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2024年技術(shù)監(jiān)督質(zhì)檢職業(yè)技能考試-無損檢測(cè)技術(shù)資格人員歷年考試高頻考點(diǎn)試題附帶答案(圖片大小可自由調(diào)整)第1卷一.參考題庫(共25題)1.探傷結(jié)束后,為了防止殘留的()腐蝕被檢表面或影響其使用,必要時(shí)應(yīng)對(duì)其予以清除A、乳化劑B、顯像劑C、滲透劑D、清洗劑2.對(duì)于滲透探傷的表面清理采用噴砂和噴丸方法會(huì)有()的作用3.影響射線照相影像質(zhì)量因素的膠片襯度相關(guān)因素包括()A、膠片類型B、顯影處理工藝C、底片黑度D、增感屏類型E、以上都是4.敘述定影液的成分及作用。5.超聲波焊縫探傷時(shí)為缺陷定位儀器時(shí)間掃描線的調(diào)整有哪幾種方法?6.人眼中的視網(wǎng)膜可以比作()A、照相機(jī)中的底片B、照相機(jī)中的鏡頭C、照相機(jī)中快門D、照相機(jī)中的光圈7.C060的γ衰變常數(shù)約為0.131/年,試計(jì)算它的半衰期8.母材最度>25~100mm的焊縫,按標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,圓形缺陷的評(píng)定區(qū)尺寸為()mm。A、10×10B、10×20C、10×30D、以上都不對(duì)9.阻力指數(shù)10.下面哪種缺陷不是鍛造產(chǎn)品中常見的缺陷()。A、折疊B、疏松C、裂紋D、白點(diǎn)11.下列說法正確的是()。A、熒光滲透檢測(cè)時(shí),背景的亮度必須高于要求顯示的熒光亮度B、熒光滲透檢測(cè)時(shí),背景的亮度必須低于要求顯示的熒光亮度C、熒光滲透檢測(cè)時(shí),背景的亮度要與熒光亮度形成鮮明的色差D、熒光滲透檢測(cè)時(shí),某些很淡的背景就是過度乳化和過度清洗的結(jié)果12.關(guān)于滲透探傷中所涉及到的試塊,下面哪種說法是不正確的?()A、鋁合金淬火試塊又稱A型試塊B、不銹鋼鍍鉻輻射狀裂紋試塊又稱B型試塊C、B型試塊由同一試塊剖開后具有相同大小的兩部分組成D、可用A型試塊進(jìn)行兩種滲透劑的靈敏度對(duì)比試驗(yàn)13.使用磁軛磁化時(shí),感應(yīng)磁場(chǎng)強(qiáng)度最大的部位是()A、磁軛的南極和磁軛的北極附近B、磁極中間的區(qū)域C、磁極外側(cè)較遠(yuǎn)區(qū)域14.磁粉探傷所用的磁粉必須具有()磁導(dǎo)率和()矯頑力兩個(gè)重要性能15.按JB/T4730.5-2005標(biāo)準(zhǔn),采用著色滲透檢測(cè)方法時(shí),由于現(xiàn)場(chǎng)條件所限無法滿足觀察所需要的白光照度要求,可見光照度可適當(dāng)降低,但不得低于500lx。這是指對(duì)下列哪個(gè)位置的要求()A、工件被檢面處的觀察部位B、容器內(nèi)腔空間處C、被檢測(cè)工件所處的環(huán)境D、整個(gè)被檢工件表面16.射線實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)的性能鑒定內(nèi)容包括()A、象素和灰度等級(jí)B、空間分辨力和對(duì)比度靈敏度C、對(duì)比度和總的不清晰度D、分辨力和放大倍數(shù)17.施加著色滲透液的方法是()。A、刷涂B、噴涂C、浸涂D、以上都可以18.下列有關(guān)退磁的敘述()是正確的A、交流退磁只能退去強(qiáng)磁材料表面的剩磁B、施加退磁場(chǎng)的方法最好與施加磁化磁場(chǎng)的方法相同
C、經(jīng)過磁化的試件一律要退磁D、a和b都對(duì)19.對(duì)同一臺(tái)X射線探傷機(jī),在使用一定時(shí)間后,其曝光曲線應(yīng)該更新,重新制作,這是因?yàn)椋ǎ〢、X射線管會(huì)老化B、X射線管的真空度降低C、外部電源變化D、無需更新20.線彈性斷裂力學(xué)中,K1C表示()。A、應(yīng)力強(qiáng)度因子B、斷裂韌性C、材料的屈服強(qiáng)度D、工作應(yīng)力21.用于飛機(jī)現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)的探頭線圈渦流儀,需要擬制提離效應(yīng)嗎?為什么?22.電導(dǎo)率變化一定時(shí),填充系數(shù)減小,傳感線圈阻抗的變化量將?()A、減小B、增大C、不變D、以上都有可能23.選擇用于多頻試驗(yàn)的線圈時(shí)().A、帶寬是最重要的;B、頻率響應(yīng)不太重要;C、線圈的Q應(yīng)小于1;D、線圈的Q應(yīng)小于電感.24.零件退磁的方法是在逐漸降低磁場(chǎng)強(qiáng)度的同時(shí)不斷()25.下面說法中正確的是()A、核材料元件探傷方法中超聲法最好B、根據(jù)檢驗(yàn)對(duì)象和技術(shù)要求選擇方法C、X—光探傷最適用于薄壁管。D、氦檢漏比X光方法好第2卷一.參考題庫(共25題)1.什么是縱向磁化法?主要包括哪幾種磁化方法?2.介質(zhì)的光速與折射角有什么關(guān)系?3.滲透劑的滲透能力,與表面張力和接觸角的余弦成反比。4.主因?qū)Ρ榷戎饕Q于()。A、工件的厚度差B、射線的質(zhì)C、散射比D、以上都是5.源在外雙壁透照時(shí)焦距越大,有效透照區(qū)越()6.已知X≥3N?,?200mm處Ф2平底孔回波高為24dB?,?求400mm處Ф4平底孔和800mm處Ф2平底孔回波高各為多少分貝???7.在進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏期間出現(xiàn)了泄漏,這時(shí)操作人員應(yīng)當(dāng)()A、對(duì)接收到信號(hào)的大致區(qū)域進(jìn)行標(biāo)記,并繼續(xù)進(jìn)行檢漏;B、關(guān)掉檢漏儀,立即對(duì)被檢系統(tǒng)進(jìn)行放氣,檢修泄漏處再對(duì)修復(fù)處檢漏并繼續(xù)完成檢漏工作;C、再次對(duì)同一地方進(jìn)行檢漏以確定信號(hào)是由泄漏造成的,精確確定和標(biāo)記泄漏的位置,以便進(jìn)行修理。如果需要?jiǎng)t應(yīng)密封泄漏處并繼續(xù)進(jìn)行檢漏;D、將泄漏處敲平以減少以后進(jìn)行大量修理工作,并繼續(xù)進(jìn)行檢漏。8.對(duì)非金屬材料和復(fù)合材料工件進(jìn)行射線照相時(shí)應(yīng)特別注意()A、黑度B、管電壓C、散射線防護(hù)D、曝光參數(shù)9.已知入射光強(qiáng)200cd/m2,則底片黑度為2.3的區(qū)域透過的光強(qiáng)為:()A、5cd/m2B、0.56cd/m2C、1cd/m2D、0.1cd/m210.在鑄件超聲檢測(cè)中,檢測(cè)靈敏度根據(jù)一組系列平底孔試塊測(cè)定的距離——波幅曲線進(jìn)行調(diào)節(jié)。11.線圈匝數(shù)加倍會(huì)使().A、電感加倍;B、電感減半;C、電感減小3/4;D、電感增加3倍.12.零件在熒光滲透檢驗(yàn)前如不徹底清除表面污物,將有()影響A、污物堵住缺陷開口使熒光液不能滲入缺陷中B、熒光液與油污作用,降低熒光強(qiáng)度C、缺陷附近的油污存在使熒光滲透液清洗困難D、油污帶進(jìn)滲透槽污染滲透劑E、以上都是13.一般說來,表面張力大的液體,對(duì)固體表面的潤(rùn)濕作用是()A、強(qiáng)B、潤(rùn)濕C、不潤(rùn)濕D、弱14.粘度對(duì)滲透劑的某些實(shí)際應(yīng)用來說具有顯著的影響,在下列哪一方面粘度是個(gè)重要因素?()A、污染物的溶解度B、滲透劑的水洗性能C、發(fā)射的熒光強(qiáng)度D、滲入缺陷的速度15.由于缺陷一般為立體狀,為了使照相機(jī)記錄缺陷的偏差降至最低,照像時(shí)必須使缺陷盡量落在()上16.為檢出高強(qiáng)度鋼螺栓螺紋部分的周向缺陷,磁粉探傷時(shí)一般選擇:線圈法、剩磁法、熒光磁粉、濕法。17.水浸聚焦探頭檢測(cè)工件時(shí),實(shí)際焦距比理論計(jì)算值大。18.JB/T4730.3-2005《承壓設(shè)備無損檢測(cè)》標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,鋼制承壓設(shè)備對(duì)接焊接接頭超聲檢測(cè)檢測(cè)面曲率半徑R≤W2/4時(shí),距離-波幅曲線的繪制應(yīng)在與檢測(cè)面曲率相同的對(duì)比試塊上進(jìn)行。19.顯影時(shí)間過長(zhǎng)會(huì)使影象的顆粒度加大,射線照片的()增高20.透照板厚20mm,加強(qiáng)高3mm的鋼焊縫時(shí),底片上母材區(qū)黑度為2.5,焊道中心黑度為1.5。如將加強(qiáng)高磨平,仍按同一條件透照,則此時(shí)被檢區(qū)中心與象質(zhì)計(jì)某一直徑的金屬絲相應(yīng)的底片對(duì)比度是加強(qiáng)高磨平前的幾倍?(設(shè)線質(zhì)不因穿透厚度而變化,且試件對(duì)Χ射線的半值層為2mm,黑度D與梯度G在黑度1.2~3.5范圍內(nèi)成正比,焦點(diǎn)尺寸的影響可忽略不計(jì)。所用膠片特性曲線提供數(shù)據(jù):lgE(D25)=2.02,lgE(D15)=1.76)21.JB/T4730.3-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:超聲波探傷中,大口徑管一般是指外徑()A、>10mmB、≥100mmC、>400mmD、>600mm22.幾何不清晰度與焦點(diǎn)尺寸和工件厚度成正比,與焦點(diǎn)至工件表面的距離成反比。23.在超聲波探傷中,由于波的干涉現(xiàn)象的存在,使超聲場(chǎng)呈現(xiàn)出()的聲壓分布。A、十分復(fù)雜B、十分簡(jiǎn)單C、先弱后強(qiáng)、很有規(guī)律D、沒有變化24.采用半圓試塊調(diào)節(jié)焊縫探傷掃描比例時(shí),如圓弧第一次反射波對(duì)準(zhǔn)時(shí)基刻度2,則以后各次反射波波對(duì)應(yīng)的刻度為()A、4,6,8,10B、3,5,7,9C、6,10D、以上都不對(duì)25.顯影液中的還原劑通常是()。A、亞硫酸鈉B、溴化鉀C、米吐爾和對(duì)苯二酚D、以上全不是第3卷一.參考題庫(共25題)1.工程構(gòu)件在運(yùn)行中突然發(fā)生斷裂的事故,斷裂的主要形式是()。A、低應(yīng)力脆斷B、疲勞斷裂C、應(yīng)力腐蝕D、以上都是2.不同顯示跡痕的區(qū)別是什么?3.有一高頻焊直縫管外徑1500mm,母材厚度22mm,加強(qiáng)高已鏟平,采用中心照相,射源尺寸4mm,請(qǐng)計(jì)算幾何不清晰度?4.使用磁軛法應(yīng)注意哪些事項(xiàng)?5.顯象劑有助于檢出滯留在缺陷內(nèi)滲透液是因?yàn)轱@像劑對(duì)滲透液具有()。A、滲透作用B、乳化作用C、吸附作用D、去除作用6.薄板可用超聲波以垂直于表面的方向進(jìn)入工件,并觀察下列何者進(jìn)行檢驗(yàn)()A、前表面反射的幅度B、多次反射模式C、所有的表面反射D、以上都不是7.怎樣辨別一張底片中的像質(zhì)計(jì)靈敏度()A、在底片上看到一根完整的金屬絲影像時(shí),則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的B、在焊縫上可以看到金屬絲影像時(shí),則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的C、底片黑度均勻部位(一般是鄰近焊縫的母材金屬區(qū))能夠清晰的看到長(zhǎng)度不小于10mm的連續(xù)金屬絲影像時(shí),則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的D、無論在什么部位,只要能看到一點(diǎn)金屬絲影像,則認(rèn)為此金屬絲是可識(shí)別的8.下列哪種因素會(huì)對(duì)未經(jīng)顯影的底片有害?()A、安全燈B、化學(xué)污染C、壓力D、以上都會(huì)9.鐵磁質(zhì)在磁化過程中磁場(chǎng)強(qiáng)度的變化落后于磁感應(yīng)強(qiáng)度變化的現(xiàn)象稱為磁滯現(xiàn)象10.熒光滲透液在紫外線燈照射時(shí),應(yīng)發(fā)黃綠色或綠色熒光11.受磁場(chǎng)吸引微弱的材料是():A、順磁性的B、雙磁性的C、隱磁性的D、抗磁性的12.退磁就是消除材料磁化后的剩余磁場(chǎng)使其達(dá)到無磁狀態(tài)的過程。13.簡(jiǎn)述磁粉探傷方法的工藝過程14.高感光度的X光膠片比低感光度的膠片對(duì)比度()。A、高B、低C、相同D、以上都不是15.國(guó)家對(duì)放射性工作實(shí)行許可登記制度,許可登記證由()。A、衛(wèi)生部門和公安部門辦理B、上級(jí)主管部門辦理C、環(huán)保部門辦理D、以上均可16.滲透探傷的優(yōu)點(diǎn)和局限性是什么?17.第二臨界角是()A、縱波折射角等于90°時(shí)的橫波入射角B、橫波折射角等于90°時(shí)的縱波入射角C、縱波折射角等于90°時(shí)的縱波入射角D、縱波入射角等于90°時(shí)的折射角18.在用直探頭進(jìn)行水浸法探傷時(shí),探頭至探測(cè)面的水層距離應(yīng)調(diào)節(jié)在使一次與二次界面回波之間至少出現(xiàn)一次()A、缺陷回波B、遲到回波C、底面回波D、側(cè)面回波19.焊縫的內(nèi)部缺陷有哪些?20.超聲場(chǎng)遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)聲壓隨距離增加單調(diào)減小是由于介質(zhì)衰減的結(jié)果。21.影響射線照相靈敏度的主要因素有哪些?22.試件內(nèi)磁感應(yīng)強(qiáng)度和表面上裂紋的自身高度都一定時(shí),缺陷寬度越小,漏磁場(chǎng)的強(qiáng)度越小23.由滲透液、乳化劑、去除劑和顯像劑所構(gòu)成的滲透探傷劑,必須采用同一廠家生產(chǎn)的“同族組”產(chǎn)品。同一廠家生產(chǎn)的不同族組的產(chǎn)品也()混用。24.磁感應(yīng)強(qiáng)度是矢量,它具有()和()。其定義為與磁力線方向()的單位面積上穿過的磁通量。用公式B=ΦB/S表示。式中S:面積;ΦB:磁通25.通常的磁化方法有()磁化、()磁向和()磁化第1卷參考答案一.參考題庫1.參考答案:B2.參考答案:堵塞缺陷,阻止?jié)B透劑滲入3.參考答案:E4.參考答案: 定影液的主要成份及作用如下: 定影劑一硫代硫酸鈉或硫代硫酸銨。與銀離子反應(yīng),生成可溶于水的絡(luò)合物,從而把鹵化銀從膠片的乳劑層中除去。 保護(hù)劑一亞硫酸鈉。保護(hù)定影劑,防止其在酸性溶液中發(fā)生分解析出硫而失效。 堅(jiān)膜劑一硫酸鋁鉀或硫酸鉻鉀。減少膠片乳劑層吸水膨脹變軟的程度,減少劃傷和藥膜脫落。 酸性劑一模酸和硼酸。中和膠片帶來的堿性物質(zhì)并防止堅(jiān)膜劑水解。5.參考答案: 有水平定位儀、垂直定位、聲程定位三種方法。6.參考答案:A7.參考答案:T=1n2/λ=0.693/0.131=5.3年。即半衰期為5.3年8.參考答案:B9.參考答案: 是分析頻譜多普勒的一個(gè)重要測(cè)量阻力指數(shù)等于收縮期峰值流速減去舒張期峰值流速。10.參考答案:B11.參考答案:B12.參考答案:C13.參考答案:A14.參考答案:高的;低的15.參考答案:A16.參考答案:C17.參考答案:D18.參考答案:D19.參考答案:A20.參考答案:B21.參考答案:需要,檢驗(yàn)時(shí),這種提離效應(yīng)引起的檢測(cè)線圈阻抗的變化會(huì)產(chǎn)生偽缺陷信號(hào)影響缺陷的檢測(cè)。22.參考答案:C23.參考答案:A24.參考答案:改變磁場(chǎng)的方向25.參考答案:B第2卷參考答案一.參考題庫1.參考答案: 縱向磁化法是指將電流通過環(huán)繞工件的線圈,使工件沿縱長(zhǎng)方向磁化的方法,工件中的磁力線平行于線圈的中心軸線。用于發(fā)現(xiàn)與工件垂直的周向缺陷。 縱向磁化方法包括線圈法、磁軛法、永久磁鐵法。2.參考答案: 光速與折射角之間的關(guān)系:sinθ1/sinθ2=V1/V2式中:θ1-入射角,θ2-折射角,V1-第一介質(zhì)光速,V2-第二介質(zhì)光速3.參考答案:錯(cuò)誤4.參考答案:D5.參考答案:小6.參考答案: 已知:??X1=?200?mm??;X2?=?400?mm?;X3?=?800?mm Ф1?=?2?mm??;Ф2=4?mm??;Ф3?=?2?mm??;[Hf1]=?24dB?求:?[Hf2]?=??;[Hf3]?=?? 解:?由于X≥3N 答:400mm處Ф4平底孔回波高24dB和800mm處Ф2平底孔回波高約為0.1?dB?。7.參考答案:C8.參考答案:C9.參考答案:C10.參考答案:正確11.參考答案:D12.參考答案:E13.參考答案:D14.參考答案:D15.參考答案:焦點(diǎn)面16.參考答案:正確17.參考答案:錯(cuò)誤18.參考答案:正確19.參考答案:灰霧度20.參考答案:設(shè)加強(qiáng)高磨平前后底片上焊縫中心與像質(zhì)計(jì)線徑d相應(yīng)的對(duì)比度分別為△D1和△D2,則:△D2/△D1=[-0.434μ2G2σ2d/(1+n2)]/[-0.434μ1G1σ1d/(1+n1)](1)由題意,μ1=μ2,σ1=σ2≈1,又G?D,即G1=C?D1(1.2≤D≤3.5),G2=C?D2(C-常數(shù)),代入(1)式,得:△D2/△D1=D2(1+n1)/D1(1+n2)(2)又加強(qiáng)高磨平前后,焊縫中心直接透射線強(qiáng)度分別為I1和I2,總透射線強(qiáng)度分別為IP1和IP2,而曝光時(shí)間均為t,則加強(qiáng)高磨平后與磨平前焊縫中心的膠片照射量之比為:E.2/E1=IP2?t/IP1?t=I2(1+n2)/I1(1+n1)(3)因半值層H=2mm,故I1/I2=2n=23/2≈2.83(4),又由膠片特性曲線知ED2.5/ED1.5=102.02-1.76≈1.82=E2/E1(5)將(4),(5)式代入(3)式得:1.82=2.83(1+n2)/(1+n1),(1+n2)/(1+n1)≈0.64,即(1+n1)/(1+n2)=1.56(6)將已知數(shù)D1,D2和(6)式代入(2)式,∴△D2/△D1=D2(1+n1)/D1(1+n2)=(2.5/1.5)x1.56=2.621.參考答案:B22.參考答案:正確23.參考答案:A24.參考答案:C25.參考答案:C第3卷參考答案一.參考題庫1.參考答案:A2.參考答案:相關(guān)顯示跡痕和非相關(guān)顯示跡痕是由某種缺陷或工件結(jié)構(gòu)等原因引起的,由滲透劑回滲形成的滲透檢測(cè)過程中出現(xiàn)重復(fù)性跡痕顯示,而虛假顯示跡痕不是重復(fù)性跡痕顯示。相關(guān)顯示影響工件的使用性能,需要進(jìn)行評(píng)定,而非相關(guān)顯示和虛假顯示都不是由缺陷引起,并不影響工件的使用性能,故不須進(jìn)行評(píng)定。3.參考答案:Ug=FT/D=4x22/(750-22)≈0.12mm4.參考答案: 磁軛法可分為整體磁化和局部磁化。 整體磁化應(yīng)注意: (1)只有磁極截面大于工件截面時(shí),才能獲得好的探傷效果; (2)應(yīng)盡量避免工件與電磁軛之間的空氣間隙; (3)當(dāng)極間距大于1米時(shí),工件不能得到必要的磁化; (4)形狀復(fù)雜且較長(zhǎng)的工件,不宜采用整體磁化。 局部磁化應(yīng)注意: (1)有效的磁化范圍; (2)工件上的磁場(chǎng)分布; (3)便攜式電磁軛分固定式與活動(dòng)關(guān)節(jié)式兩種磁極,活動(dòng)關(guān)節(jié)越式,磁阻越大,工件上得到的磁場(chǎng)強(qiáng)度越??; (4)便攜式電磁軛要通過測(cè)量提知力控制探
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