YS/T 1024-2015濺射用鉭靶材

ICS7715099

H63..

中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

YS/T1024—2015

濺射用鉭靶材

Tantalumsputteringtargets

2015-04-30發(fā)布2015-10-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T1024—2015

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司有研億金新材料有限公司寧波江豐電子材料股份

:、、

有限公司西安方科新材料科技有限公司

、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人鐘景明李桂鵬汪凱李兆博姚力軍熊曉東王莉宿康寧王小青杜鐵路

:、、、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T1024—2015

濺射用鉭靶材

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用以制備薄膜的濺射用鉭靶材的要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存

、、、、、、

質(zhì)量證明書(shū)和訂貨單或合同內(nèi)容

()。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于以真空電子束熔煉的高純鉭錠為原料通過(guò)塑性加工熱處理機(jī)械加工焊接等方法

,、、、

制造的濺射用鉭靶材以下簡(jiǎn)稱鉭靶材

()。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

一般公差未注公差的線性和角度尺寸的公差

GB/T1804

金屬材料維氏硬度試驗(yàn)第部分試驗(yàn)方法

GB/T4340.11:

金屬平均晶粒度測(cè)定方法

GB/T6394

金屬板材超聲板波探傷方法

GB/T8651

鉭鈮化學(xué)分析方法碳量和硫量的測(cè)定

GB/T15076.8

鉭鈮化學(xué)分析方法鉭中氮量的測(cè)定

GB/T15076.13

鉭鈮化學(xué)分析方法氧量的測(cè)定

GB/T15076.14

鉭鈮化學(xué)分析方法氫量的測(cè)定

GB/T15076.15

無(wú)損檢測(cè)目視檢測(cè)總則

GB/T20967—2007

濺射靶材背板結(jié)合質(zhì)量超聲波檢驗(yàn)方法

YS/T837-

高純鉭化學(xué)分析方法痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定輝光放電質(zhì)譜法

YS/T899

3要求

31產(chǎn)品分類

.

鉭靶材按純度分為三個(gè)級(jí)別

:3N5(99.95%)、4N(99.99%)、4N5(99.995%)。

32化學(xué)成分

.