堅(jiān)膜劑一硫酸鋁鉀或硫酸鉻鉀。減少膠片乳劑層吸水膨脹變軟的程度，減少劃傷和藥膜脫落。 酸性劑一模酸和硼酸。中和膠片帶來的堿性物質(zhì)并防止堅(jiān)膜劑水解。5.參考答案: 有水平定位儀、垂直定位、聲程定位三種方法。6.參考答案:A7.參考答案:T=1n2/λ=0.693/0.131=5.3年。即半衰期為5.3年8.參考答案:B9.參考答案: 是分析頻譜多普勒的一個(gè)重要測(cè)量阻力指數(shù)等于收縮期峰值流速減去舒張期峰值流速。10.參考答案:B11.參考答案:B12.參考答案:C13.參考答案:A14.參考答案:高的；低的15.參考答案:A16.參考答案:C17.參考答案:D18.參考答案:D19.參考答案:A20.參考答案:B21.參考答案:需要，檢驗(yàn)時(shí)，這種提離效應(yīng)引起的檢測(cè)線圈阻抗的變化會(huì)產(chǎn)生偽缺陷信號(hào)影響缺陷的檢測(cè)。22.參考答案:C23.參考答案:A24.參考答案:改變磁場(chǎng)的方向25.參考答案:B第2卷參考答案一.參考題庫1.參考答案: 縱向磁化法是指將電流通過環(huán)繞工件的線圈，使工件沿縱長(zhǎng)方向磁化的方法，工件中的磁力線平行于線圈的中心軸線。用于發(fā)現(xiàn)與工件垂直的周向缺陷。 縱向磁化方法包括線圈法、磁軛法、永久磁鐵法。2.參考答案: 光速與折射角之間的關(guān)系：sinθ1/sinθ2=V1/V2式中：θ1-入射角，θ2-折射角，V1-第一介質(zhì)光速，V2-第二介質(zhì)光速3.參考答案:錯(cuò)誤4.參考答案:D5.參考答案:小6.參考答案: 已知：??X1=?200?mm??；X2?=?400?mm?；X3?=?800?mm Ф1?=?2?mm??；Ф2=4?mm??；Ф3?=?2?mm??；[Hf1]=?24dB?求：?[Hf2]?=？?；[Hf3]?=?？ 解：?由于X≥3N 答：400mm處Ф4平底孔回波高24dB和800mm處Ф2平底孔回波高約為0.1?dB?。7.參考答案:C8.參考答案:C9.參考答案:C10.參考答案:正確11.參考答案:D12.參考答案:E13.參考答案:D14.參考答案:D15.參考答案:焦點(diǎn)面16.參考答案:正確17.參考答案:錯(cuò)誤18.參考答案:正確19.參考答案:灰霧度20.參考答案:設(shè)加強(qiáng)高磨平前后底片上焊縫中心與像質(zhì)計(jì)線徑d相應(yīng)的對(duì)比度分別為△D1和△D2，則：△D2/△D1=[-0.434μ2G2σ2d/（1+n2）]/[-0.434μ1G1σ1d/（1+n1）]（1）由題意，μ1=μ2，σ1=σ2≈1，又G?D，即G1=C?D1（1.2≤D≤3.5），G2=C?D2（C-常數(shù)），代入（1）式，得：△D2/△D1=D2（1+n1）/D1（1+n2）（2）又加強(qiáng)高磨平前后，焊縫中心直接透射線強(qiáng)度分別為I1和I2，總透射線強(qiáng)度分別為IP1和IP2，而曝光時(shí)間均為t，則加強(qiáng)高磨平后與磨平前焊縫中心的膠片照射量之比為：E.2/E1=IP2?t/IP1?t=I2（1+n2）/I1（1+n1）（3）因半值層H=2mm，故I1/I2=2n=23/2≈2.83（4），又由膠片特性曲線知ED2.5/ED1.5=102.02-1.76≈1.82=E2/E1（5）將（4），（5）式代入（3）式得：1.82=2.83（1+n2）/（1+n1），（1+n2）/（1+n1）≈0.64，即（1+n1）/（1+n2）=1.56（6）將已知數(shù)D1，D2和（6）式代入（2）式，∴△D2/△D1=D2（1+n1）/D1（1+n2）=（2.5/1.5）x1.56=2.621.參考答案:B22.參考答案:正確23.參考答案:A24.參考答案:C25.參考答案:C第3卷參考答案一.參考題庫1.參考答案:A2.參考答案:相關(guān)顯示跡痕和非相關(guān)顯示跡痕是由某種缺陷或工件結(jié)構(gòu)等原因引起的，由滲透劑回滲形成的滲透檢測(cè)過程中出現(xiàn)重復(fù)性跡痕顯示，而虛假顯示跡痕不是重復(fù)性跡痕顯示。相關(guān)顯示影響工件的使用性能，需要進(jìn)行評(píng)定，而非相關(guān)顯示和虛假顯示都不是由缺陷引起，并不影響工件的使用性能，故不須進(jìn)行評(píng)定。3.參考答案:Ug=FT/D=4x22/（750-22）≈0.12mm4.參考答案: 磁軛法可分為整體磁化和局部磁化。 整體磁化應(yīng)注意： （1）只有磁極截面大于工件截面時(shí)，才能獲得好的探傷效果； （2）應(yīng)盡量避免工件與電磁軛之間的空氣間隙； （3）當(dāng)極間距大于1米時(shí)，工件不能得到必要的磁化； （4）形狀復(fù)雜且較長(zhǎng)的工件，不宜采用整體磁化。 局部磁化應(yīng)注意： （1）有效的磁化范圍； （2）工件上的磁場(chǎng)分布； （3）便攜式電磁軛分固定式與活動(dòng)關(guān)節(jié)式兩種磁極，活動(dòng)關(guān)節(jié)越式，磁阻越大，工件上得到的磁場(chǎng)強(qiáng)度越??； （4）便攜式電磁軛要通過測(cè)量提知力控制探