標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 30653-2014 Ⅲ族氮化物外延片結(jié)晶質(zhì)量測(cè)試方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),主要針對(duì)以GaN為代表的Ⅲ族氮化物材料的外延片結(jié)晶質(zhì)量進(jìn)行評(píng)估。該標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了用于評(píng)價(jià)這些材料結(jié)晶性能的各種測(cè)試方法及其具體操作流程,旨在為行業(yè)內(nèi)提供統(tǒng)一、準(zhǔn)確的質(zhì)量檢測(cè)依據(jù)。
標(biāo)準(zhǔn)中涉及的主要測(cè)試方法包括但不限于X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)觀察、原子力顯微鏡(AFM)表面形貌分析等。其中,XRD技術(shù)被廣泛應(yīng)用于測(cè)定樣品的晶體結(jié)構(gòu)參數(shù),如晶格常數(shù)、位錯(cuò)密度等;SEM則可以直觀地顯示材料表面及斷面微觀結(jié)構(gòu)特征;而AFM則能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)樣品表面納米級(jí)粗糙度的精確測(cè)量。
此外,《GB/T 30653-2014》還特別強(qiáng)調(diào)了實(shí)驗(yàn)條件控制的重要性,比如溫度、濕度等因素對(duì)外延生長(zhǎng)過(guò)程的影響,并給出了相應(yīng)的推薦值或范圍。同時(shí),對(duì)于每種測(cè)試方法的具體實(shí)施步驟、數(shù)據(jù)處理方式以及結(jié)果表示形式都做了明確規(guī)定,確保不同實(shí)驗(yàn)室之間可以獲得可比性強(qiáng)且重復(fù)性好的測(cè)試結(jié)果。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2014-12-31 頒布
- 2015-09-01 實(shí)施



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GB/T 30653-2014Ⅲ族氮化物外延片結(jié)晶質(zhì)量測(cè)試方法-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
ICS7704020
H21..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T30653—2014
Ⅲ族氮化物外延片結(jié)晶質(zhì)量測(cè)試方法
TestmethodforcrystalqualityofⅢ-nitrideepitaxiallayers
2014-12-31發(fā)布2015-09-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T30653—2014
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專利的責(zé)任
。。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人孫寶娟趙麗霞王軍喜曾一平李晉閩
:、、、、。
Ⅰ
GB/T30653—2014
Ⅲ族氮化物外延片結(jié)晶質(zhì)量測(cè)試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用高分辨射線衍射儀測(cè)試族氮化物外延片結(jié)晶質(zhì)量的方法
XⅢ。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于在氧化物襯底等或半導(dǎo)體襯底等上外延生長(zhǎng)的
(Al2O3、ZnO)(GaN、Si、GaAs、SiC)
氮化物單層或多層異質(zhì)外延片結(jié)晶質(zhì)量的測(cè)試其他異質(zhì)外延片結(jié)晶質(zhì)量的測(cè)試也可
(Ga、In、Al)N。
參考本標(biāo)準(zhǔn)
。
2術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
。
21
.
對(duì)稱衍射symmetricdiffraction
入射束和反射束相對(duì)于樣品晶面法線處于對(duì)稱位置入射角與反射角相等時(shí)發(fā)生的衍射
,。
22
.
非對(duì)稱衍射asymmetricdiffraction
若衍射晶面與樣品表面有個(gè)夾角χ入射束和反射束相對(duì)于樣品晶面法線處于非對(duì)稱位置入射角
,,
與反射角不相等時(shí)發(fā)生的衍射
。
23
.
斜對(duì)稱衍射skewdiffraction
入射束和反射束相對(duì)于樣品表面法線處于對(duì)稱位置而衍射晶面相對(duì)于樣品表面有個(gè)傾斜角χ此
,,
時(shí)發(fā)生的衍射為斜對(duì)稱衍射
。
24
.
螺型位錯(cuò)screwdislocation
一個(gè)晶體的某一部分相對(duì)于其余部分發(fā)生滑移原子平面沿著一根軸線盤(pán)旋上升每繞軸線一周
,,,
原子面上升一個(gè)晶面間距在中央軸線處即為一螺型位錯(cuò)
。。
25
.
刃型位錯(cuò)edgedislocation
晶體在切應(yīng)力的作用下一部分相對(duì)于另一部分沿一定的晶面滑移面和晶向滑移方向產(chǎn)生位
,()()
移從而形成多余半原子面也就形成了刃型位錯(cuò)
,,。
26
.
搖擺曲線rockingcurve
把探測(cè)器固定在樣品hkl晶面的θ位置探測(cè)器前不加狹縫試樣在衍射位置附近以θ角度搖
()2B,,Δ
擺衍射強(qiáng)度會(huì)隨著角度而發(fā)生變化記錄得到的衍射強(qiáng)度與ω的關(guān)系曲線
,,。
3符號(hào)
下列符號(hào)適用于本文件
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