標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 12962-2015 硅單晶》相比于《GB/T 12962-2005 硅單晶》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了調(diào)整和更新:
-
術(shù)語和定義:新版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)硅單晶及相關(guān)術(shù)語進(jìn)行了修訂和完善,以更準(zhǔn)確地反映當(dāng)前硅單晶技術(shù)和產(chǎn)品的特點(diǎn)。
-
技術(shù)要求:增加了對(duì)硅單晶的純度、晶體結(jié)構(gòu)、幾何尺寸、表面質(zhì)量等方面更嚴(yán)格或更具體的要求,以適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)材料性能不斷提升的需求。
-
檢測(cè)方法:更新了多項(xiàng)檢測(cè)指標(biāo)的測(cè)試方法,引入了更為先進(jìn)和精確的檢測(cè)手段,確保測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。例如,可能包括對(duì)元素雜質(zhì)含量的分析方法進(jìn)行了優(yōu)化,以及對(duì)晶體缺陷檢測(cè)技術(shù)的改進(jìn)。
-
質(zhì)量分級(jí):對(duì)硅單晶的質(zhì)量等級(jí)劃分進(jìn)行了調(diào)整,可能新增了更高等級(jí)的標(biāo)準(zhǔn),或者對(duì)原有等級(jí)的指標(biāo)要求進(jìn)行了細(xì)化,以更好地滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求。
-
標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和儲(chǔ)存:這部分內(nèi)容也有所更新,提供了更加詳細(xì)的規(guī)定和建議,以確保硅單晶在流通和存儲(chǔ)過程中的品質(zhì)不受損害。
-
規(guī)范性附錄:新標(biāo)準(zhǔn)可能增補(bǔ)或修改了規(guī)范性附錄內(nèi)容,包含了更多參考數(shù)據(jù)、測(cè)試流程圖或具體操作指南,便于使用者理解和執(zhí)行。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-12-10 頒布
- 2017-01-01 實(shí)施




文檔簡(jiǎn)介
ICS29045
H82.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T12962—2015
代替
GB/T12962—2005
硅單晶
Monocrystallinesilicon
2015-12-10發(fā)布2017-01-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
中華人民共和國(guó)
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
硅單晶
GB/T12962—2015
*
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行
北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號(hào)
2(100029)
北京市西城區(qū)三里河北街號(hào)
16(100045)
網(wǎng)址
:
服務(wù)熱線
:400-168-0010
年月第一版
20163
*
書號(hào)
:155066·1-53125
版權(quán)專有侵權(quán)必究
GB/T12962—2015
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替硅單晶本標(biāo)準(zhǔn)與相比主要變化如下
GB/T12962—2005《》。GB/T12962—2005,:
增加了直徑小于或等于直拉硅單晶及要求見
———50.8mm(5.1.1);
增加了直徑區(qū)熔硅單晶及要求見
———200mm(5.1.1);
增加了對(duì)直拉硅單晶的載流子壽命要求見
———(5.2.1);
修訂了型區(qū)熔高阻硅單晶電阻率范圍的要求見
———n(5.2.1);
增加了摻雜比為的中子嬗變摻雜硅單晶的要求見
———F5(5.2.1);
修訂了摻雜比為的中子嬗變摻雜硅單晶的徑向電阻率變化及少數(shù)載流子壽命要求
———F10
見
(5.2.1);
修訂了氣相摻雜區(qū)熔硅單晶的直徑電阻率及少數(shù)載流子壽命等要求見
———、(5.2.1);
金屬含量要求中刪除了重?fù)诫s直拉硅單晶的基硼基磷含量由供需雙方商定提供內(nèi)容見
———“”“、”(
5.8);
取樣由文字描述改為表
———6;
增加了訂貨單內(nèi)容見第章
———(9)。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位有研新材料股份有限公司天津市環(huán)歐半導(dǎo)體材料技術(shù)有限公司浙江中晶科技
:、、
股份有限公司浙江省硅材料質(zhì)量檢驗(yàn)中心杭州海納半導(dǎo)體有限公司萬向硅峰電子股份有限公司浙
、、、、
江金瑞泓科技股份有限公司上海合晶硅材料有限公司中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所廣東
、、、
泰卓光電科技股份有限公司
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人孫燕張果虎張雪囡黃笑容樓春蘭王飛堯朱興萍何良恩徐新華
:、、、、、、、、、
楊素心由佰玲李麗妍
、、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T12962—1991、GB/T12962—1996、GB/T12962—2005。
Ⅰ
GB/T12962—2015
硅單晶
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單晶的牌號(hào)及分類要求檢驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存質(zhì)量證明書
、、、、、、、、
和訂貨單或合同內(nèi)容等
()。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于直拉法懸浮區(qū)熔法包括中子嬗變摻雜和氣相摻雜制備的直徑不大于的
、()200mm
硅單晶產(chǎn)品主要用于制作半導(dǎo)體元器件
。。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類型測(cè)試方法
GB/T1550
硅單晶電阻率測(cè)定方法
GB/T1551
硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測(cè)定光電導(dǎo)衰減法
GB/T1553
硅晶體完整性化學(xué)擇優(yōu)腐蝕檢驗(yàn)方法
GB/T1554
半導(dǎo)體單晶晶向測(cè)定方法
GB/T1555
硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測(cè)量方法
GB/T1557
硅中代位碳原子含量紅外吸收測(cè)量方法
GB/T1558
硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗(yàn)方法
GB/T4058
半導(dǎo)體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻率測(cè)試方法非接觸渦流法
GB/T6616
硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法
GB/T11073—2007
硅單晶拋光片
GB/T12964
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