標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 11068-1989 是一項(xiàng)中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),其全稱為《砷化鎵外延層載流子濃度電容-電壓測(cè)量方法》。這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用電容-電壓(C-V)測(cè)量技術(shù)來(lái)測(cè)定砷化鎵(GaAs)外延層中載流子濃度的方法。下面是對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)主要內(nèi)容的概述:
標(biāo)準(zhǔn)適用范圍
本標(biāo)準(zhǔn)適用于砷化鎵半導(dǎo)體材料,特別是其外延層中的電子和空穴載流子濃度的測(cè)定。外延層是指通過(guò)氣相外延、液相外延或其他類似技術(shù)在基底材料上生長(zhǎng)的單晶薄層。
測(cè)量原理
電容-電壓測(cè)量法基于金屬-絕緣體-半導(dǎo)體(MIS)結(jié)構(gòu)或者金屬-半導(dǎo)體(MS)結(jié)構(gòu)的電容特性。當(dāng)對(duì)這種結(jié)構(gòu)施加不同電壓時(shí),其電容值會(huì)隨之變化,而這一變化與半導(dǎo)體表面附近的載流子濃度密切相關(guān)。通過(guò)分析這些變化,可以推算出半導(dǎo)體材料的載流子濃度。
測(cè)量設(shè)備與條件
- 高精度電容測(cè)量裝置:要求能夠準(zhǔn)確測(cè)量微小的電容變化。
- 電壓源:提供穩(wěn)定且可調(diào)的直流電壓或交流電壓。
- 樣品制備:需要制備具有良好表面狀態(tài)的MIS或MS結(jié)構(gòu)的砷化鎵樣品,包括選擇合適的電極材料和絕緣層(如二氧化硅)。
- 環(huán)境控制:測(cè)量應(yīng)在恒溫、干燥、無(wú)塵的環(huán)境下進(jìn)行,以減少外界因素的干擾。
測(cè)量步驟
- 樣品準(zhǔn)備:確保樣品表面干凈無(wú)污染,電極接觸良好。
- 預(yù)處理:可能包括退火等步驟,以改善電極接觸和消除表面態(tài)影響。
- 電壓掃描:在設(shè)定的溫度下,對(duì)樣品施加逐步變化的電壓,并記錄相應(yīng)的電容值。
- 數(shù)據(jù)分析:利用得到的C-V曲線,通過(guò)理論模型(如庫(kù)侖定律、冪律關(guān)系等)計(jì)算載流子濃度。
數(shù)據(jù)處理與校正
- 需要考慮界面態(tài)、固定電荷等因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,并進(jìn)行相應(yīng)的校正。
- 可能還需要通過(guò)多次測(cè)量和統(tǒng)計(jì)分析來(lái)提高結(jié)果的可靠性和準(zhǔn)確性。
標(biāo)準(zhǔn)的重要性
此標(biāo)準(zhǔn)為砷化鎵半導(dǎo)體材料的質(zhì)量控制、器件設(shè)計(jì)與制造提供了統(tǒng)一的測(cè)試方法,有助于確保不同實(shí)驗(yàn)室間測(cè)量結(jié)果的一致性和可比性,是半導(dǎo)體研究與生產(chǎn)中的重要參考依據(jù)。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 11068-2006
- 1989-03-31 頒布
- 1990-02-01 實(shí)施


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GB/T 11068-1989砷化鎵外延層載流子濃度電容-電壓測(cè)量方法-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
PDC661.868.146*621.317.32/.33H21中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)CB11068-89砷化鏢外延層載流子濃度電容-電壓測(cè)量方法GalliumarsenideepitaxiallayerDeterminationofcarrierconcentration-Voltage-capacitancemethod1989-03-31發(fā)布1990-02-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)砷化鏢外延層載流子濃度電容-電壓測(cè)量方法GB11068-89Galiumarsenideepitaxiallayer-Determinationofcarrierconcentration-Voltage-capacitancemethod主題內(nèi)客與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了砷化緣外延層載流子濃度電容-電壓法的測(cè)量方法、本標(biāo)準(zhǔn)適用于砷化鏢外延層及體材料中載流子濃度的測(cè)量。測(cè)量范圍:1×104~5×10-cm-"。語(yǔ)2.1擊穿電壓當(dāng)反向偏壓增加到某一值時(shí),肖特基結(jié)就失去阻擋作用,反向電流迅速增大時(shí)的電壓值.2.2接觸面積汞探針與試樣表面的有效接觸面積。2.3壘電容半導(dǎo)體內(nèi)垂直于接觸面的空間電荷區(qū)的電容。2.4勢(shì)壘寬度起勢(shì)全作用的空間電荷區(qū)的線性寬度。2.5載流子濃度縱向分布自半導(dǎo)體表面向體內(nèi)垂直方向上載流子濃度與深度的對(duì)應(yīng)關(guān)系方法原理汞探針與砷化家表面接觸形成肖特基勢(shì)壘,當(dāng)反向偏壓增大時(shí),勢(shì)全區(qū)向砷化鏢內(nèi)部擴(kuò)展。用高頻小訊號(hào)測(cè)量某一反向偏壓下的勢(shì)壘電容(F)及由反向偏壓增量“V(V)引起的勢(shì)全電容增量“C(F)。根據(jù)式(1)和式(2)計(jì)算出勢(shì)壘擴(kuò)展深度(X)和其相應(yīng)的載流子濃度(w(X)。一(1°N(X)一·…(2)式中:X-勢(shì)壘擴(kuò)展寬度·mN(X)載流子濃度,c
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